摩爾定律再續!ASML基本設計完成1nm光刻機
2020-12-03 手機鳳凰網摩爾定律是什麼？英特爾創始人之一戈登·摩爾根據經驗得出一條「定律」，即集成電路上可以容納的電晶體數目在大約每經過24個月便會增加一倍。換言之，處理器的性能每隔兩年翻一倍。從這條「定律」我們能夠一窺科技進步的速率，每一次工藝的升級都能為消費者帶來更好的體驗。
眼下我們能夠使用的電子設備，晶片製程從28nm、14nm到7nm、5nm各有不同。「雕刻」的精度不斷提高，更小的製程意味著可以在同樣大小的面積內容納下更多的電晶體，元器件 的密度也會相應提高。例如我們常說的EUV「極紫外光刻」技術，使用它生產的5nm晶片——例如華為麒麟9000、蘋果M1以及三星Exynos 1080，他們是目前消費級晶片領域的第一梯隊。但由於承載材料、生產工藝的限制，摩爾定律存在著物理上的「極限」，近年來摩爾定律的達成間隔一度延長也被視為達到極限的前兆。
要進行光刻，就需要有設備，荷蘭ASML是全球唯一的EUV光刻設備生產商。近日，ITF論壇在日本東京舉辦。論壇上，與ASML合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公布了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。根據論壇上透露的信息，ASML對於3nm、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm工藝都做了清晰的路線規劃，這意味著未來1nm工藝的實際應用只是時間問題。
據臺積電和三星電子介紹，「當前7nm、5nm部分工藝已經推出了NA(Numerical Aperture)=0.33的EUV光刻設備，並通過降低波長來實現5nm工藝，但對於2nm以後的超精細工藝，需要實現更高的解析度和更高的光刻設備」。ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計，預計在2022年實現商業化，2024年到2025年大規模生產。摩爾定律終於續上了，1nm製程的晶片究竟會將功耗縮減到什麼程度、又能帶來多達幅度的性能提升呢？讓我們拭目以待。
相關焦點
-
ASML 1nm光刻機完成:摩爾定律尚未結束
ASML 1nm光刻機完成：摩爾定律尚未結束 摩爾定律的終點是什麼?隨著5nm光刻技術的大規模生產和3nm的突破，摩爾定律的終結變得越來越難以捉摸。可以肯定的是，隨著過程的進一步改進，其成本將成倍增加。 -
國人「氣」也沒用,ASML已完成1nm光刻機設計,摩爾定律還在繼續
而晶片製造中很關鍵的一個設備就是光刻機，目前最先進的光刻機就掌握在來自荷蘭的ASML手中，但因為光刻機設備本身就是集合多個國家科技而成的結晶，因此ASML也不能完全決定自己的設備能賣給誰。正是在這種情形下，只有一條路可走，那就是自己造，但很顯然我們在半導體領域落後的不止一點點，現在5nm製程工藝晶片已經商用，來自蘋果的iPhone 12、華為的Mate 40等手機都是配置了5nm晶片，而國內目前擁有的光刻機，最高級的就是上海微電子的那臺90nm光刻機，更重要的是用的還是國外20年前的光源技術。 -
ASML已完成1nm光刻機設計 摩爾定律再次重新起效
想想幾年前的全球半導體晶片市場，真的可謂哀嚎一片，一時間摩爾定律失效的言論可謂此起彼伏。但是在今天，我們不僅看到5nm工藝如期而至，臺積電宣布2nm獲得重大進展，就連光刻機的老大ASML也傳來捷報，全球最先進的1nm EUV光刻機業已完成設計。 -
ASML正式官宣,1nm光刻機設計完成,說好的摩爾定律呢?
雖然，ASML的光刻機設備處於技術的天花板，國內想趕超不是一件易事，但之前有專家表示，半導體精準度已經向3nm邁進，而這幾乎已經逼近極值，摩爾定律即將走到盡頭。也就是說，2、3nm晶片可能會成為極限，國內的晶片廠商還是有機會趕上的，因為對手前方已經沒有路，因此我們可以奮起加速追趕。 -
ASML突然宣布：完成1nm光刻機設計！國產光刻機追得上嗎？
所以在開始本期的正文之前，需要先和大家談一談有趣而殘酷的「摩爾定律」。的時候，ASML卻突然宣布：已完成1nm光刻機設計。據介紹，ASML已經完成了作為NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統的基本設計，雖然商業化計劃在2022年左右。但ASML的進度 卻再一次驚訝了全球科技界，他們將「摩爾定律」發展到極致，同時也讓其競爭對手「感到絕望」。ASML完成1nm光刻機設計，也正意味著他們即將再次突破自己達到的光刻機天花板。 -
ASML已完成製造1nm晶片的EUV光刻機的設計方案
ASML已完成製造1nm晶片的EUV光刻機的設計方案 來源：中關村在線 • 2020-11-30 17:35:31 想想幾年前的全球半導體晶片市場 -
摩爾定律不死?1nm製程光刻機完成設計,國內趕超難度太大
目前晶片製程已經發展到5nm，臺積電很有可能在明年會上馬5nm+甚至是4nm的生產線，而3nm也預定會在2022年正式量產。這樣無論是移動晶片還是其他高端晶片，繼續提電晶體以及增加性能是必然的事兒。而更重要的是，現在1nm的光刻機也已經完成設計，將在2022年正式商業化。 -
摩爾定律不死？1nm製程光刻機完成設計，國內趕超難度太大
目前晶片製程已經發展到5nm，臺積電很有可能在明年會上馬5nm+甚至是4nm的生產線，而3nm也預定會在2022年正式量產。這樣無論是移動晶片還是其他高端晶片，繼續提電晶體以及增加性能是必然的事兒。而更重要的是，現在1nm的光刻機也已經完成設計，將在2022年正式商業化。 -
ASML完成1nm光刻機設計：首先供貨臺積電三星、單價破新高
隨著5nm光刻機的量產和3nm的突破，摩爾定律的盡頭變得越來越撲所迷離。由於此前得光刻機競爭對手早已經陸續退出市場，目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產能，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機，目前目標是將工藝規模縮小到1nm及以下。 -
德興匯外匯:ASML完成1納米光刻機設計
德興匯外匯指出，摩爾定律的終點是什麼？德興匯外匯報導，隨著5nm光刻機的量產和3nm的突破，摩爾定律的盡頭變得越來越撲朔迷離。不過可以肯定的是，隨著隨著工藝的進一步提高，其成本也在呈幾何增長。 -
網曝ASML(阿斯麥)已基本完成 1nm 光刻機設計
IMEC公司執行長兼總裁Luc Van den hove首先發表了主題演講，介紹了公司研究概況，他強調通過與ASML公司緊密合作，將下一代高解析度EUV光刻技術——高NA EUV光刻技術商業化。IMEC公司強調，將繼續把工藝規模縮小到1nm及以下。包括日本在內的許多半導體公司相繼退出了工藝小型化，聲稱摩爾定律已經走到了盡頭，或者說成本太高，無利可圖。 -
定律延續!ASML突破1nm光刻機,留給國產光刻機的時間還有多久?
