在整個晶片製造過程中，幾乎每一道工序都離不開光刻機的光刻技術，而由於光刻機的技術難度極高，目前全球只有少數國家能夠製造。其中，荷蘭ASML是全球唯一一家能夠生產頂尖EUV光刻機的廠商。之前中國中芯國際曾向荷蘭ASML訂購了一臺最新型的EUV光刻機，本應於2019年初交付，然而卻不斷遭到美國方面的阻撓，交易至今仍未完成，不過前不久從荷蘭ASML進口另一臺大型光刻機順利到貨。前不久，中芯國際深圳公司成功進口一臺荷蘭ASML大型光刻機，目前已順利進入深圳廠區，據知這臺光刻機主要被用於生產線的擴容。雖然該光刻機並非最先進的EUV光刻機，然而其卻能夠繼續擴大我國14納米晶片的產能，預計全年可為企業增加10%左右的盈利。
另外根據近期中芯國際發布的公告我們了解到，其已經花費了17億美元用於向各公司購買半導體設備，這將更加有利於提高國產晶片的產量，更大程度地滿足我國企業對晶片的需求。根據中芯國際CEO的說法，當14納米晶片的產能達到每個月1.5萬後將不再提升，轉而試產更新的工藝，例如相當於臺積電7納米工藝級別的N+1、N+2代工藝等，據稱14納米工藝包括改進型的12納米工藝產能將在12月時達到1.5萬，也就是說中芯國際的N+1、N+2代工藝也將陸續在今年年底開始試產。
而我們知道，14納米晶片成功實現量產不過是一年前的消息，僅僅一年多的時間，中芯國際就從14納米工藝製程階段進入了7納米晶片製程階段，這令美國媒體感到驚訝：中國晶片研發速度及製造技術超乎意料，中國7納米晶片時代即將來臨。
中國科學院光電技術研究所曾於日前傳來消息稱，其成功研製出了全球首臺分辨力最高的紫外超分辨光刻機，其光刻分辨力達到22納米，可用於製造10納米級別的晶片。因此，我們相信即使沒有他國的「援助」，中國科學家們或許也能夠依靠自己的聰明才智攻克光刻機的難關，製造出更加先進的光刻機。無論前路多艱辛，我國研發人員也始終沒有放棄對於光刻機的研製，相信我國終將會啃下"光刻機這塊"硬骨頭」，中國晶片技術未來可期。
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