前瞻半導體設備行業研報合集:被ASML壟斷32年,看了才懂「國產光刻...
2020-11-29 前瞻網前瞻半導體設備行業研報合集：被ASML壟斷32年，看了才懂「國產光刻機」去哪兒了？
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光刻機是半導體製造中的核心裝備，其中包含了數以萬計的精密零件，被譽為「半導體工業皇冠上的一顆明珠」。
但這顆明珠卻長期為荷蘭阿斯麥(ASML)公司所壟斷，由於稀缺，一臺光刻機的售價可賣到數千萬美元甚至過億美元。對於5nm、7nm等高端晶片製造工藝，沒人可以繞開ASML進行生產。
近日，在第三屆上海進出口商品交易會上，ASML全球副總裁、中國區總裁沈波在接受採訪時透露，這些年來，他們已經為中國的半導體客戶積累了700多臺裝機。第一臺光刻機於1988年進入中國，距今已有32年。
根據ASML的財務報告，在今年第二季度和第三季度，該公司向國內地區銷售的光刻機佔全球銷量的20%。目前，ASML已在中國設有12個辦事處，11個倉儲和物流中心，2個開發中心和1個培訓中心，共有1000多名員工。
國產光刻機的缺失，不僅意味著每年中國企業要付出巨大代價去採購外國產品，更代表了半導體工業已經將自己的「命脈」拱手讓人。
那麼中國為什麼造不出自己的光刻機?中國的高端半導體設備究竟差在哪裡?
前瞻產業研究院發布的《2020年中國半導體設備行業市場研究報告》指出，光刻機發展至今，已經歷了5代產品的迭代，目前第五代EUV光刻機是未來光刻機技術發展的主要方向，目前ASML是全世界唯一一家能夠設計和製造EUV設備的廠商。
從中國市場來看，上海微電子裝備有限公司(SMEE)是我國國內唯一能夠做光刻機的企業，其已經量產的光刻機中，性能最好的能夠達到90nm的製程工藝。
但值得一提的是，在光刻機產業的上下遊，不乏國產企業的身影。
儘管我國光刻機的發展與國際領先水平有著不小差距，但在半導體設備的其它細分領域已有了較大進展。
從國內市場來看，刻蝕機是我國最具優勢的半導體設備領域，也是國產替代佔比最高的重要半導體設備之一。目前我國主流設備中，去膠設備、刻蝕設備、熱處理設備、清洗設備等的國產化率均已經達到20%以上。
那麼目前國內半導體行業的國產替代化究竟發展到了什麼程度?
據前瞻產業研究員分析，國產半導體設備已經形成系列化布局，以北方華創等為代表的龍頭公司正在加緊布局設備國產替代。
目前國內半導體設備企業在刻蝕、薄膜沉積、離子注入、光學測量、研磨拋光、清洗設備等主要設備均有布局，客戶的接受度也不斷增強，包括中微半導體的介質刻蝕機、北方華創的矽刻蝕機、PCV設備，上海盛美的清洗設備等國產12英寸設備已經在生產線上實現批量應用。另外，一部分應用於14nm的國產設備也開始進入生產線步入驗證。
半導體設備行業是半導體晶片製造的基石，半導體不僅與信息安全的發展進程息息相關，其價值鏈更具有放大效應。根據國際貨幣基金組織測算，每1美元半導體晶片的產值可帶動相關電子信息產業10美元產值，並帶來100美元的GDP。
了解更多詳情，請移步前瞻分析師文章：
預見2020：《2020年中國光刻機產業全景圖》(附產業政策、行業供給、競爭格局等)
《十張圖帶你了解半導體設備行業發展情況 全球半導體產能向中國大陸轉移，推動國內設備行業大力發展》
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2020-2025年中國半導體設備行業市場需求前景與投資規劃分析報告
2020-2025年中國半導體產業戰略規劃和企業戰略諮詢報告
2020-2025年中國半導體材料行業市場需求前景與投資規劃分析報告
中美貿易戰對集成電路行業的影響深度研究分析報告
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