魏少軍再一次對國內半導體發聲了
為什麼說"再一次"，或許有印象的朋友都記得前不久也是魏少軍對國內半導體的表態，但是被罵慘了，主要是他的想法是"替代不應該是主旋律"。
在當下，國內造芯熱潮一波接一波，"替換"是我們勢在必行的事情，這個時候作為一個專家教授卻說替代不應該是主旋律，多少令人不解，而這一次他指出攻克3個關鍵技術，國產晶片有望跨過5nm。
集成電路技術分叉口
前不久中國半導體行業協會集成電路設計分會理事長魏少軍，在2020中國（上海）集成電路創新峰會上指明了方向。
魏少軍表示現在的集成電路再一次遇到了分叉口"新器件、新材料、新工藝，微納系統集成外加晶片架構這三大領域的創新，將成為中國集成電路領域跨越5nm工藝的過程中"（引用）。
架構的創新、器件結構的選擇、異質器件系統集成等都是很關鍵。
有困難，也有轉機，而國內也在積極應對。
比如新型材料，8英寸石墨烯晶圓。而中科院相關團隊也表示"不管在產品尺寸、產品質量方面均處於國際領先地位"。
其實很多網友對"8英寸石墨烯晶圓"還是有很多看法，一種是說這是我們的"彎道超車"，是一個革新。但是另一個看法就是，此舉目前還處於概念狀態，實驗室的產品，想要商業化還有很長一段路要走，到最後會是什麼樣，還說不好。
但不可否認的是，在這方面，我們算是有了很大的突破。並且8英寸的碳基單晶晶圓已經進入小批量試產階段。
但除了這些，國內半導體的發展還有很多困難，就像中科院教授劉雲表示國內科技是"大而不強"，而我們被卡脖子的技術不單單是光刻機，還有晶片，作業系統，手機射頻器件，雷射雷達等35項關鍵技術，都處於被卡脖子狀態。
中芯國際的3nm
最近鬧得人人皆知的中芯國際梁孟松離職一事，相信大家都知道了。
暫且不說梁孟松從28nm到14nm的量產，以及到N+1製程的流片有多成功，也不說"新上任"的蔣尚義將會"牽線"與ASML就EUV光刻設備進行的談判。只說一下梁孟松辭職信所說的內容，也可以看出國內半導體發展到什麼地步。
這封信寫什麼不重要，但是這一段卻爆出中芯國際的進度在哪："N＋2和3nm相關工作已經有序展開，只待EUV光刻機的到來，就可以進入全面開發階段。"
3nm，只等EUV光刻機的到來。
很多人說中芯國際現在還是14nm，不少人對這個14nm能不能抗打還持懷疑態度，並且臺積電已經實現5nm量產，於是，大家都急了。
"彎道超車"、"高速發展"確實是我們想看到的局面，但我們也面臨著眾多困難，就像現在的中芯國際，一來是被納入"實體清單"，二來ASML能不能把EUV光刻機賣給我們都不好說。
想要"彎道超車"，實現中國芯的崛起，我們還有很長一段的路要走。這是一個持久戰，面對的挑戰還有很多，需要一步一個腳印，腳踏實地的去攻克，才能有更多的突破。