ASML迫不及待亮出「底牌」?1nm光刻機精度「橫空出世」?

2021-01-06 網易

2020-10-19 07:49:55　來源: 悅悅聊科技

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　　大家都知道，一顆小小的晶片被生產出來，就直接影響了整個科技企業的「命脈」，不管是手機業務還是通訊業務，甚至是現在炙手可熱的5G業務，都是離不開晶片的，而一塊晶片設計三個主要環節，一是設計，二是製造，三是測風，目前能夠做到將這三大板塊融為一體的應該就是三星電子了，這也是目前全球市場上少有的一體化建設，正是因為全都攬在了自己的身上，所以三星在晶片製造方面，良品率還是要低於臺積電生產的產品的。

　　

　　而臺積電作為全球第一大代工廠商，他的主要工作就是製造，前段時間有消息稱臺積電，已經把自己的技術突破到三納米，甚至是兩納米了，可能在明年年底前就能夠實現量產和實驗了。當然製造也是需要工藝以及設備的，那就是有荷蘭ASML生產的光刻機，其研發的EUV光刻機可以說是世界上最先進的光刻設備了，可是放在我國這個晶片的精準度是遠不及asml的。眼看著現在我國正在積極的開展光刻機研發技術的工作，以及臺積電在高精準度晶片方面的突破，ASML開始有點坐不住了。

　　

　　就在近日迫不及待地亮出了自己的「底牌」，表示現在已經生產的更高精度的光科技研發，能夠做到什麼程度了?能夠讓你的晶片製造精度達到1.1納米。本來asml就已經拿到了全球將近8%成的市場份額，而現在1納米光刻機精度「橫空出世」，讓整個晶片市場的發展都緊張了起來。所以為了能夠繞過光刻機製造晶片，我國已經開始了碳基晶片領域的突破發展，根據相關的信息能夠了解到，碳基晶片一旦研發成功，其綜合性能將達到由光刻機生產晶片的10倍左右，但現在有一個問題，就是這樣的技術我們還沒有能力獲得，而且也不足以在全球市場上進行一個普遍的發展。但科技是要發展的，只有敢想才能敢做。

　　

　　對此，大家有什麼想表達的嗎？歡迎留言交流。

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  • 中科院5nm光刻技術研發成功,但有人卻不看好,這是為什麼?
    近日，中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所研究員張子暘與國家納米中心研究員劉前合作，成功研發出了一種新型5nm超高精度雷射光刻加工方法。這種方法有別於傳統的縮短雷射波長或增大數值孔徑的技術路徑，打破了傳統雷射直寫技術中受體材料為有機光刻膠的限制，可使用多種受體材料，擴展了雷射直寫的應用場景。
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  • 一文看懂asml光刻機工作原理及基本構造
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  • 為什麼光刻機比原子彈還難造?
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    真的造不出光刻機嗎？ASML總裁：中國永遠複製不出高端光刻機目前，荷蘭ASML幾乎壟斷了全球的光刻機市場，佳能、尼康作為其曾經的競爭對手，由於研發水平和商業模式不同，最終光刻機市場被荷蘭ASML吞噬的只剩下了20%左右。
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