常用的化學鍍錫工藝介紹

2020-12-04 慧聰網

    慧聰表面處理網:常用的化學鍍錫工藝主要是置換型化學鍍。也有利用歧化反應的化學鍍錫和還原法進行的化學鍍錫,根據基體材料不同而有不同的浸鍍工藝。

    (1)置換型化學浸錫

    ①鋼上浸錫

    硫酸亞錫1.0~2.5g/L

    硫酸5~15g/L

    溫度90~100℃

    時間5~20min

    ②鋁及合金上浸錫

    氯化亞錫30g/L

    硫脲60g/L

    鹽酸50g/L

    次亞磷酸鈉30g/L

    溫度50~60℃

    時間適當

    ③銅及合金上浸錫

    氯化亞錫8~16g/L

    鹽酸10~20ml/L

    硫脲80~90g/L

    溫度50~100℃

    時間根據需要

    (2)還原型化學鍍錫

    氯化亞錫7.5g/L

    檸檬酸鈉100g/L

    EDTA二鈉鹽15g/L

    醋酸鈉10g/L

    三氯化鈦15ml/L

    (30%三氯化鈦溶於24%的鹽酸中,體積比)

    苯磺酸(32%)1ml/L

    pH9.0(用氫氧化氨調整)

    溫度90℃

    (3)歧化反應化學鍍錫

    氯化亞錫35g/L

    氫氧化鉀420g/L

    檸檬酸鉀130g/L

    溫度70℃

    鍍速5.6~9.6μm/h

    由於歧化反應化學鍍錫需要錫層催化反應,因此,可以將鍍件先浸鍍錫,再在這種還原性反應中進行增厚化學鍍錫,可獲得光潔平整的錫鍍層。

責任編輯:侯俊梅

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