當LIGA技術與光柵法X射線 相襯成像相遇

LIGA 是德文製版術Lithographie,電鑄成形Galvanoformung 和注塑Abformung 的縮寫。自20世紀80年代德國卡爾斯魯厄原子核研究所為製造微噴嘴創立LIGA技術以來，對其感興趣的國家日益增多，德、日、美相繼投人巨資進行開發研究。該技術被認為是最有前途的三維微細加工方法,具有廣闊的應用前景。

與傳統微細加工方法相比，用LIGA技術進行超微細加工有如下特點: 

x射線掩模製作（Mask）:首先用電子束或雷射對薄光刻膠進行初次曝光，製成初級掩膜，然後經過顯影、電鍍等工藝步驟製成初級微結構掩膜板（此掩膜板本質上已經是一個高度較低的微結構）。對於高深寬比微結構，需要進一步製備額外的高深寬比掩膜板。

x射線光刻(Lithographie)：藉助上述的初級微結構掩膜板，在厚光刻膠上用X射線進行曝光，然後經過顯影、電鍍等工藝步驟製成中級微結構掩膜板。由於同步輻射設備KARA(原ANKA)提供的平行x射線束，可確保高縱橫比和光滑的側壁。

電鍍(Galvanoformung):將上述步驟獲得的光刻膠模具置於金屬電鍍液中進行電鍍，即可實現高縱橫比、高精度結構的金屬零件。

聚合物成型(Abformung):為了複製聚合物基板上的精密結構，可以使用上述工藝製作注塑和熱壓花用的模鑲件。這允許實現精確複製的微聚合物結構。

因此LIGA工藝製造的微結構聚合物和金屬零件在x射線光學領域有著廣泛的應用，包括在在科研機構和工業領域，尤其在光柵法X相襯成像領域有廣泛應用。 

X射線相位襯度成像和傳統的X射線吸收成像相比，X射線相位襯度成像能夠為輕元素樣品提供高得多的襯度，特別適合用於對軟組織和輕元素構成的樣品進行成像。

目前，主要的5類相襯成像方式中，大部分對光源的相干性要求極高，只能在同步輻射光源或者藉助微焦點X射線源實現。而光柵法相襯成像，經過十多年的發展，已經成為在實驗室實施相襯成像實驗的主流技術路線。

但是，高深寬比和大視場光柵的製作一直是困擾研究人員的一個痛點，LIGA技術的出現及成熟，使得製作此類的光柵的製作變得更加的容易、可靠及更好的控制成本。

1.  日本東北大學-百生研究室

上文中提到德國卡爾斯魯厄是LIGA技術的發源地，科學研究是為了窺探世界的本質及發展規律，新技術的誕生最終是為了改善人類的生活狀態。德國Microworks 公司成立於 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學院（KIT）微技術研究所 (IMT) 衍生的子公司。通過使用X 射線和雷射LIGA技術，能為廣大科研用戶提供高度定製化的透射光柵和微結構方案，在光柵法相襯成像領域，具有很好的口碑。

成功案例：

         

             (大面積光柵，尺寸達80mm*400mm）                          (2000線自支撐光柵）

其他：

         

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