潔淨室是指對空氣潔淨度、溫度、溼度、壓力、噪聲等參數根據需要都進行控制的密閉性較好的空間。由於精密機械工業、半導體工業等對環境的要求，促進了潔淨室技術的發展。
相對溼度是衡量潔淨室等級標準的條件參數之一。實際上，一些應用指定的偏差僅為1％RH，這是由於從物理/化學觀點上相對溼度對材料加工和存儲上的影響。
細菌和其他生物汙染（黴菌，病毒，真菌，蟎蟲）在相對溼度超過60%的環境中可以活躍繁殖，甚至有一些菌群在相對溼度超過30%時就可以增長。將潔淨室的相對溼度控制在40%至60%的範圍之間，有效地控制細菌和其他生物的增長，降低其帶來的影響。
除了抑制各種微生物的生長，溫溼度的控制在一定程度上可以防止各種化學反應或改變反應速度，譬如腐蝕，將隨著相對溼度的增高而加快。相對溼度在50%時易生鏽，相反，有些金屬，例如鋁，可以與水形成一層保護性的氧化物，但並不是好事，因為有可能阻止進一步的氧化反應，影響效率。
潔淨室的發展與現代工業、尖端技術密切聯繫在一起。溼度的控制也不是越低越好。當相對溼度小於30%時，靜電荷可以在絕緣體或者未接地的表面上持續存在很長一段時間。較低的溼度容易造成電荷的積累並成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。當相對溼度超過50%時，靜電荷開始迅速消散。高溼度實際上減小了靜電荷積累，這是人們希望的結果。
潔淨室的溫溼度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。溼度過高會使人覺得氣悶，而溼度低於30%則會讓人感覺乾燥，皮膚皸裂，呼吸道不適以及情感上的不快。
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