EUV光刻機有戲了?中國財團攜手國際巨頭,ASML不再是唯一

2020-12-17 科技小伯樂

光刻難題,如鯁在喉

在5G時代,華為是當仁不讓的佼佼者,就連海外科技人士都曾直言,「華為的5G技術設備領先歐美至少3-5年」。

在工業革命爆發以來,美國科技一直位於全球頂端,此次5G被華為反超,心有不甘。為了爭奪5G市場以及維護其科技霸主的地位,便開始針對性的打壓華為。

兩個月前的晶片禁令,讓華為徹底失去了芯來源,要知道,華為的三大千億主營業務均離不開晶片,美國此舉明顯是不給華為留活路。

任正非在接受採訪時表示:「我們的海思可以設計出世界最頂尖的晶片,但國內卻沒有相應的基礎製造工藝。

眾所周知,晶片的生產分為四步,設計、製造、封廠、測試。其中製造環節,必須要用到調整精準度的光刻機。

目前全球最頂尖的光刻廠商是荷蘭的ASML,不管是華為的麒麟9000還是蘋果的A14,採用的都是5nm工藝,均是由荷蘭EUV光刻機製造。因此華為的晶片難題,就是難在最頂尖的EUV光刻機。

荷蘭的ASML雖非美本土企業,但其光刻機的很多零部件都進口自美國,在相關限制政策下,便被要求不能出口給我們最先進的EUV光刻機。

中科院將光刻技術列入科研任務後,國內掀起了晶片浪潮,所有人都期待能早日解開華為的晶片困境。

不過光刻機的製造難度不亞於原子dan,研發需要時日,而晶片困境卻是迫在眉睫,為了解決困境,我們需要不含美國技術的外力。

光刻問題迎來轉機

近日,據日本媒體報導,我國財團已經與日本半導體巨頭達成合作協議。相信很多人對於尼康和佳能都有所耳聞,在光刻領域,這兩家日本企業是曾經的領頭羊,後期的沒落同樣是由於美國的制裁,雖然尼康和佳能現已被ASML超越,但其豐富的光刻製造技術卻完整地保留了下來。

有了中國財團的注,資尼康和佳能或能藉此契機,重回光刻霸主的寶座。因為我國每年在半導體領域的進口額高達3000億美元,只要有技術,完全不用擔心發展的問題。

據日媒透露,尼康和佳能未來將把發展重心放在中國市場,與我國企業共同研發光刻機設備。

這對於我們有著深刻的意義,有了尼康和佳能的技術支持,ASML將不再是唯一的選擇,一旦我們擁有能夠生產高端晶片的光刻機,那麼晶片難題將迎刃而解,美國的晶片禁令屆時將成為一張廢紙。

寫在最後

經過華為事件,我們更應該摒棄「造不如買、買不如租」的理念對待科技的發展,雖然現在有意藉助外力度過難關,但這是只是為了爭取時間,讓國產科技企業擺脫晶片難題,穩步發展。

「去美化」已成為國內的主流思想,實現科技自主的步伐也刻不容緩,因為落後的代價實在是太大了。

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