全球最大光刻機廠CEO:拜登恐難緩解中美半導體緊張局勢

2021-01-19 油化材訊

technological breakthrough 如果您喜歡請點讚、轉發朋友圈

作者:新智元 【導讀】拜登上任在即,他會緩解緊張的中美科技局勢嗎?近期,全球最大光刻機製造商ASML的CEO表示,即使總統換屆,兩國在包括光刻機在內的半導體領域,仍將出現進一步的對抗。也有人發表看法,發展晶片,開源指令集架構RISC-V可能會讓中國晶片自主「彎道超車」?在過去川普任職期內,中美之間的貿易戰讓不少科技公司都捲入其中,總部位於荷蘭的光刻機製造商ASML也是其中之一。由於美國政府的壓力,其最新價值約2億美元的光刻機已停止向中國銷售。由於川普的舉動常常出其不意而且瘋狂,一些業內人士曾寄希望於拜登,認為拜登可能會緩解緊張的科技局勢。不過,ASML CEO Peter Wennink在接受採訪時卻表示:他預計,即使拜登接管了華盛頓,但美國和中國在包括ASML生產在內的半導體領域,仍然會存在對立,不會很快出現重大變化。「這在那裡有一個競爭空間,這就造成了這種對立,這也是我們所看到的,」他在提到美國對中國的貿易限制時說,「我不認為這一點會改變。說實話,這涉及到兩國產業政策的核心,我想說,最核心的問題是半導體,是技術將創造這個價值基礎,所以這一點不會改變,我們將不得不接受這個事實。」光刻機不僅可以用來製造晶片,還能用來製造半導體材料,測試新技術等。可以說,擁有了最頂尖的光刻機,半導體領域的絕大多數問題都能迎刃而解。ASML是全球領先的光刻機製造商,該公司使用能量束繪製計算機晶片電路。它的主要客戶是臺積電、三星、英特而等,這些公司使用其最先進的EUV,即極紫外光刻 (Extreme ultraviolet lithography)。




亦或,某些源自西方的「小眾」技術,例如開源指令集架構RISC-V,可能會讓中國晶片自主「彎道超車」?




RISCRISC-V有可能讓中國晶片自主,甚至「彎道超車」?
就在美國「卡脖子」的狀況下,中國晶片一點辦法都沒有嗎?著名諮詢公司國際商業策略的執行長Handel Jones認為:「中國希望能掌握一個不需要支付許可費的晶片架構,所以我們看到RISC-V在中國的蓬勃發展。」「RISC-V很有可能為中國晶片的自主可控計劃提供了一扇窗,以加速結束對西方晶片技術的依賴,甚至有可能威脅到Arm的市場地位。」RISC-V,發音為「risk-five」,是基於小型、快速、低功耗等現實情況設計。最重要的是,它是開源的。在以英特爾和 ARM 為主的市場中,這種開源架構的形式很快吸引了很多研究者和市場。為此,ARM還曾建立專門網站,「攻擊」RISC-V 。有關RISC-V的研究可以追溯到10多年前的加利福尼亞大學伯克利分校。去年一系列大型半導體公司的併購現象,以及中美技術對峙的大背景推動了中國半導體界對RISC-V的進一步研究。2017年,無晶圓廠半導體公司SiFive憑藉其首個與Linux兼容的同類首創的多核CPU,正朝著將開源RISC-V架構推向包括機器學習和IoT的擴展用例世界邁進之前,RISC-V在DARPA的支持下進行了試探性的技術開發,最初只是被部分學者用於項目研究的工具,而無需為專有系統支付專利費。
一些美國人擔心,中國一旦掌握RISC-V開源項目,會形成「彎道超車」的效果。不過,單靠RISC-V還並不能解決中國晶片對外國供應商的依賴,中國仍然依賴其他外國技術,包括關鍵的晶片設計軟體和製造工具。據悉阿里集團正在開發一種性能高的RISC-V晶片,用來處理其數據中心的雲計算業務。



