好消息一個接一個,國產3nm晶片取得技術突破,EUV光刻機引進有望

2021-02-13 東方號角

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在21世紀的信息化時代，手機、筆記本、平板等電子設備對人們來說不可或缺。而要生產出世界一流的電子設備，需要一款高端性能的半導體晶片。目前，5nm是世界上最先進的晶片製造工藝，其技術主要掌握在臺積電手中。中國大陸的中芯國際經過多年發展，實現了14nm晶片的量產，未來在該領域有著很大的進步空間。

雖然與國際知名晶片公司相比，中芯國際確實有著很大的差距。但我們在晶片領域正在努力追趕，並且已經取得了新的突破。近期復旦大學微電子學院周鵬團隊攻克了一系列技術難題，在3nm晶片關鍵技術上取得了重大突破。根據報導稱，周鵬團隊驗證了雙層溝道厚度分別為0.6 /1.2納米的圍柵多橋溝道電晶體，實現了高驅動電流和低洩漏電流的融合統一，為高性能低功耗電子器件的發展提供了新的技術途徑。

周鵬團隊攻克3nm晶片關鍵技術，打破了摩爾定律，為中國研製國產3nm高端晶片奠定了技術經驗基礎。不過，中國目前還未獲得7nm晶片的量產，研製3nm顯然是不現實的。面對這種嚴峻的現狀，中國並沒有坐以待斃，而是積極同國外廠商進行合作。在2018年，中芯國際向荷蘭ASML採購了一臺EUV光刻機。該機器是生產高端晶片的重要設備，日後不論是生產7nm晶片還是3nm晶片都離不開它，對於中芯國際晶片發展起著重要的作用。

後續由於美國的阻撓，EUV光刻機遲遲不能交付，這嚴重耽誤了中國晶片產業的發展。而在周鵬團隊宣布攻克3nm關鍵技術後，荷蘭方面的態度有了很大的轉變。目前，荷蘭ASML公司多次表態十分重視中國市場，未來將加快在中國市場的布局。此外，中芯國際與ASML公司再次就EUV光刻機進行談判，預計此次談判將會取得令人滿意的結果。

周鵬團隊取得3nm關鍵技術突破，到EUV光刻機談判取得積極進展，表明中國芯正在以良好的勢頭崛起。未來隨著中國在晶片領域的發展，國產晶片將迎來新的春天。在擁有了國產高端晶片後，中國將徹底擺脫晶片受制於人的被動局面。

