永康旋轉鈮靶材生產廠家

永康旋轉鈮靶材生產廠家

20世紀80年代，以集成電路、信息存儲、液晶顯示器、雷射存儲器、電子控制器為主的電子與信息產業開始進入高速發展時期，技術才從實驗室應用真正進入工業化規模生產應用領域。近10年來，濺射技術更是取得了突飛猛進的發展。相比PVD另一大工藝真空鍍膜，射鍍膜工藝可重複性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，合力強等優點，已成為製備薄膜材料的主要技術。

顯示技術更迭發展，帶來顯示材料機會。預計2022年全球顯示面板整體規模將超1300億美元，LCD面板佔比約70%。中小尺寸OLED滲透率快速提升，大尺寸LCD佔據主流。LCD與OLED在生產過程均會用到偏光片、玻璃基板、靶材、光掩膜版、光刻膠等產品。其中，偏光片市場規模超過1100億，玻璃基板全球市場將達到310億以上，靶材市場有望達到550億以上，光學器件靶材：使用光學鍍膜改變光波傳導特性。光學器件需依靠光學鍍膜形成一層或多層的介電質膜和金屬膜，通過二者組成的膜系來改變光波傳導的特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變，主要用到矽、鈮、二氧化矽、鉭等靶材。光學器件應用範圍非常廣泛。

高純濺射靶材製備的薄膜材料廣泛應用在：集成電路（半導體）、平板顯示器、太陽能電池、信息存儲、光學鍍膜等行業，對靶材基體材料的純度、晶粒取向、穩定性要求較高，壁壘和護城河明顯。全球高端靶材集中度高，國內廠商進口替代提速。濺射鍍膜技術起源於國外，所需要的濺射材料——靶材也起源發展於國外。國外靶材公司，在靶材研發生產方面已有幾十年的積澱。同時，隨著半導體工業技術創新的不斷深化，以美國、日本和德國為代表的半導體廠商加強對上遊原材料的創新力度，從而更大限度地保證半導體產品的技術先進性。當前中國靶材製造商在部分靶材製造工藝上已達到了國際先進水平，產品質量獲得國內外下遊廠商的認可；同時通過在下遊企業工廠附近建廠。靶材價格可能會比國外廠商低10%-15%，替代必要性和戰略意義明顯。

磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件，半導體晶片行業是金屬濺射靶材的主要應用領域之一，也是對靶材的成分、組織和性能要求高的領域。具體來講，半導體晶片的製作過程可分為矽片製造、晶圓製造和晶片封裝等三大環節，其中，在晶圓製造和晶片封裝這兩個環節中都需要用到金屬濺射靶材。隨著不同領域對膜層性能要求的提高，靶材種類越來越多，靶材成分越來越複雜，由純金屬發展為合金，但是有些優質薄膜對應的合金靶材是金屬間化合物，材料很脆，容易開裂，生產和加工困難。如何選擇一種技術難度小，容易生產，成本低，而又能滿足薄膜性能要求的靶材製造方法。據研究報告，2020年全球半導體產值下降了7.34%，僅有3913億美元。IDC預測顯示。80%，而此前預計的小幅增長2%。隨著國外持續蔓延，作為全球半導體產業中心的日韓和日子都不好過。