中芯國際或與ASML進行新談判,EUV仍是關鍵問題



就在今年10月份,ASML傳出消息可以向中國進口光刻機。然而,這家荷蘭公司強調了DUV光刻機,而非更先進的EUV(極端紫外線)光刻機。有網友對此消息表示:「DUV光刻機是二等品,自然不用受限。」EUV光刻機則是實現7nm的關鍵設備,如果中國大陸無法引入ASML的EUV光刻機,則意味著大陸將止步於7nm工藝。目前中芯國際訂購了一臺EUV。價格貴,但不是只買一臺的唯一原因,而是買多了,現在真用不上。有微電子博士解析,就這一臺,還是著眼於兩三代技術節點之後的產品研發(14nm ->10nm -> 7nm -> 5nm)。必須要用EUV的,是5nm以及以下,直到7nm,DUV都夠用。「三星,英特爾和臺積電瘋搶EUV,是因為他們目前就要用。三星和臺積電都已經開始攻堅3nm了。而中芯國際,在logic device領域,確實還是第二梯隊的,下一代和下下代研發,都不是非EUV不可,DUV完全夠用。需要多沉下心來多琢磨光刻工藝。」而更為重要的是,ASML是全球唯一一家能夠量產EUV光刻機的廠商。EUV光刻機的價格約為1.48億歐元,折合人民幣大概11.65億元左右(價格僅參考)。而且ASML的EUV光刻機也產量很低,供不應求,必然會優先考慮自己的大客戶,如臺積電等。而且,因為川普的禁令,中芯國際向ASML購買的那臺EUV,至今未收到貨。據悉,中芯國際7nm技術研發已經完成,今年4月就可以風險量產,5nm、3nm最關鍵、最艱巨的8大項技術也已有序展開,只等EUV光刻機到來。公司也正準備與ASML展開新的談判,促使EUV極紫外光刻機早日到來。





最後說點more thing,有人會好奇,ASML是荷蘭企業,怎麼還受到美國的控制呢?荷蘭ASML公司,其佔據了全球大部分的EUV光刻機市場,基本上實現了EUV光刻機的壟斷。
早在1980年代前,ASML飛利浦旗下的一家小公司。後來,ASML藉助臺積電推出第一臺浸潤式微影機,從此成為光刻機全球市場的王者。為了保持市場地位,擁有足夠的資金,荷蘭ASML公司想出了「利益捆綁」的合作模式向三個大客戶臺積電、三星和英特爾優先發貨。如此高的待遇,引來了這三家大公司分別向荷蘭ASML入股。但是,隨著ASML的不斷發展,這三家大客戶所持有的股份卻逐漸減少。時至今日,因為美國華爾街資本的買入,這三家公司手中的股份已經所剩無幾了。所以截至目前,在荷蘭ASML公司,美國資本國際集團是目前其最大的股東持有者,而其第二大股東也來自美國,叫做貝萊德集團。如今的ASML繞不開美國,據說ASML在美國的研發中心,甚至比荷蘭總部還要大,此外就更別提技術的重要性了。所以,雖然荷蘭ASML「壟斷」著全球光刻機市場,但核心資本仍握在美國手裡。https://www.reuters.com/article/us-asml-ceo/asml-ceo-sees-us-china-trade-antagonism-outlasting-trump-idUSKBN29J1OJ
https://www.wsj.com/articles/chinas-chip-independence-goals-helped-by-u-s-developed-tech-11610375472

 ——攜手與您進入技術科創新時代!——

宗旨:

technological breakthrough

聚焦我國煉油、石化、精細化工、材料領域!

匯聚傳播卡脖子新技術、高端裝備!

搭建技術供需方溝通橋梁,帶您進入技術科創新時代!

