美國II-VI公司最新推出光通信用980nm半導體泵浦雷射器模塊

2020-11-28 OFweek維科網


　　近日，美國工程材料與光電元件製造商II-VI公司已經推出大功率（1W）980nm泵浦雷射器模塊，該模塊採用公司位於瑞士蘇黎世雷射部內部晶圓廠經過驗證的高可靠雷射二極體技術。

　　II-VI公司雷射部總經理SimonLoten說，「無論是在雷射轉換效率還是總模塊功耗方面，此先進雷射技術提供了世界上最有效的商業化980nm泵浦雷射器。」新型1W泵浦雷射模塊採用一個光柵穩定的單模光纖實現了1050mW無扭結光功率，更容易集成到摻鉺光纖放大器（EDFA）系統。該模塊採用10管腳小蝴蝶格式封裝，並迅速成為新的市場標準，在75%的小體積封裝中提供與傳統14引腳封裝的電氣和機械兼容。該產品完全符合《通信設備用光電子器件可靠性通用要求》（TelcordiaGR-468-CORE）和《關於限制在電子電器設備中使用某些有害成分的指令》（RoHS6/6）。

　　SimonLoten繼續評論道，「在高功率密集波分復用（DWDM）解決方案中，為設計師提供摻鉺光纖放大器新選項以增加每級輸出功率，同時更有效降低網絡擁有總成本。新模塊可以代替低功率舊模塊對，實現具有成本效益、更多熱效率和環保意識設計。與14xxnm和競爭的980nm解決方案相比，在相當低驅動電流和低熱電冷卻器功率下，II-VI泵浦雷射模塊實現了很高功率。」

　　已向客戶提供新的1W雷射模塊樣品，在2015年第3季度將擴大生產。II-VI公司還表示，它已經實現泵浦雷射器模塊銷售超過200萬個裡程碑。建立於上世紀90年代中期的II-VI公司，現在生產的泵浦雷射器模塊是現代DWDM光傳輸系統的關鍵基礎。二十年來，公司已經開發和完善關鍵雷射技術，致力於提高輸出功率、降低功耗、增進可靠性和性能。

　　最初的泵浦雷射模塊產生大約100mW可用光功率。今天泵浦雷射器可在高一個數量級功率下運行，使得摻鉺光纖放大器技術繼續成為帶寬擴展的主幹，並採用更靈活和高效的設計。II-VI公司認為，通過公司在瑞士的晶片設計師和英國的先進封裝團隊之間的連續合作關係，已經實現上述技術進展。

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