【12月7日訊】相信大家都知道，自從華為、中興「事件」以後，也讓國內很多網友們對於全球晶片產業鏈布局有了更多的了解，例如華為海思、高通、蘋果等是全球最頂尖的晶片設計公司，而臺積電則是全球最大的晶片代工企業，三星、Intel則是全球實力最強的IDM晶片巨頭，長電科技、華天科技、通富微電等則是全球實力最強的晶片封測企業，但實際上除了晶片設計、晶片製造、晶片封測這三大領域以外，還有很多巨頭企業同樣有著舉足輕重的地位，它就是全球光刻機巨頭—荷蘭ASML，也是全球唯一能夠生產製造EUV光刻機的廠商，確實在整個晶片產業鏈中，就數光刻機設備製造技術含量最高，因為整個光刻機設備中擁有數十萬個零部件產品，並且每一個零部件產品都是科技含量最高、集成度最複雜的零部件產品，例如德國的蔡司半導體（Zeiss SMT）所提供的鏡面—「布拉格反射器」，雖然直徑大小只有30CM，但厚度方面卻是薄的驚人，如果將這個「布拉格反射器」放大成雲南省這麼大，其介質層也只有1毫米厚，如此精密的「布拉格反射器」也被認定為全球最牛、最平滑的鏡面技術；
或許也是因為高端EUV光刻機生產製造難度太高，導致ASML每年都只能夠生產幾十臺EUV光刻機設備，數量十分有限，所以在臺積電、三星、Intel等晶片巨頭哄搶之下，也出現了「供不應求」的局面，其中三星掌門人李在鎔親赴ASML荷蘭總部遊說，就是為了獲得更多的EUV光刻機設備，畢竟擁有更多的EUV光刻機設備，才可以生產製造更多的5nm晶片產品，在如今全球晶片市場大爆發的前提下，也有助於提高自己的晶片代工地位以及實力，所以一臺5nm光刻機的重要性不言而喻。
其實目前我們也正在布局高端光刻機技術研發，尤其是中科院直接宣布：「布局光刻機，把光刻機，晶片等技術列為科研清單；」 對此很多網友們也非常期待，而在前一段時間，中科院更是直接在其官網刊登了一篇《5nm光刻技術獲突破》的論文，對此也引發了很多網友們的高度關注，甚至不少媒體都在直接認為國產光刻機已經突破5nm工藝節點，直接打破ASML 5nm光刻機壟斷等等，但我們是否真的可以生產出「國產5nm光刻機」呢？終於在近日，中科院正式對此做出了回應：「表示這是誤讀」；雖然這項技術並不是高端光刻機所採用的EUV技術，而是被用於製作「光掩模」，在整個晶片光刻製作過程中，也是不可缺少的一部分，
這次中科院正式對外公開發聲，無疑也是消除了很多網友們的誤解，當然5nm超高精度雷射技術只能夠用於製作「光掩模」，也同樣是一件非常值得我們高興的事情，因為在整個晶片產業鏈中，我們也在不斷的攻克一項又一項技術難題，憑藉現在的一點一滴積累，到最後肯定也會厚積薄發，實現更高技術的突破，真正打破壟斷。
對此很多網友們也非常好奇，那我國的光刻機到底處於什麼樣的水準呢？
國內最大的光刻機設備製造商上海微電子已經擁有了90nm製程光刻機，距離頂尖的EUV光刻水準，確實還有很大的技術差距，但最起碼可以確保低端晶片實現「純國產化」，未來國產光刻機設備也是擁有更大的進步空間，因為中科院已經宣布要布局光刻機了，整個國產晶片產業鏈的技術研發都在不斷的加速，小編也堅信正如比亞迪王傳福所言：「晶片是人造的，不是神造的，光刻機也同樣如此。」
最後：各位小夥伴們，你們對此都有什麼樣的看法和意見呢？歡迎在評論區中留言討論，期待你們的精彩評論！
—— 分享新聞，還能獲得積分兌換好禮哦 ——