編輯：嚶仔

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  • 中芯國際3nm晶片取得突破,只差EUV光刻機
    換而言之，目前中芯國際3nm晶片取得了重大的突破，已經達到了全球頂尖水平！要知道，7nm和5nm是現在最主流的高端晶片製程，而3nm則是未來兩至三年內臺積電和三星準備突破的工藝技術。現在中芯國際也掌握了3nm晶片的核心技術，就意味著將來國內大陸的晶片製造水平會迎來質的提升。作為國內最先進的晶片代工廠，中芯國際沒有讓人們失望，它確實有成為華為依靠的資本。
  • 國產晶片巨頭中芯再傳新消息!引進EUV光刻機:只為突破5nm
    【1月4日訊】相信大家都知道，中芯國際一直都是國內實力最強的晶片代工廠商，同時也是全球TOP 5晶片代工巨頭，在過去二十多年發展時間裡，中芯國際一直在尋求高端晶片製造工藝技術的突破，但每一代晶片製造工藝取得成功，對於中芯國際而言，都非常的不容易，由於受到《瓦森納協定》的限制，所以中芯國際也一直無法獲得最先進半導體設備以及相關技術的支持
  • 3nm技術剛傳來消息,美就迅速行動,中芯恐無緣EUV光刻機?
    說到中芯的N+1技術簡單來說其實也就是類似於臺積電7nm規格的技術產品。但是目前臺積電最先進的是5nm工藝，甚至3nm工藝也已經有了進展。而中芯想要製造比N+1更高端技術的產品，則需要用到EUV光刻機，所以光刻機設備也是阻礙我們國產晶片發展的一個障礙。
  • 三則新消息傳來,與中芯的5nm、3nm晶片的進度以及EUV光刻機有關
    消息稱，華為P40系列和Mate 40系列手機中的美國元器件，幾乎被替換殆盡，即便是沒有安卓系統和GMS服務，華為也有鴻蒙OS和HMS服務可用。但在晶片製造方面，餘承東都表示，華為等沒有進入重資產的晶片製造領域，這是一個教訓，隨後華為海思再次晶片類博士招聘，向晶片製造領域邁進。
  • 又一晶片關鍵技術「破冰」,EUV光刻機也有進展,中國芯崛起在即
    針對3nm到5nm的節點電晶體技術，驗證了GAA技術，完成在高驅動和低洩露電流的融合。為高性能低功耗的電子器件提供了新的發展途徑。這是一項關鍵突破，實現對高端晶片納米製程的破冰。那麼什麼是GAA技術，這次的技術突破意味著什麼？
  • 臺積電傳來消息，超50臺EUV光刻機即將就位，晶片行業將變天
    眾所周知，光刻機是晶片生產的必備設備。沒有光刻機，可能無法生產出高端晶片。尤其是高端光刻機，一臺EUV光刻機的價格超過1億美元，普通晶片企業連一臺光刻機都買不起，更別說建生產線了。產能方面，2022年可生產每月3nm晶片的晶圓5.3萬片，2023年可生產每月3nm晶片的晶圓10萬片。此外，2納米電晶體工藝也比預期的要好得多，早先宣布將採用環繞電晶體技術，現在預計在2024年量產。
  • 針對EUV光刻機,中芯國際傳來新消息,製造5nm、3nm晶片有戲了
    事實上，中芯國際之所以工藝被擋在了10nm之外，很大原因就是因為沒有EUV光刻機。不過，近日針對EUV光刻機，中芯國際卻傳來新消息。媒體報導，中芯國際將就EUV光刻機與荷蘭ASML公司展開談判。
  • 22nm國產光刻機取得突破，華為穩了
    晶片自主研發生產裡面的重要的一個設備就是光刻機，而我國在以前相當長的一段時間內光刻機的製造水平停留在90nm，而想要製造更高端的手機晶片，就需要用到荷蘭的阿斯麥爾的高端光刻機，它的技術在世界上是獨一無二的，只有荷蘭的ASML公司可以製造出高端的光刻機，並且現在生產晶片的工廠基本都是由這家公司提供光刻機設備
  • 國產光刻機關鍵技術獲突破，國產晶片指日可待！
    他表示，將集中全員力量來攻克光刻機、航空輪胎等難題。有著中科院在前方的引領，國產光刻機有望迎來曙光，國產晶片產業將逐漸走向安全可控。而ASML則走在行業最前列，是集成西方科技企業高端技術的產物，是技術集大成者。並對EUV光刻機完全壟斷。頂級光刻機的製造難度在於，其鏡頭、雷射系統等核心零部件研製難度便不小。
  • ASML光刻機進入3nm時代:那國產光刻機?
    所掌控，而國內光刻機設備也一直未能夠取得技術突破，導致國內晶片製造企業一直受到「光刻機」卡脖子影響，所以在晶片製造方面才能夠受到眾多網友們高度關注，那麼我們的國產光刻機設備和ASML光刻機設備到底有多大的差距呢？
  • ASML光刻機進入3nm時代：那國產光刻機？
    【8月28日訊】相信大家都知道，自從中興、華為等中國高新科技企業相繼被列入到「實體清單」以後，國產晶片產業發展就受到了廣大網友們高度關注，尤其是在晶片製造領域，國家更是在優惠政策、資金扶持、人才培養等各方面，給予了最大的支持，尤其是在關鍵的晶片製造設備—光刻機技術上，一直都被荷蘭ASML所掌控
