XRF螢光光譜儀器是一種無損的,應用廣泛的光譜分析儀器,臺式XRF螢光光譜儀器可分為波長色散和能量色散兩種基本類型。波長色散XRF螢光光譜儀器又有順序型(單道)、同時型(多道)和複合型(單道、多道)之分。
自1987年以來,國內相繼發表了幾篇有關X射線螢光光譜儀的綜述,可就目前常用商品X射線螢光光譜儀的進展、性能及發展趨勢作一簡要評述。
近年來,國外廠家紛紛推出新型X射線螢光光譜儀,這些儀器在性能和軟體方面有許多實質性的進展,其特點是體積小型化,操作自動化和智能化,分析結果準確度提高,測定元素範圍更廣等。X射線螢光光譜儀整體性能的提高取決於各部件性能的改進。下面簡要介紹近年來商品儀器中一些主要部件的改進。
XRF螢光光譜儀器的進展及發展趨勢
XRF螢光光譜儀器發展趨勢
1.一機多用
為了提高工作效率,節省時間,降低分析成本,新一代XRF螢光光譜儀器正朝著一機多用方向發展。如XRF1700,不但可作常規大面積樣品分析,還可在直徑1mm或3mm的微區進行高靈敏度分析。許多大型X螢光光譜儀帶有測定薄膜厚度的軟體,可以同時測量薄膜厚度及分析薄膜成分。
2.小型化、專用化
由於現場分析和專用分析的需要,許多廠家推出了小型可攜式X射線螢光光譜儀。
3,多功能樣品室
在刑偵、海關、商檢、地質和新材料等領域會遇到不同形狀和大小的樣品,而且在分析檢測時不允許破壞樣品,這就需要多功能樣品室。如創想公司生產的EDX-6000螢光光譜儀,其樣品室可測不同形狀的樣品,大如礦石,小如頭髮絲等。
4。高度自動化
新一代的X螢光光譜儀普遍採用大規模集成電路和計算機,在豐富的應用軟體支持下,諧儀操作、參數選擇和數據處理均通過微機和計算機進行;在編好程序的基礎上,能在無人操作的情況下自動對試樣進行分析,因而可以用於在線、現場和流程分析。
XRF螢光光譜儀器隨著分光、探測系統及X光管等的不斷改善和電子計算機的應用,而得到迅速的推廣和發展。可以預料,對新技術、新方法的探索,還會不斷促進XRF螢光光譜儀器的更新發展。