聯繫我們

如果您擁有或需求自主研發的行業領技術、裝備,國際卡脖子技術,突破關鍵瓶頸的顛覆性技術、裝備及資源信息,歡迎關注【油化材訊】公眾號。

相關焦點

  • 半導體晶片爆發 三大周期再度共振 開啟上行...
    指數高開高走 半導體板塊走強  今日兩市高開高走,半導體板塊開盤迅速走強,截至午間收盤,國家大基金持股漲近9%,第三代半導體、氮化鎵、中芯國際概念股、光刻膠、半導體及元件、集成電路等一系列半導體類板塊霸佔兩市板塊漲幅前列。
  • EUV光刻機是中國半導體行業的唯一癥結嗎?
    在中美關係緊張的大背景下,這顆「明珠」備受關注,其光環似乎已經蓋過了其他半導體設備,更是有聲音認為只要擁有一臺EUV光刻機,中國半導體產業的問題基本就能解決。但事實並非如此。如果將一臺光刻機的系統進行拆分,可以分為光源系統、掩模態系統、自動校準系統、調平調焦測量系統、框架減震系統、環境控制系統、掩模傳輸系統、投影物鏡系統、矽片傳輸系統、工作檯系統、整機控制系統、整機軟體系統等,這意味著如果想要讓一臺光刻機發揮出最大潛能,就需要各個系統保持高性能運轉。而為光刻機提供各個系統組件,本身就存在一定的壁壘。
  • 國產高端晶片若想突圍,EUV光刻機不是唯一短板,還面臨3大難題
    在中美關係緊張的局勢下,實現國產晶片安全可控,成為大眾的呼聲。不過,國產高端晶片想要突圍,就必須攻克EUV光刻機這一難題。 但要注意的是,光刻機並不是我國晶片產業的唯一短板,我國還面臨這3大難題。
  • 半導體材料行業專題報告:光刻膠,高精度光刻關鍵材料
    根據容大感光招股說明書,PCB 光刻膠平均銷售單 價約為 3.2 萬元/噸(不含稅),測算 2017 年中國溼膜光刻膠市場規模達到 15 億元。中國己成為全球最大的 PCB 光刻膠生產基地,內資企業崛起。
  • 2020年全球及中國光刻膠行業市場現狀及競爭格局分析 半導體光刻膠...
    原標題:2020年全球及中國光刻膠行業市場現狀及競爭格局分析 半導體光刻膠國產替代需求大   1、光刻膠行業基本概況分析
  • 拜登釋放三大信號,中美關係或迎來轉機
    2020年發生了很多事情,此前有人調侃稱,在座的各位都是歷史的見證者,現在眼看2021年即將到來,在國際關係方面,中美關係是否會迎來轉機?美國新總統拜登上臺後的對華政策將給中美關係帶來什麼變化?擺在中美面前的現實性難題又有哪些呢?對此,美國兩位國際政治學界大咖約瑟夫·奈和格雷厄姆·艾利森進行了深刻的分析,引發了人們的廣泛關注。
  • 90%市場被國外廠商壟斷 光刻膠國產化急需提速!-半導體,光刻膠,CPU...
    2018年,在市場產值為 322 億美金的半導體製造材料中,大矽片、特種氣體、光掩模、CMP材料、光刻膠、光刻膠配套、溼化學品、靶材分別佔比 33%、14%、13%、7%、6%、7%、4%、3%。分地區來看,目前大陸半導體材料市場規模 83 億美元,全球佔比 16%,僅次於中國臺灣和韓國,為全球第三大半導體材料區域。
  • 反超日本尼康,ASML光刻機「壟斷」全球的背後,中國專家功不可沒
    ASML光刻機並不是唯一說到光刻機人們自然而然就會想到荷蘭的ASML公司,目前來說全球能夠生產最為高端的光刻機,就是ASML公司,EUV光刻機是全球最頂級的光刻機。也正是因為這個技術的領先,因此ASML近年來在市場上的地位也是水漲船高已經佔據了大量的市場份額。
  • 半導體光刻機行業深度報告:復盤ASML,探尋本土光刻產業投資機會
    第二次工業革命就 是數碼產業的革命,據麥肯錫預測,2020 年全球數碼產業將佔全球企業總產值的 41%,而 半導體則成為數碼產業的基石。根據 WSTS 統計,2019 年全球半導體市場份額達 4090 億 美元,其中集成電路佔比達 81%,集成電路中的邏輯 IC 和存儲器是推動摩爾定律發展的主 要力量,兩者合計佔半導體整體市場規模的 52%,市場規模達 2127 億美元。
  • 拜登顧問敦促中美太空合作,但「堅冰」短時難以融化
    日前,據外媒報導,拜登的一些高級顧問敦促美國在太空領域與中國進行合作。報導指出,拜登的這些高級顧問認為,美中在有限空間內合作可以緩解兩國間緊張局勢,並且可以降低發生不穩定的太空競賽的可能性。那麼,拜登一些顧問的呼籲能推動中美太空合作嗎?
  • 半導體知識:光刻工藝流程