  • 沒有EUV光刻機也行，中芯國際另闢蹊徑，7nm晶片有望突破
    ，不僅國產晶片設計研發，紫光展銳、達摩院和華為海思等眾多國產企業，已接二連三地傳出晶片設計研發成功的好消息，而且在晶片製造上，一直被寄予厚望的中芯國際也實現了重大突破。不過，中芯國際在晶片製造過程中所需的設備卻嚴重匱乏，特別是製造高端晶片所需的設備——EUV光刻機。這種光刻機目前只有荷蘭的ASML公司能夠製造出來，它可以說是製造主流晶片市場上所需的7nm晶片，乃至5nm、3nm晶片的關鍵設備。正因為這樣，在2018年中芯國際就曾向荷蘭的AMSL公司申請，購買一臺EUV光刻機，但是直到現在ASML公司依舊沒有完成交付。
  • 不需要EUV光源,國產光刻機有望進入10nm,掌握浸潤式技術即可
    眾所周知，光刻機是制約我們晶片製造技術發展的重要設備之一了。因為在晶片製造環節之中，光刻機的成本佔35%，工時佔到40%左右。偏偏這麼重要的設備，國產的技術還是較為落後的，目前僅能生產90nm晶片製造的光刻機，而ASML的EUV光刻機，可以實現到3nm節點了。所以如何提高國產光刻機技術，估計是國內眾多網友、晶片企業們關心的共同話題了。很多人認為掌握EUV光刻機，可能是至關重要的一步，這樣就可以直接搞定到10nm晶片，甚至7nm晶片。
  • 中國國產晶片有望突破7nm工藝，或許使用EUV光刻機
    這是因為多年以來中國企業多從美國等發達國家進口晶片，久而久之形成了依賴心理，如今美國已經翻臉不願意為我國供給晶片，中國被迫走向了國有晶片的發展之路。如今看來，在這條道路上，中國技術走的相對坎坷，如今中國國產晶片有望突破7納米工藝，或許不再使用EUV光刻機，能夠製造出最強「中國芯」，這一進展給了中國企業以及中國人民以莫大的支持。
  • 中國國產晶片有望突破7nm工藝,或許使用EUV光刻機!
    如今看來，在這條道路上，中國技術走的相對坎坷，如今中國國產晶片有望突破7納米工藝，或許不再使用EUV光刻機，能夠製造出最強「中國芯」，這一進展給了中國企業以及中國人民以莫大的支持。縱觀中國國產晶片的發展，美國的一再幹預是阻礙中國技術進步的重要因素，要知道晶片的生產出了需要最為關鍵的研發技術之外，其生產的複雜流程也是至關重要的，尤其是在光刻這一環節，直接決定晶片的性能高低如何。
  • 一個好消息，國產22nm光刻機迎來突破
    但最近一條好消息是中國國產22NM的光刻機迎來新突破，中國晶片迎來新篇章。這一個是我國起步較晚，一個就是製造晶片的核心領域光刻機技術短板造成的。要知道晶片製造離不開光刻機，光刻技術也是我們必須要掌握的。要知道華為可以製作手機，製作電視等智能產品，這幾年在CPU處理器上也有很大突破。但是美國禁止海外光刻機公司和中國的合作，中國晶片製造業就瞬間被人掐了脖子動彈不得。
  • 高端光刻機突圍的最大底牌：國產光刻機產業鏈
    要想擺脫晶片被美國卡脖子的命運，就必須得在設備尤其是EUV光刻機上取得突破。那麼我們能夠突破EUV光刻機技術嗎？答案是，不但能，而且在突破之後我們還能夠建立一條完全獨立自主、完整的光刻機的產業鏈。國產光刻機與ASMLEUV光刻機的差距。
  • 國產石墨烯晶片取得突破，不必再等光刻機了？
    國產石墨烯晶片取得突破一直以來，我們國內在晶片方面都處於比較落後的水平，根本無法與美國等發達國家相提並論。但是近幾年來，隨著華為的崛起，國產晶片已經迎來了希望，而美國給的壓力，也變成了促進國內突破的動力！
  • 一則新消息突然傳來!事關國產7nm、5nm、3nm晶片
    未來主要的攻關方向是5nm和3nm晶片，唯一的難點就是EUV光刻機。 梁孟松的言外之意就是，中芯國際很有信心突破7nm、5nm和3nm晶片的關鍵技術，只要能夠得到ASML公司EUV光刻機的支持，量產就不是太大的問題。
  • 國產光刻機的悲壯研發路：9年努力，終破國外技術封鎖
    我國的光刻機技術與國外最先進的相比，差了多少？有人說，這之間相差了一個太平洋的距離。這樣說雖然有些誇張，但是卻也是不爭的事實。國內的光刻機龍頭是上海微電子。3nm製程生產晶片。但是上海微電子目前量產的還只有90nm的光刻機，雖然也有消息說28nm的機器也已經取得突破了，但是應該還是樣機，到量產還有一段距離的路要走。這中間隔了65nm，38nm，28nm......5nm,3nm等好幾個世代，五個手指頭都數不過來。這樣對比看起來，確實上海微電子與ASML的差距不是一般的大，是差了幾個世代，據行業內的專家估計20年的差距是有的。