前言：當前晶片的製造都離不開光刻機，特別是高端製程晶片。DUV深紫外光刻機只能生產7nm以上晶片的製造，要想生產6nm以下的晶片，必須使用EUV光刻機。但是EUV光刻機每年的產量只有20臺左右，再加上美國的限制，EUV光刻機很難進口到中國。但在最近，國內另闢蹊徑，成功找到了一項技術，規避了晶片生產需要光刻機的難題。這項技術到底是什麼呢？
短期以內，中國可能很難搞定晶片和光刻機兩大難題，這兩項技術都經過了國外十幾年的研發，中國當前只能依靠自己。當前矽基晶片就目前來看，對科技的幫助還是非常大，在未來很長一段時間內，矽基晶片都不可能會被淘汰，所以光刻機仍然會在很長一段時間內發揮作用。
但是，隨著摩爾定律的發展，矽基晶片製程工藝即將走向極限，矽基晶片如果被市場淘汰，光刻機也會被市場所淘汰。荷蘭專家在聽說國內研發出了可以繞過光刻機生產晶片的新技術後宣稱，如果中國真的突破了這項技術，那光刻機真的需要論斤賣了。
這也就說明了，中國這項技術，將對光刻機未來市場，造成巨大衝擊。這項技術就是碳基晶片，碳基晶片不同於傳統的矽基晶片，碳基晶片的主要原材料是新型材料石墨烯，因為材料的不同，因此在製作的過程中，並不需要光刻機的介入。
並且在矽基晶片馬上就要到達物理極限的今天，各國都在積極尋找未來的新型晶片，而碳基晶片在性能的提升上，是矽基晶片的10倍不止，因此被很多國家作為主要的研究對象。
我國早在2009年就開始對碳基晶片進行研究，並且先於世界上其他國家，製作出了一塊8英寸的石墨烯晶圓，這也是世界上首個石墨烯晶圓，標誌著我國在該領域晶片的研發中，走在了世界的最前列，碳基晶片將成為未來中國晶片領域的一個重點研究對象。
屆時，如果中國真的研發出了碳基晶片，世界的晶片行業將重新洗牌，而光刻機也不再是必須的設備，到時候晶片行業也將迎來中國的時代，不過目前要做的就是抓緊時間研發技術，矽基晶片作為目前的主流，也不能完全捨棄。對此，你怎麼看？