    光刻部分的主 要機臺包括兩部分:軌道機(Tracker),用於塗膠顯影;掃描曝光機(Scanning )        光刻工藝的要求:光刻工具具有高的解析度;光刻膠具有高的光學敏感性;準確地對準;大尺寸矽片的製造;低的缺陷密度。光刻工藝過程一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。
  • 佳能/尼康/阿斯麥三家製造商佔據全球超過90%的半導體光刻機市場
    按照計劃,今年3月份,佳能將時隔7年(自2013年來),面向市場推出新型光刻機「FPA-3030i5a」,這款新品較舊機型的生產效率提升了將近17%。 公開資料顯示,目前以日本佳能、尼康(Nikon)、荷蘭阿斯麥(ASML)為首的3家製造商佔據了全球超過90%的半導體光刻機市場。
  • 美大選如何牽動臺海局勢,川普拜登都不支持「臺獨」?
    美大選如何牽動臺海局勢,川普拜登都不支持「臺獨」?川普或拜登當選美國總統,臺海局勢會發生哪些變化?大陸研究兩岸關係的學者認為,不論二者誰入主白宮,都不會放棄用「臺灣牌」牽制中國崛起戰略意圖,也不會改變中美博弈的基本態勢;但也可以判斷,基於美國利益,川普和拜登都不會支持「臺獨」。二者不同之處在於,拜登是美國老牌政客,他若當選,則不會挑戰中美關係底線,因此臺海局勢的可預測性更強,其與蔡英文進行直接通話的可能性也不高。
  • 半導體國產化投資機會系列二:光刻膠,半導體製程關鍵材料
    本文將會為大家介紹半導體製程中最為關鍵材料,光刻膠。2019年下半年,日本限制對韓國的半導體的相關原材料的出口,其中包括了最重要的就是光刻膠。韓國是全球最大的半導體生產國之一,三星、SK海力士兩家公司就控制了全球超過50%的快閃記憶體、超過75%的內存生產,大量進口日本的原材料,日本政府希望用這些公司卡韓國脖子。
  • 拜登顧問:美國將中國視為最大對手,但中美太空合作非常重要
    據美國政治新聞網(Politico) 20日報導稱,儘管即將上任的拜登政府將中國視為在幾乎所有其他領域的最大經濟和軍事競爭對手,但當選總統拜登的高級顧問認為,美國與中國在太空探索方面合作非常重要。報導稱,拜登的高級顧問們主張,美國和中國之間有限的太空夥伴關係可以緩和緊張局勢,並降低發生不穩定太空競賽的可能性。
  • 2021年全球及我國半導體產業發展趨勢展望【完整版】
    ,近五年來中國和美國是全球半導體前兩個最大的市場,中國大陸對全球半導體市場的貢獻度在33%-35%左右,美國則長期維繫在20%左右。 目前來看產能供給緊張帶來的缺貨漲價情況已經遍布到行業內很多環節,從代工到封裝到設計,都以轉嫁成本為由,與客戶協商調漲價格。預計全球半導體產能緊張的局面還會延續至2021年,甚至在8寸產能上有可能延續至2022年。
  • 美國又幹了件蠢事,最大盟友向中國示好,拜登計劃還沒開始就結束
    看樣子,這回美國又幹了件蠢事,最大盟友向中國示好,拜登孤立中國的計劃還沒開始就結束了! 尤其是美國發起對中國的晶片制裁後,歐州半導體產業經濟受到波動。但令歐盟失望的是,美國一方面要求禁止對華供應晶片,卻另一方面在為自家的半導體企業大開綠燈,恢復了本土企業對華供應渠道。歐盟認為美國此舉就是藉助制裁計劃,將歐洲半導體踢出中國市場,讓美國企業代替。
  • 光刻膠—半導體核心材料,你了解多少?(附個股名單)
    光刻膠是一種技術門檻極高的電子化學品,主要應用於PCB、LCD和半導體等領域,目前高技術壁壘的LCD和半導體光刻膠主要是以進口為主,國內光刻膠主要還是集中應用在技術壁壘較低的PCB領域並開始逐漸向中端半導體光刻膠發展。
  • 半導體設備行業半導體系列10:計算光刻技術管控升級,光刻工藝設備...
    新版《瓦森納安排》是在原有版本基礎上,增加了一條針對EUV 光刻掩膜而設計的計算光刻軟體內容,並保留對符合光源波長短於193m,或MRF(最小可分辨特徵尺寸)小於或等於45m的光刻機的出口管制標準。計算光刻技術是通過對掩膜、光源的正向或反演優化,降低因光波衍射影響光刻效果的程度。計算光刻是採用計算機模擬、仿真光刻工藝的光化學反應和物理過程,從理論上指導光刻工藝參數的優化。
  • 中國12吋晶圓項目光刻機採購統計與光刻材料市場
    半導體用光刻機、光刻膠、光掩膜等的市場分別被國外龍頭企業如ASML、Canon、信越化學、JSR、住友化學、Fujifilm等企業所主導。目前中國半導體光刻產業鏈基礎薄弱,市場潛力巨大,發展空間廣闊。 ——光刻機,半導體製造的核心設備 光刻是集成電路製造的最關鍵、最複雜、耗時佔比最大的核心工藝,約佔晶圓製造總耗時的40%-50%。