為了支持IEEE 802.3高速研究集團(HSSG)正在討論制定的100GbE標準，Apogee光子公司目前宣布正在研製一種無製冷CWDM雷射器，該雷射器將可支持100 Gbits/sec甚至更高的速率。
IEEE研究集團目前考慮的產品有兩個方案， 一個方案是採用20Gbps 1310nm外調製雷射器（EML）組成一個5通道 CWDM平臺，另一個是採用25Gbps 1310nm外調製雷射器（EML）組成一個4通道CWDM架構。這種基於CWDM的100G數據鏈路是在現有的、已獲成功商用的LX4 10GbE轉發器的基礎上演變而來的，也與目前剛剛發布的X40 1310-nm CWDM方案（為40G準備的）類似。
Apogee的無製冷20Gbps和25Gbps EML雷射器是在該公司的無製冷10Gbps 1310-nm EML的基礎上發展而來的，該公司宣稱這些雷射器擁有業內最好的mask margin，並可以在-20 ° to 90 ° C範圍內長時間無製冷工作。Apogee表示他們的無製冷10Gbps 1310-nm EML已經被全球各地的頂級OEM和模塊製造商所採用。
而新研製的20Gbps和25Gbps EML雷射器也將支持IEEE 802.3高速研究集團(HSSG)對10公裡鏈路的要求。Apogee表示這些新型EML雷射器將在2007年初出樣，預計在2007年下半年正式商用。