慧聰表面處理網:常用的化學鍍錫工藝主要是置換型化學鍍。也有利用歧化反應的化學鍍錫和還原法進行的化學鍍錫,根據基體材料不同而有不同的浸鍍工藝。
(1)置換型化學浸錫
①鋼上浸錫
硫酸亞錫1.0~2.5g/L
硫酸5~15g/L
溫度90~100℃
時間5~20min
②鋁及合金上浸錫
氯化亞錫30g/L
硫脲60g/L
鹽酸50g/L
次亞磷酸鈉30g/L
溫度50~60℃
時間適當
③銅及合金上浸錫
氯化亞錫8~16g/L
鹽酸10~20ml/L
硫脲80~90g/L
溫度50~100℃
時間根據需要
(2)還原型化學鍍錫
氯化亞錫7.5g/L
檸檬酸鈉100g/L
EDTA二鈉鹽15g/L
醋酸鈉10g/L
三氯化鈦15ml/L
(30%三氯化鈦溶於24%的鹽酸中,體積比)
苯磺酸(32%)1ml/L
pH9.0(用氫氧化氨調整)
溫度90℃
(3)歧化反應化學鍍錫
氯化亞錫35g/L
氫氧化鉀420g/L
檸檬酸鉀130g/L
溫度70℃
鍍速5.6~9.6μm/h
由於歧化反應化學鍍錫需要錫層催化反應,因此,可以將鍍件先浸鍍錫,再在這種還原性反應中進行增厚化學鍍錫,可獲得光潔平整的錫鍍層。
責任編輯:侯俊梅
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