德興匯外匯:ASML完成1納米光刻機設計

2021-01-08 蘭州新聞網

德興匯外匯指出，摩爾定律的終點是什麼？德興匯外匯報導，隨著5nm光刻機的量產和3nm的突破，摩爾定律的盡頭變得越來越撲朔迷離。不過可以肯定的是，隨著隨著工藝的進一步提高，其成本也在呈幾何增長。

德興匯外匯注意到，來自日媒的報導稱，在不久前舉辦的線上活動中，歐洲微電子研究中心IMEC執行長兼總裁Luc Van den hove在線上演講中表示，在與ASML公司的合作下，更加先進的光刻機已經取得了進展。

Luc Van den hove表示，IMEC的目標是將下一代高解析度EUV光刻技術高NA EUV光刻技術商業化。由於此前得光刻機競爭對手早已經陸續退出市場，目前ASML把握著全球主要的先進光刻機產能，近年來，IMEC一直在與ASML研究新的EUV光刻機，目前目標是將工藝規模縮小到1nm及以下。

德興匯外匯指出，在本次得ITF Japan 2020線上會議上，IMEC還對外公布了其3nm、2nm、1.5nm和1nm及以下工藝的邏輯器件路線圖。

德興匯外匯據悉，從7nm開始，臺積電已經在開始採用NA＝0.33的EUV光刻設備，與前代相比，更高解析度的設備帶來了頻率和功耗的提升，也為目前臺積電5nm製程提供了基礎。

目前ASML已經完成了NXE:5000系列的高NA EUV曝光系統的基本設計，至於設備的商業化。要等到至少2022年，而等到臺積電和三星拿到設備，之前要在2023年。

隨著工藝的不斷進步，更加複雜的光刻系統還將導致設備變得更大，而未來3nm、1nm光刻機的價格，相比目前也是成倍增長。至於首批客戶，沒有意外的話將是臺積電和三星。

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