(原標題:今年的SEMICON China有哪些看點?奧林巴斯讓你眼前一「亮」!)
今年的《政府工作報告》中明確要求:「加強新型基礎設施建設,發展新一代信息網絡,拓展5G應用,建設數據中心」。而這些項目的發展,離不開半導體行業的支持。2020年6月26日-29日,全球最大的半導體產業盛會SEMICON China 2020在上海新國際博覽中心拉開了帷幕。自1988年首次在上海舉辦以來,SEMICON China已成為中國首要的半導體行業盛事之一,囊括了當今世界上半導體製造領域主要的設備及材料廠商。作為百年光學企業,奧林巴斯攜DSX1000、OLS5000、STM7等多款明星產品亮相本屆展會,向大眾展示了先進的光學產品在半導體行業中的應用及價值。
奧林巴斯展臺
準確測量 快速故障分析
在半導體行業的生產、研發、質檢等多個環節中,晶片針腳焊接的牢固性決定了產品是否合格,而對產品進行快速、精準檢測至關重要。在本次展會上,奧林巴斯DSX1000數碼顯微鏡的出現讓參觀者眼前一亮。相對於傳統光學顯微鏡,奧林巴斯DSX1000數碼顯微鏡可以使用戶更充分地利用顯微鏡系統,更出色地完成檢測工作,是進行故障分析的首選工具。
奧林巴斯DSX 1000數碼顯微鏡
在檢測過程中,用戶常常需要面對多種複雜場景,DSX1000數碼顯微鏡的電動變焦光路結合了先進的觀察功能,可實現明場、暗場、MIX、偏光、斜射、微分幹涉六種觀察方法一鍵式切換及對比度增強,細微之處的缺陷劃痕也可輕鬆觀察。DSX1000數碼顯微鏡還可實現多種樣品的觀察,顯微鏡頭部和載物臺都可以旋轉± 90°,無論是薄樣品還是大型樣品的觀察和分析都更易於實現。同時,DSX1000配備的遠心光學系統使其在整個放大範圍內的圖像失真率極低,實現了有保證的準確度和重複性的高精度測量。
輕鬆實現亞微米級觀測
隨著晶片製程水平的不斷提升,如今晶片已經進入到超精密加工時代,0.35-0.8μm及以下的亞微米級晶片、馬達、傳感器等相關零件成為充氦硬碟驅動器等設備的重要組件。同樣作為出色的測量工具,奧林巴斯LEXT OLS5000 3D測量雷射顯微鏡也一同亮相SEMICON China 2020展會。
為了更好地進行產品生產和品質保證,奧林巴斯LEXT OLS5000 3D測量雷射顯微鏡能夠通過非接觸、非破壞的觀察方式輕鬆實現3D觀察和測量,精確測量亞微米級的形貌和表面粗糙度,在半導體檢測工作中大顯身手。
奧林巴斯LEXT OLS5000 3D測量雷射顯微鏡
在其他性能上,LEXT OLS5000也表現優異。比如在數據採集速度方面,OLS5000的採集速度比上一代加快了四倍;在操作程序方面,用戶僅需按下「Start」按鈕,就能立刻開啟亞微米級的形貌測量;對於需要觀察大型樣品的客戶,LEXT OLS5000的長工作距離物鏡和選配的擴展機架使得其最大可適用210mm高度的樣本,並能夠測量深度達到25毫米的凹坑,助力研究人員觀測更加具有挑戰性的樣品。
精準耐用 滿足各種測量需要
如今,電子設備逐漸向微型化、精密化發展,集成電路(IC)和大規模集成電路(LSI)封裝的印刷電路板(pcb)也隨之需要縮小規模。倒裝晶片鍵合(flip-chip bonding)技術的出現順應了這種現狀。這種技術通過在微晶片上製造小焊點作為連接終端,可將IC晶片直接安裝在印刷電路板上,為了防止PCB鍵合過程中的缺陷和焊後短路,焊接之前必須精確測量焊點的高度。
奧林巴斯的STM7測量顯微鏡
奧林巴斯本次展出的STM7測量顯微鏡是快速準確測量這些焊點的最佳工具之一,其自動對焦功能可快速獲得焊點頂部和底部位置的精確數據。同時,STM7測量顯微鏡能夠以亞微米精度實現對零部件和電氣組件的高性能進行三軸測量,可滿足用戶多種測量需求,如12寸晶圓大範圍測量、Wafer表面測量、表面貼裝測量、晶片封裝測量等。
由於採用了UIS2無限遠校正光學系統,通過STM7測量顯微鏡觀察到的圖像具有高解析度和高對比度,可完全消除像差,確保了對微小細節的高精度測量。同時,其簡單易操作的「實用風格」,可同時滿足新手和的高精度測量需求,為專業測量提供助力。
創新型光學器件為產品提供保障
除了先進工業顯微鏡,奧林巴斯為工業領域的先進應用開發的高品質物鏡也是本次展會的一大亮點。多款物鏡產品可集成到任何光學機械系統,幫助用戶實現包括可見光和近紅外波長、長工作距離、浸沒、蓋玻片校正和白光幹涉儀在內的各種高質量成像和測量應用目標,為產品提供保障。
其中,奧林巴斯MPLAPON平場復消色差系列物鏡,擁有奧林巴斯最高水準的色差校正和高解析度,確保了高水準的像差校正功能,可對應微分幹涉及簡易偏光觀察。MPLFLN半復消色差物鏡則可在較長的工作距離和超高的數值孔徑之間實現平衡的明視野,具有較高的性價比。
MPLAPON平場復消色差系列物鏡
MPLFLN半復消色差物鏡
在本次SEMICON China 2020展會上,觀眾們在感受奧林巴斯工業顯微鏡優異成像性能的同時,更感受到了奧林巴斯在百年探索歷程中沉澱的匠心精神。依託在光學領域累積的先進技術和經驗,奧林巴斯不斷進取開拓,通過研發先進的工業顯微鏡產品為半導體行業的發展貢獻力量。未來,奧林巴斯將繼續密切關注中國半導體行業,為行業的蓬勃發展貢獻更多力量。