隨著華為事件的發聲，越來越多的國內半導體公司，開始籌備國產化的晶片製造技術。但晶片製造作為人類工業歷史上的「皇冠」，短期內將高端晶片國產化的難度還是非常大的。
比如光刻機的內部，就涉及了數以萬計的精密零部件。而這些零部件的供應商，來自於全球各地，這也導致晶片的國產化製造進展緩慢。
近日，中國教授魏少軍就國內的晶片問題發聲，並表示國產晶片跨入5nm節點，這3大領域的創新很重要！
據悉，魏少軍在2020中國（上海）集成電路創新峰會上，簡單介紹了國內晶片製造產業所急需解決的問題。
魏少軍表示，現如今的集成電路再一次遇到了「岔路口」，新材料、新工藝、新器件這三大領域的創新，將成為國產晶片邁入5nm技術的關鍵。
同時，魏少軍還表示，要將微納系統集成、晶片架構也規劃到這三大領域的創新之中。
為什麼要講新材料、新工藝、新器件
目前，國內的晶片製造企業，所能夠達到的量產標準目前是14納米級別。在矽基晶片的製造技術上，國內的速度要遠低於國際的一流標準。
在晶片的7nm、5nm工藝上，很多企業都是秘而不宣的。無論是設備還是對原材料的處理方法，都屬於行業機密。
在這樣的局面之下，國產晶片想要邁入5nm技術領域，僅僅依靠購買別人的技術授權和設備是無法做到生產5nm晶片的。
中科院教授劉雲也曾表示，國內科技企業的短板是「大而不強」。被卡脖子的其實不僅僅是光刻機，在晶片、工業軟體、手機射頻器件等35項關鍵技術，我國都處於被卡脖子的狀態。
在晶片製造進入5nm技術節點後，必須要擁有EUV光刻機，才能夠完成對晶片進行光刻工藝的加工。但由於《瓦森納協定》等客觀因素，國內企業採購ASML的EUV光刻機遲遲不能夠發貨。
如果不在材料、工藝、器件上做創新，國產晶片是很難邁入5nm領域的。而只有國內擁有了形內類似的替代品，國外半導體寡頭才會放寬對設備的出口。
伴隨著國內對於半導體產業鏈的不斷投入，已經有好消息陸續傳了出來。
比如，前段時間中科院旗下研究團隊，已經發布了首款國產的8英寸石墨烯晶圓，並進入了小批量的試產階段。
這種碳基晶片作為拯救摩爾定律的未來新星，越儘早布局越有利於國內晶片產業發展。只有推動新材料、新工藝、新器件這三大領域的創新，國產晶片的明天才會指日可待。
寫在最後
如今，矽基晶片的大多數技術專利被海外公司所掌握，在晶片製程技術的開發上。短期內做到「彎道超車」是不現實的。但在新材料、新工藝、新器件上的開發，我們已經與美國等西方國家處於同一起跑線之上。
增強自研技術的攻關，減少對外界的依賴性，是當下國產晶片必須要走的一條路。對此，你是怎麼看的呢？歡迎大家留言討論！