在半導體領域有一個經典理論，即「大約每兩年，電晶體密度就會增加1倍」，業內人通常把這個定律稱之為摩爾定律。而關於這個定律很多半導體大佬都曾公開發表看法，包括臺積電創始人張忠謀，NVIDIA（英偉達） CEO黃仁勳，以及聯發科董事長蔡明介。 -
日本光刻技術繼續領跑,ASML率先完成1nm光刻機技術,機制突破
然而，就在我國光刻機技術準備突破5nm工藝、完善7nm工藝的時候，國際上光刻技術又傳出新的重大突破，又加大了我國與國際光刻技術的差距。就在前段時間，根據日本媒體報導，由於疫情影響，在11月18號日本ITF在日本東京舉辦的網上發布會上，IMEC聲稱目前1nm光刻機工藝相關技術已經設計完成。 -
1nm光刻機!荷蘭ASML傳來新消息,臺積電「喜從天降」
原題：1nm光刻機！荷蘭ASML傳來新消息，臺積電「喜從天降」。對此大家怎麼看？聲明：文章原創，禁止抄襲，違者必究文|趣評互聯1nm光刻機！在半導體行業中，光刻機起著重要的作用，想要量產高端的晶片需要依託在光刻機上面，也就是說光刻機對於晶片來說起著舉足輕重的作用。目前全球最為先進的晶片製程，已經達到5nm，在全球檯積電以及三星都能夠量產。並且臺積電已經在3nm、2nm晶片上有了重大的突破。 -
真的不要再追光刻機了,ASML:1nm研究取得重大進展
引言隨著美國對我國華為自研晶片麒麟系列的極限施壓，華 為總裁任正非先生的華為設計得出的晶片，我國大陸還造不出的感慨，讓廣大網友為之動容。而據最新消息，ASML在1nm的研究已取得了重大進展，預計將會優先供應臺積電和三星。這無形又給國內相關企業產生了極大壓力。 -
突破技術局限,荷蘭ASML完成1nm光刻機設計
近日，荷蘭阿斯麥公司公布旗下工藝製程成技術規劃，包括3nm技、2nm、1.5nm以及1nm技術項目，並宣布已經完成1nm光刻機的初步設計，會在2022年後 實現大面積商用。如果說矽是半導體的血液，那麼晶片就是半導體的心臟。 -
1nm光刻機！荷蘭科技巨頭傳來新消息，臺積電「喜從天降」
如今有不少半導體公司認為，摩爾定律已經走到了盡頭，或因成本成本太高，而放棄了工藝小型化。不過，身為全球第一大光刻機巨頭的ASML，卻沒有停下前進的腳步。他表示，IMEC在與ASML的緊密協作之下，成功實現高NA EUV光刻技術商業化，此為下一代高解析度EUV光刻技術。同時，IMEC還展示了3nm、2nm、1.5nm與1nm以下的小型化線路圖。 -
1納米EUV光刻機要來了!
imec執行長兼總裁Luc Van den hove做了主題演講，概述了該公司的研究，該公司和ASML密切合作，共同開發了下一代高解析度EUV光刻技術，即High NA EUV。他強調說，通過將光刻技術投入實際使用，摩爾定律將不會終止，並且該工藝將繼續改進到1 nm或更小。 -
荷蘭巨頭壟斷全球,1nm光刻機取得突破,三星、臺積電迎來新機遇
隨著工藝製程的微縮，晶片行業摩爾定律面臨物理極限，不少業內人士認為，晶片製作工藝將止步於2nm。日前，臺積電宣布已經攻克2nm工藝技術難關，為晶片領域帶來延續摩爾定律的希望。但摩爾定律能否延續不單單依靠晶片製造廠商，還要看光刻機製造商能否實現技術突破。 -
ASML官宣,光刻機將捅破「摩爾定律」極限,EUV有望出口國內
在集上，晶片製造過程中，最為重要的就是光刻機，光刻機的先進位度直接決定了晶片製程的先進程度，就比如說，DUV光刻機能夠生產7納米以上製程的晶片，而EUV則能夠審查和年出7納米一下的晶片。關鍵問題就在於，不管是DUV還是EUV，這兩種光刻機技術都掌握在ASML的手中。好不誇張地說，ASML在整個光刻機市場之中，處於一種絕對壟斷的地位。