我國的光刻機技術與國外最先進的相比，差了多少？
有人說，這之間相差了一個太平洋的距離。
這樣說雖然有些誇張，但是卻也是不爭的事實。
國內的光刻機龍頭是上海微電子。
很多人不知道這家公司，但是這家公司卻如同華為與中芯國際一樣，擔負著在自己所在領域突圍的重任。
ASML的euv光刻機已經可以做到3nm製程生產晶片。
但是上海微電子目前量產的還只有90nm的光刻機，雖然也有消息說28nm的機器也已經取得突破了，但是應該還是樣機，到量產還有一段距離的路要走。
這中間隔了65nm，38nm，28nm......5nm,3nm等好幾個世代，五個手指頭都數不過來。
這樣對比看起來，確實上海微電子與ASML的差距不是一般的大，是差了幾個世代，據行業內的專家估計20年的差距是有的。
這麼大的差距是怎麼來的呢？是我們不爭氣嗎？
01
首先，ASML雖然是一家位於荷蘭的公司，但是它的崛起卻是美國扶持的結果。
如果不是美國的扶持，ASML別說要成為光刻機霸主，能否活下去都是一個問題。
那時候，日本尼康才是光刻機行業獨一無二的霸主，美國的一眾光刻機廠商比如SVG、Ultratech被尼康打得落花流水，最後不得不關門。
而那時的ASML只是一家還在溫飽線上掙扎的小工廠，以那時日本製造業的競爭力，如果沒有例外，ASML將來的命運和那些美國光刻機廠商只怕也沒什麼區別。
但是轉機來了。
上世紀90年代末，為了發展下一代光刻機技術EUV，美國幾乎是以舉國之力組建了一個技術聯盟，名叫EUV LLC聯盟。
聯盟中的名字個個如雷貫耳：除了英特爾和牽頭的美國能源部以外，還有摩託羅拉、AMD、IBM，以及能源部下屬三大國家實驗室：勞倫斯利弗莫爾國家實驗室、桑迪亞國家實驗室和勞倫斯伯克利實驗室。
萬事俱備，只欠東風，但是這個聯盟還缺了一家光刻機廠商。
美國本土的光刻機廠商早在日本尼康的競爭下倒閉，最後聯盟將眼光放在了尼康和ASML身上。
而那時正是美國和日本在半導體行業競爭日趨激烈，公開化的時候，尼康被踢出局就絲毫不令人感到意外了。
就這樣ASML被選入局，得到了來自美國的訂單和技術支持。
當然這也是有代價的：ASML要保證產能優先滿足美國本土要求，保證50%以上的零部件從美國採購，接受美國的定期審查等等。
從某個意義上來說，這算得上是賣身條款了。
02
上海微電子在一窮二白的基礎上起步。
2002年，上海微電子（簡稱SMEE)成立，那時候ASML已經成立了將近20年，而日本的尼康和佳能更是成立於上世紀六七十年代。
那時候的光刻機行業格局已經基本定型，ASML壟斷了高端市場，而中低端市場則由ASML，尼康和佳能三家平分。
我國雖然在七十年代也研發過光刻機，一度將與發達國家的技術差距縮小到個位數以內。
但是隨著90年代以聯想為代表的企業提出「貿工技」的理念以來，造不如買的觀念大行其道，處於起步階段國內光刻機研發體系被國外設備廠商衝得七零八落，出現了斷代。
幾乎是一窮二白，沒有人才團隊，沒有技術積累，也沒有配套的供應鏈。
這與美國以舉國之力扶持的ASML相比，起點豈止是差了一點點，簡直就是十萬八千裡。
這也是當時在聽說上海微電子準備造光刻機時，ASML會很輕蔑地說：「給你們中國人圖紙，你們也造不出光刻機。」
即便是這樣，上海微電子還是在成立的第五年，就研發出了在那時候被稱為高端光刻機的90nm光刻機。
這讓中國成為第三個能夠研發90nm光刻機的國家。
那時的ASML在研發的是38nm的光刻機，所以二者相差了只是65nm與45nm兩代。
但是這時，國外的打壓與封鎖來了。
歐美日的聯合封鎖打壓讓國產90nm光刻機成為了擺設
2007年，上海微電子在研發完成了90nm的光刻機樣機後，並且準備量產。
然而我們卻足足用了將近9年時間，才讓它實現量產。
是我們沒能力嗎？不是，而是因為國外對我們的卡脖子。
但是，就在上海微電子的90nm光刻機研發成功的消息傳出來以後，歐美日不約而同地對上海微電子進行了技術封鎖。
光刻機是一臺高端集成的高精度設備，最先進的euv光刻機集成了超過10萬個零部件，可以裝滿40多個貨櫃。
不管是荷蘭還是日本，光刻機都要依賴從國外進口很多關鍵的零部件，比如美國的雷射，德國的鏡頭，法國的閥門，瑞士的軸承。
在這些關鍵零部件被禁止向上海微電子出口之後，上海微電子那臺90nm的光刻機樣機成為了擺設。
不要以為只有上海微電子拿這個沒辦法，假如這發生在荷蘭ASML和日本的尼康佳能身上，它們一樣沒辦法。
03
全國科研單位齊力攻關，8年時間終於讓國產90nm光刻機成功量產。
別人不給賣，那就只能自力更生了。
於是，國內各家科研機構開始齊心協力，努力對關鍵零部件進行攻關。
第一個關鍵零部件，鏡頭曝光系統。擔任這一攻關任務的是長春光機所。
在長春光機所和相關單位的努力下，非球面光學元件投影光刻機曝光光學系統被研製成功。
第二個關鍵零部件，雷射光源。
這一任務難度巨大，因為當時所有的雷射光源廠商都已經被asml收購，只有一家日本公司獨立生產光源。
但即便如此，它也不肯賣給我們。
擔任這一任務的是中科院光電研究院。
在接下光刻機中的Arf準分子雷射光源攻關任務後，中科院光電研究院歷時9年的艱苦努力，終於攻克90nm光刻機雷射光源難題。
另外還有浙江大學攻克光刻機浸液系統，清華大學攻克了配套雙工作檯系統......
齊心協力下，用時9年，國產90nm光刻機終於成功量產。
04
雖然與ASML技術水平相差巨大，但是這卻是第一次有一個國家在不依賴國外技術的前提下，完全憑藉獨立自主生產出了光刻機。
這一點，不僅僅是歐洲做不到，日本做不到，就連世界科技第一強國，美國也沒能做到。
而這一突破帶來的另一好處，就是在國內卻建立了一條獨立自主的零部件供應鏈。
雖然技術上還是有差距，但是這條供應鏈，必定將會在接下來高端光刻機的突圍上繼續建功立業。
最後引用一位偉人曾經說過的一句話，封鎖吧，封鎖個十年八年，中國的什麼問題都解決了。