據澎湃新聞報導，12月17日晚，財政部、稅務總局、發展改革委、工信部四部門聯合下發了《關於促進集成電路產業和軟體產業高質量發展企業所得稅政策的公告》。政策明確了相關企業享受減免企業所得稅的具體條件，並於2021年1月1日起執行。
早在4個月前，國務院就出臺了《新時期促進集成電路產業和軟體產業高質量發展的若干政策》，從財稅、投融資、研究開發、進出口、人才、智慧財產權、市場應用、國際合作等八個方面支持集成電路產業和軟體產業發展。
總體來看，企業擁有的技術含量越高，獲得所得稅減免的力度越大，且減免範圍也比以前更廣。比如，集成電路線寬小於28納米(含)，且經營期在15年以上的生產企業或項目，可免徵10年企業所得稅。這也是針對晶片製造首次推出「十年全免」政策。
根據海關公開數據，2019年中國晶片進口額為3040億美元，超過原油、鐵礦砂、糧食總和3016億美元。美國限制晶片出口的行動，一定程度上激起了自主研發晶片的決心和力量。此次四部門聯合發布支持集成電路發展的政策，將加快我國集成電路產業的發展。
但是集美們，你們知道嗎?一張矽片要生產成為一個完整的晶片，需要在一兩個月內的時間通過400-500個工序，其中清洗工程佔據了其中的30%左右，因此晶片清洗對於晶片生產來說具有重要的意義，晶片清洗用水往往通過超純水設備進行生產。
德蘭梅爾反滲透膜的過濾工藝就是反滲透技術，反滲透就是在濃溶液側施加大於溶液滲透壓的壓力，迫使水分子逆向(與自然滲透方向相反)通過半透膜進入稀溶液的過程，由於在反滲透過程中，濃溶液側的水分子通過半透膜流向稀溶液，而絕大部分溶質(溶解性固體)卻無法透過膜，被截留下來。故濃溶液被進一步濃縮或者說脫水，稀溶液被稀釋純化或者說脫鹽。出水水質電阻率大於18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值(25℃)。
德蘭梅爾抗汙染反滲透膜能夠幫助企業節省投資、降低運行費用、減少單位消耗。以低成本，助力企業產業升級。