五、離子注入
離子注入是通過對半導體材料表面進行某種元素的摻雜，從而改變其特性的工藝製程，在泛半導體工業中得到廣泛的應用。作為離子注入製程的裝備—離子注入機，是其中先進IC生產線上最關鍵的工具之一。與熱擴散的摻雜技術相比，離子注入技術具有以下特點：單面準直摻雜、良好的摻雜均勻性和可控性、摻雜元素的單一性，而且很容易實現摻雜區域的圖形化。
離子注入設備
離子注入機是高壓小型加速器中的一種，應用數量最多。它是由離子源得到所需要的離子，經過加速得到幾百千電子伏能量的離子束流，用做半導體材料、大規模集成電路和器件的離子注入，還用於金屬材料表面改性和制膜等。常用的生產型離子注入機主要有三種類型：低能大束流注入機、高能注入機和中束流注入機。
六、薄膜生長
集成電路製造中的重要環節，薄膜生長技術主要應用在電子半導體功能器件和光學鍍膜上，總的來說可以分為物理方法（PVD）和化學方法（CVD）。PVD 與 CVD 技術各有優缺，PVD 通過加熱源材料，使原子或分子從源材料表面逸出，從而在襯底上生長薄膜，包括真空蒸鍍和濺射鍍膜。真空蒸鍍指在真空中，把蒸發料（金屬）加熱，使其原子或分子獲得足夠的能量，克服表面的束縛而蒸發到真空中成為蒸氣，蒸氣分子或原子飛行途中遇到基片，就澱積在基片上，形成薄膜。濺射鍍膜則利用高能粒子（通常是由電場加速的正離子如 Ar＋）撞擊固定表面，使表面離子（原子或分子）逸出。CVD 單獨的或綜合地利用熱能、等離子體放電、紫外光照射等形式，使氣態物質在固體表面發生化學反應並在該表面上沉積，形成穩定固態薄膜。
原子層沉積設備
是一種可以將物質以單原子膜形式一層一層的鍍在基底表面的方法。原子層沉積與普通的化學沉積有相似之處。但在原子層沉積過程中，新一層原子膜的化學反應是直接與之前一層相關聯的，這種方式使每次反應只沉積一層原子。
電鍍設備
半導體電鍍是指在晶片製造過程中，將電鍍液中的金屬離子電鍍到晶圓表面形成金屬互連。導體電鍍設備主要分為前道銅互連電鍍設備和後道先進封裝電鍍設備。前道銅互連電鍍設備針對55nn、40nm、28nm 及20－14nm以下技術節點的前道銅互連鍍銅技術Ultra ECP map，主要作用在晶圓上沉澱一層緻密、無孔洞、無縫隙和其他缺陷、分布均勻的銅；後道先進封裝電鍍設備針對先進封裝電鍍需求進行差異化開發，適用於大電流高速電鍍應用， 並採用模塊化設計便於維護和控制，減少設備維護保養時間，提高設備使用率。
七、拋光
拋光設備依靠非常細小的拋光粉的磨削、滾壓作用，除去試樣磨麵上的極薄一層金屬。拋光常常用於增強產品的外觀，防止儀器的汙染，除去氧化，創建一個反射表面，或防止腐蝕的管道。在半導體製造的過程中，拋光用於形成平坦，無缺陷的表面，用於在顯微鏡下檢查金屬的微觀結構。拋光過程中可以使用拋光墊和拋光液。