一臺光刻機並不是只能勝任一個工藝節點，而是可以勝任多個工藝節點，決定一臺光刻機可以製造什麼工藝的晶片，關鍵是看光刻機的波長，比如193nm浸入式光刻機可以製造14nm乃至28nm工藝的晶片，而如果你想製造7nm和5nm晶片，那麼最好就要上極紫外光刻技術了，支持EUV的光刻機波長為13.5nm。
當然，一臺光刻機的壽命也不僅僅在於一兩代晶片，如果用193nm深紫外光刻機也是可以做到10nm乃至7nm晶片的生產的，只是工藝難度實現起來相對複雜，成本較高，比如採用自對準四次成型技術，就可以得到更加緻密的結構，不過因為晶片層級的工藝變得複雜，需要更多掩模版和材料，所以用193nm光刻機生產7nm晶片非常不划算，所以到了這個程度必須上EUV光刻機。
一臺先進光刻機價格不菲，上億美元非常正常，目前手機晶片都進入了7nm時代，難道過去用的非EUV光刻機就要淘汰了嗎？其實不會，因為不是所有的晶片都需要最先進的工藝製程，比如工業類的晶片，存儲類晶片就可以用相對落後一些的工藝進行生產，這時候被「淘汰」的光刻機自然還可以發揮用途，只是用來生產的晶片類型不同而已，其實目前28nm和45nm晶片仍然有不小的市場佔有率，所以即使是多年前老舊的光刻機也可以發揮很多年的作用。