中科院研發5納米光刻技術,能突破光刻機壟斷嗎?ASML:痴心妄想

2020-12-16 蘭觀寰宇

現如今,隨著我國改革開放的進行,國家的經濟得到提升,我國在許多領域上都有著顯著的進步與突破。例如我國的科技領域、勘探領域、製造業領域、貿易領域、基建領域等,都讓許多國家為之刮目相看,可見中國發展速度之快了。

眾所周知,晶片對於每個國家的發展而言,都起到了至關重要的作用。而晶片的製作需要光刻機,ASML可謂是壟斷了全球的大部分光刻機。而中國的晶片發展,當然離不開ASML光刻機的幫助,而中國科技實力雖說有所進步,但想要實現「彎道超車」依舊非常困難。

但隨著最近中科院研發的5納米光刻技術曝光,引起了外界的一片沸騰,許多人都認為中國5納米光刻技術,能夠突破ASML光刻機的壟斷,是中國晶片歷史上的重大發展。但事實真的能突破光刻機的壟斷嗎?ASML吐槽說:痴心妄想!

雖然中科院所研發的5納米超高精度雷射光刻加工方法非常先進,但也僅適用於製作光掩膜。目前我國的國內所製作的掩膜版都是中低端的,裝備和材料大多數都來自國外,所以即便這一技術實現了商用化,但想要突破光刻機的壟斷,依然是一件極其困難的事情。

目前並沒有任何一個國家,能夠實現光刻機的自主製造,中國憑藉著一己之力在短時間內,是不可能實現「彎道超車」的。但或許中國在石墨烯上的突破,能夠實現「直道超車」也說不定,相信中國的科研人員,定能給予我們無限的可能。

不得不說,如今中國的發展已經得到了世界各國的認可與支持,這也離不開科研人員的不懈努力。對於這件事情,你是怎麼看待的呢?歡迎在評論區說出你的看法和見解,與小夥伴們一起討論一下吧!

