東京電子推新型半導體清洗機 可防晶片結構遭破壞

2021-01-08 參考消息

參考消息網12月24日報導日媒稱，日本大型半導體製造設備廠商東京電子宣布，將於2021年1月發售清洗機「CELLESTA SCD」，該產品帶乾燥功能，可提高最尖端半導體的成品率。通過增加使用「超臨界流體」（基本沒有表面張力）的乾燥工序，防止半導體上的微細結構被破壞。這款清洗機將用於「微細化」和「多層化」的最尖端半導體製造，「微細化」是縮小電路線寬，「多層化」是在高度方向上層疊電路。

據《日本經濟新聞》網站12月18日報導，新產品在東京電子的枚葉式清洗機CELLESTA系列中配備了超臨界乾燥專用反應室，將用於製造結構不斷微細化、複雜化的邏輯半導體及個人電腦等使用的半導體存儲器DRAM。

報導稱，通過使用超臨界流體，可以降低乾燥時微細圖案結構被液體表面張力破壞的風險。新產品在乾燥工序中以超臨界流體代替酒精作為清洗液。

東京電子的半導體清洗機。（《日本經濟新聞》網站）

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