文 | 小C君 · 編譯 | Nina
來源 ：Inews24
CINNO Research 產業資訊， LG顯示（以下LGD）通過產學合作孵化課題支援，聯手延世大學Shim Uyeong（新材料工學科）教授團隊，開發出革新性新面板技術。 研發成果刊登於國際學術期刊Nature Communications。
根據韓媒inews24報導，研究團隊利用柔性透明的新型Photo光罩實現了超精細Pattern，是一種全新的光刻（Photolithography）技術。 此技術可應用至LCD和OLED製程。
圖： 延世大學Shim Uyeong教授
光刻（Photolithography）技術是指半導體和面板製程中，將光刻膠（Photo resist）感光液薄塗於晶圓或玻璃上，然後將繪製Pattern的光罩置於其上，通過照光形成電路的技術。 而此電路的成型，主要取決於稱之為Photo mask的核心部件。
研究團隊為了克服傳統光罩的硬性特徵，開發出柔性、透明的新光罩製程，利用原有曝光設備實現了100分之1水平的數十納米單位超精細Pattern。
超精細Pattern繪製出的電路是面板實現超高像素不可或缺的關鍵。 而柔性材質的光罩，還可應用於曲面基板，將有助於多種形態的面板生產。
論文的共同作者LGD Jang Giseok博士表示： 本次開發出的新光刻技術是一種可以為未來面板技術帶來巨大貢獻的種子（Seeds）技術。
LGD是從2015年起進行面板產業發展『LGD-延世大學孵化器』項目。 是一種企業和高校共同搜集面板技術和產品相關的新概念，並從產業化角度進行企劃、研發、驗證的項目。
延世大學Shim Uyeong教授認為： 此研發成果的主要意義在於，研發出可以克服光折射限制的光刻技術，除了平面以外，也可應用至曲面基板，期待未來可以應用到多樣化形態的元器件製程。
- END -
特別聲明：以上內容(如有圖片或視頻亦包括在內)為自媒體平臺「網易號」用戶上傳並發布，本平臺僅提供信息存儲服務。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.