相關焦點

  • 中科院研發者回應5納米光刻技術突破ASML壟斷
    Letters)上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》(5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography)的研究論文,介紹了該團隊研發的新型 5 納米超高精度雷射光刻加工方法。
  • 中科院正式發聲!打破ASML光刻機壟斷是誤讀:到底什麼水平?
    5nm晶片產品,在如今全球晶片市場大爆發的前提下,也有助於提高自己的晶片代工地位以及實力,所以一臺5nm光刻機的重要性不言而喻。其實目前我們也正在布局高端光刻機技術研發,尤其是中科院直接宣布:「布局光刻機,把光刻機,晶片等技術列為科研清單;」 對此很多網友們也非常期待,而在前一段時間,中科院更是直接在其官網刊登了一篇《5nm光刻技術獲突破》的論文,對此也引發了很多網友們的高度關注,甚至不少媒體都在直接認為國產光刻機已經突破5nm工藝節點,直接打破ASML 5nm光刻機壟斷等等,但我們是否真的可以生產出「國產5nm
  • 中科院的入局起作用!ASML正式官宣,就EUV光刻機明確表態
    這足以見證,晶片在製造技術的難度之高。前段時間,華為晶片被「卡脖子」的事情發生,也讓國人開始關注起來了國產半導體產業。想要製造出高端的晶片產品,首先要解決的就是光刻機的供應問題。目前,國內最頂尖的光刻機製造商是上海微電子,預計會在2021年年底前交付首臺國產28nm光刻機。
  • 國產光刻機的悲壯研發路:9年努力,衝破國外技術封鎖
    那時候的光刻機行業格局已經基本定型,ASML壟斷了高端市場,而中低端市場則由ASML,尼康和佳能三家平分。 我國雖然在七十年代也研發過光刻機,一度將與發達國家的技術差距縮小到個位數以內。
  • 中科院發布5nm雷射光刻技術 偷換概念!
    因為荷蘭ASML公司是全球唯一能生產EUV光刻機的公司,他們之前表態7nm以下工藝都需要EUV光刻機才行。現在中科院蘇州納米所的團隊開發了一種不需要使用EUV技術就可以製備出5nm特徵線寬的雷射光刻技術。
  • 荷蘭職員:要不是中科院與尼康的介入,ASML光刻機弊端也不會顯露
    相信很多人會回答各種航天技術或者是運營到軍事方面的一些器械,但實際上,真正最核心的技術,可能就是光刻機了,光刻機至今也僅有部分發達國家持有光刻機的部分技術。頂尖的光刻機是非常難以造出來的,如今全球範圍內可能也只有荷蘭的阿斯麥(ASML)在多個國家的技術支持下能夠生產出來,而中國在意識到光刻機問題後,也積極的入局研發破局,就有荷蘭職員表示:要不是中科院與尼康的介入,ASML光刻機的弊端也不會顯露。
  • 日本光學技術全球第一,為啥造出頂尖光刻機的偏偏是荷蘭ASML?
    眾多網友痛定思痛,一致支持我們國內大力研發光刻機產品,用於組建我們的晶片生產線。光刻機是什麼呢?光刻機號稱是人類最精密複雜的機器,全球能夠生產頂尖光刻機的廠商只有一家,那就是荷蘭的asml,市面上絕大多數的光刻機產品都來自於asml。晶片是怎麼形成的?光刻機是怎麼工作的呢?
  • 光刻機中國能造嗎_為什麼中國生產不了光刻機
    光刻機中國能造嗎_為什麼中國生產不了光刻機 網絡整理 發表於 2020-03-18 10:52:11   光刻機中國能造嗎   光刻機被稱為「人類最精密複雜的機器
  • 中科院研發新型雷射光刻技術:不用EUV 直擊5nm
    荷蘭ASML公司是全球唯一能生產EUV光刻機的公司,他們之前表態7nm以下工藝都需要EUV光刻機才行。現在中科院蘇州納米所的團隊開發了一種新的雷射光刻技術,不需要使用EUV技術就可以製備出5nm特徵線寬。
  • 光刻機從荷蘭開始嗎?不僅是那麼簡單!詳解光刻機發展歷程
    最近,光刻機成了一個熱門的主題,在複雜的國際貿易戰中,業界仍不忘關注他國的光刻機設備。光刻機是通過光學系統將光掩模板上設計好的集成電路圖形印製到矽襯底的感光材料上,最終實現圖形轉移。光刻機因應用程式的不同,會分別用於集成電路的製造環節和封裝環節,但封裝環節的光刻機在技術門檻上會低於用於製造環節的光刻機。
  • 我們離5納米晶片還有多遠,從晶片產業說明光刻機的重要性!
    我們都知道,2020年9月份華為沒法獲得最新的5g晶片,mate40一機難求,就連華為辛苦培養多年的榮耀品牌都要被迫出售!那麼,為什麼我們不能生產自己的5納米晶片,和光刻機?難道舉國之力,就攻克不了光刻機這個最後的堡壘嗎?
  • 中國突破ASML壟斷,可以不用EUV造5nm晶片了?中科院回應
    半年來這則消息被以各種形式和標題刷屏,例如解讀為「突破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」。相關閱讀:《中科院雷射光刻研究獲進展》近日,相關人士不得不進行回應:真不是你們想的那樣。據《財經》報導稱,該論文的通訊作者、中科院研究員、博士生導師劉前公開回應稱,這是一個誤讀,這一技術與極紫外光刻技術是兩回事。
  • 中國已造出22納米光刻機,更為精密的5納米需要多久?
    如今中國用實力打臉西方專家,目前22納米光刻機已經安排上了,這也標誌著中國如今已經成功突破了光刻機這個難關,既然中國現在已經能夠造出22納米的光刻機了,那麼更加精密的5納米光刻機還需要多久呢?看來這一天也已經不久了。
  • ASML光刻機!國產光刻膠龍頭正式宣布,向日本卡脖子技術發起衝擊
    也正是因為製造工藝越來越複雜,自從晶片進入10納米製程以下之後,越來越多的晶片巨頭宣布放棄自己製造,而是交給專業的晶片代工企業幫忙生產,比如中國臺灣的臺積電、韓國的三星電子、美國的格羅方德、中國大陸的中芯國際等等目前全球能量產5納米晶片的只有臺積電一家,三星電子初步掌握了5納米晶片的技術但是達不到量產的水平
  • 中科院闢謠:5nm光刻技術被誤讀,國產水平在180nm
    今年 7月份,中科院發表的一則《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文引起了廣泛的關注。當時,華為正被美國打壓,中國晶片產業成為了國人的心頭憂慮。
  • 清華教授打破ASML雙工作檯技術壟斷!「光刻機第一股」登陸科創板
    在晶片和光刻機受到高度關注之際,中國光刻機核心零部件頂尖供應商、國產光刻機配套設施供貨商華卓精科要衝刺科創板了,6月24日,上交所正式受理了北京華卓精科科技股份有限公司科創板上市申請。公司是國產高端光刻機龍頭企業上海微電子的雙工件臺產品及技術開發的供應商,其光刻機雙工件臺打破了ASML公司在工件臺上的技術壟斷,成為世界上第二家掌握雙工件臺核心技術的公司。
  • 中國光刻機技術沒那麼差!已經超越日本,前方僅剩荷蘭ASML
    對此,有媒體給出讓人振奮的結論,我國在相關領域並不像很多人想像的那麼被動,光刻機固然被歐美壟斷,而且我國在短時間內無法突破,但是實際上,我國在這一領域並不是一無是處,早在新中國成立後不久,我國就在相關行業開始投入資金進行探索,只是由於市場成本等多種原因,最終放棄,未能達到世界頂尖水平。
  • 打破日本技術壟斷,中企巨頭突破晶片材料,關鍵性堪比光刻機
    因為在光刻膠產業有著極大的話語權,所以不少國家都要選擇與日本合作,進購光刻膠。日本長期維持對光刻膠的壟斷,但中國企業傳來好消息,突破了關鍵晶片材料,打破壟斷。
  • 中國這些尖端高科技領先於全世界,中科院又宣布研發光刻機
    而前幾天中科院前腳剛宣布全力以赴攻克「卡脖子」技術,尤其是攻克光刻機技術,全球高端光刻機廠商荷蘭阿斯麥後腳立馬向中國市場示好。前段時間,中國科學院院長白春禮表示,要將美國「卡脖子」的設備清單,轉變成科研任務進行布局。比如航空輪胎,光刻機,軸承鋼,深空,深海技術,高端材料風領域。
  • 國產光刻技術世界一流?中科院研究院闢謠:真實水平僅180nm
    位於我國上海的SMEE已研製出具有自主智慧財產權的投影式中端光刻機,形成產品系列初步實現海內外銷售。正在進行其他各系列產品的研發製作工作。2020年7月,中科院發表了名為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文,由於這一論文發表時期恰好是華為麒麟晶片遭遇美國打壓後的不久,因此短時間內就引起了各界的熱議,畢竟「中國芯」的缺失早已經是壓在諸多國人心上的一塊大石頭。