ChipInsights:2019年全球光刻機市場分析

2020-11-23 騰訊網

根據芯思想研究院（ChipInsights）的數據表明，2019年全球半導體、面板、LED用光刻機出貨約550臺，較2018年減少50臺。其中半導體前道製造用光刻機出貨約360臺；半導體封裝、面板、LED用光刻機出貨約190臺。

一、前道用光刻機情況

2019年ASML、Nikon、Canon三巨頭半導體用光刻機出貨359臺，較2018年的374臺減少15臺，跌幅為4%。

從EUV、ArFi、ArF機型的出貨來看，全年共出貨154臺。其中ASML出貨130臺，佔有84%的市場，較2018年下降6個百分點。

EUV方面還是ASML獨佔鰲頭，市佔率100%；ArFi方面ASML市佔率高達88%；ArF方面ASML佔有63%的市場份額；KrF方面ASML也是佔據63%的市場份額；在i線方面ASML也拿下了該拿的份額。

從總營收來看，2019年ASML、Nikon、Canon三巨頭光刻機總營收954億元人民幣，較2018年小幅增長。從營收佔比來看，ASML佔據74%的份額。雖然2019年光刻機出貨數量有所下滑，但高端機臺EUV、ArFi、ArF的出貨量增加，也使得總體營收微幅增長。

ASML

2019年ASML光刻機營收達704億元人民幣，較2018年成長9%，增幅明顯收窄（2018年較2017年成長36%）。

2019年ASML共出貨229臺光刻機，較2018年224年增加5臺，增長2.23%。其中EUV光刻機出貨26臺，較2018年增加8臺；ArFi光刻機出貨82臺，較2018年減少4臺；ArF光刻機出貨22臺，較2018年增加6臺；KrF光刻機出貨65臺，較2018年減少13臺；i-line光刻機出貨34臺，較2018年增加8臺。

2019年ASML的EUV光刻機營收達217億元人民幣，較2018年增加70億元人民幣。2019年單臺EUV平均售價超過8億元人民幣，較2018年單臺平均售價增長3%。

值得注意的是，2019年第三季度，ASML開始出貨NXE:3400C，這是最新型的EUV光刻機，吞吐量達175wph（300毫米晶圓）。NXE:3400C目前累計出貨9臺，估算單價接近10億元人民幣。

2019年中國FAB建設高潮，多個FAB搬入設備，其中搬入ASML光刻機的有中芯南方基地、華虹無錫FAB7、粵芯半導體等。

Nikon

2019年，Nikon光刻機業務營收約156億元人民幣，較2018年下滑5.4%。

2019年，Nikon半導體用光刻機出貨46臺，較2018年增加10臺。其中ArFi光刻機出貨11臺，較2018年度增加6臺；ArF光刻機出貨13臺，較2017年度增加4臺；KrF光刻機出貨4臺，較2017年度減少1臺；i-line光刻機出貨18臺，較2017年度增加1臺。

2019年度，Nikon半導體用光刻機出貨46臺中，其中全新機臺出貨28臺，翻新機臺出貨18臺。

Canon

2019年，Canon光刻機營收約為94億元人民幣，較2018年下降21.3%。

2019年，Canon半導體用光刻機出貨達84臺，較2018年出貨量114臺，減少30臺，下滑26.3%；全部i-line、KrF兩個低端機臺出貨。

2019年12月，Canon宣布推出FPA-3030iWa型光刻機，預計2020年2月下旬發售。該機型採用的投影透鏡具有52毫米x52毫米的廣角，NA可從0.16到0.24範圍內可調。新設備可以在2英寸到8英寸之間自由選擇晶圓尺寸的處理系統，方便支持各種化合物半導體晶圓，可運用在預計未來需求增長的汽車功率器件、5G相關的通信器件、IoT相關器件（如MEMS和傳感器等）的製造工藝中。

二、面板、封裝、LED用光刻機情況

Nikon

2019年，Nikon面板（FPD）用光刻機出貨40臺，較2018年減少33臺。2019年，Nikon面板用光刻機雖然出貨減少33臺，但我們也看到其10.5代線用光刻機出貨量增長不錯，從2018年出貨14臺增長到2019年的22臺，爆增60%。

Canon

2019年，Canon面板（FPD）用光刻機出貨50臺，較2018年出貨量69臺，減少19臺，下滑27.5%。

上海微電子SMEE

上海微電子裝備（集團）股份有限公司光刻機主要用於廣泛應用於集成電路前道、先進封裝、FPD、MEMS、LED、功率器件等製造領域，2019年出貨預估在50+臺，和2018年基本持平，主要集中在先進封裝、LED方面，在FPD領域也有出貨。

SUSS

德國SUSS光刻機主要用於半導體集成電路先進封裝、MEMS、LED，2019年光刻機收入約7億元人民幣，和2018年幾乎持平。

VEECO

2017年Veeco收購Ultratech，增加了光刻市場的收入，主要是來自先進封裝和LED領域，銷售客戶包括先進封裝、晶圓製造、LED生產商。2019年公司來自先進封裝和LED用光刻機的營收約為3億元人民幣，預估銷售臺數在20臺以內。

EVG

公司的光刻設備主要應用於先進封裝、面板等行業，當然公司也出售對準儀等。

三、EUV進展

從2018年以來，公司一直在加速EUV技術導入量產；二是實驗以0.55 NA取代目前的0.33 NA，具有更高NA的EUV微影系統能將EUV光源投射到較大角度的晶圓，從而提高解析度，並且實現更小的特徵尺寸。

2019年第三季度，ASML已經出貨EUV新機型NXE:3400C，每小時吞吐量為175片，完全滿足7納米和5納米工藝。

預估2021年將推出0.55 NA的新機型EXE:5000樣機，可用於2納米生產，按照之前的情況推測，真正量產機型出貨可能要等到2024年。當然0.55 NA鏡頭的研發進度也會影響新機型的出貨時間。

2019年ASML全年出貨26臺EUV光刻機，還是因為產能有限所致。

DRAM公司SK海力士在2018年底出在無錫廠搬入了一臺EUV光刻機，表示著EUV已經進入存儲器產線，這將對ASML的未來產量提出更多挑戰。

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    這樣的加工精度決定著光刻機是半導體製造過程中技術含量最高的設備，涉及到從紫外光源、光學鏡頭、精密運動和環境控制等多項世界各國頂級科技成就的運用。光刻機被稱為現代半導體行業皇冠上的明珠，現在單臺 EUV 光刻機配件多達 10 萬個，價格高達 1.2 億美元。當前世界上光刻機市場的老大是荷蘭的阿斯麥 ASML，佔據了全球高端光刻機市場份額的 89%，剩下的被日本的尼康和佳能所瓜分。
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