#光刻機#都說中國晶片業最缺的是光刻機，鬧了半天才發現，就算中國買到了光刻機也不夠，中國還缺光刻膠、掩膜版等各種晶片生產材料。
1、近年來，因為華為被M國卡脖子，既買不到晶片，自己研發的晶片又沒人敢代工，後來，大家就開始對光刻機感興趣了，因為大家發現，光刻機是中國最缺的晶片核心設備之一，導致中芯國際無法更早上馬7納米晶片工藝，也無法給華為代工。
2、可是，如今又發現，就算全球最先進的光刻機企業荷蘭阿斯麥公司肯冒風險賣EUV光刻機給中國，中國還有多道難關受制於西方企業，比如光刻膠。
光刻膠是晶片中微細圖形加工的關鍵材料之一，1954 年由明斯克等人首先研究成功。
光刻膠其實與照相機衝洗膠捲的原理一樣，它本身是一種有機化合物，它被紫外光曝光後，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。矽片製造中所用的光刻膠以液態塗在矽片表面，而後被乾燥成膠膜。
3、大家都知道，光刻機是晶片生產中最尖端的核心設備之一，而光刻膠則是晶片製造領域最難生產的耗材。也是光刻機最複雜的耗材，雖然跟相機膠捲的原理大致一樣，但光刻膠的解析度遠遠高於普通膠捲，膠捲一般只能顯示肉眼可見的圖案，而光刻膠的圖案是顯微鏡都難以看清楚的。
4、光刻膠還涉及到專利保護的問題。國內公司即使知道光刻膠的配方和生產工藝，也不能隨便生產，因為會侵犯人家的專利。所以，全球光刻膠行業呈現寡頭壟斷格局，長年被日本、歐美專業公司壟斷。目前前五大廠商佔據了全球光刻膠市場87%的份額，行業集中度較高。其中，日本JSR、東京應化、日本信越與富士電子材料市佔率加和達到72%。而中國在高端光刻膠領域的情況非常糟糕。