PVD鍍膜蒸發鍍與濺射鍍工藝與區別解讀

2020-11-22 電子發燒友

PVD鍍膜蒸發鍍與濺射鍍工藝與區別解讀

發表於 2017-12-05 08:59:30

在手機蓋板領域，PVD鍍膜裝飾工藝的應用越來越廣，無論在金屬、玻璃、陶瓷及複合材料後蓋上，都需要PVD鍍膜，來提升手機蓋板的顏值及逼格，那麼如何通過鍍膜來提升產品的靚麗與品位呢？有哪些主流的工藝？今天我們來了解一下。

 

一、手機非金屬材料如何通過PVD鍍膜來提升靚麗與品位？

1. 玻璃內表面鍍反光膜

2. 玻璃外表面鍍AG、AF膜，增加手感，內表面鍍顏色膜

3. 複合板材鍍反藍光（冰焰藍）

3. 氧化鋯陶瓷及玻璃蓋板外表面鍍膜

二、PVD鍍膜蒸發鍍與濺射鍍膜區別

PVD鍍膜主要分為蒸發鍍、濺射鍍和離子鍍。今天，我們主要來比較一下蒸發鍍與濺射鍍。

蒸發鍍膜，是將膜料加熱蒸發為氣相後沉積到襯底表面，此種成膜方式決定了蒸發出的粒子能量只能在 0.1-0.3ev，原子動能太低，填充密度太低。

電子束蒸發的不穩定性及其內在機理：

 

影響種類 問題點 內在機理
溫度 成膜溫度影響產品顏色 溫度高填充密度高，漂移少
真空室氧化能力的影響 大清洗前波長偏長，之後偏短 *水蒸氣可以認為就是氧氣。
*鍍膜速度直接影響氧化能力，
即膜層中金屬或低價氧化物的比例。
*從坩堝裡蒸發出來的物質是高價氧化物、
低價氧化物和金屬單體的混合物，更多的金屬
單體或低價氧化物在充大氣後會俘獲更多的
氧原子，使膜層緻密。
空氣溼度大時膜層顏色不好控制
開爐時間長波長偏長
鍍膜慢波長偏長
膜料分解狀況的影響 貌似電子槍光斑大小有影響 *光斑位置影響光斑大小。
*燈絲變形也會帶來光斑大小的變化。
*掃描足夠快時是面蒸發，慢時依舊點蒸發，
這當然也相當於「光斑大小」問題。
*光斑小，蒸發區域溫度高，材料分解嚴重，
金屬單體和低價氧化物比例更高。
貌似光斑位置也有影響
貌似燈絲變形也有影響
貌似掃描快慢也有影響
………

 

磁控濺射鍍膜，通過在靶材與真空室壁之間施加電場，使氬氣電離，並使氬離子加速撞擊靶材表面。靶材被亞離子撞擊，靶材原子溢出並以數十甚至上百電子伏特的動能飛向被鍍基片表面並沉積在基底表面，原子動能較蒸發高出兩個數量級，填充密度高達98%，折射率高且穩定。  

打開APP閱讀更多精彩內容

聲明：本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人，不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用，如有內容圖片侵權或者其他問題，請聯繫本站作侵刪。 侵權投訴

相關焦點

  • 專欄PVD鍍膜技術之離子鍍技術
    在前幾期的薄膜專欄中，我們分別介紹了，真空蒸鍍以及濺射鍍膜（點擊連結看原文）傳統的蒸鍍以及濺射鍍膜均主要利用中性粒子成膜，膜層粒子到達基片時的速度較低
  • 離子鍍是什麼工藝,跟電鍍有區別嗎?
    離子鍍 離子鍍是一種在真空環境中，利用高壓氣體放電將鍍料蒸發後離子化，沉積在產品表面形成一層鍍膜的工藝。 離子鍍工藝出現於上世紀70年代，是一種新型的真空鍍膜工藝，離子鍍目的也是為了在產品表面鍍上一層防腐蝕層，以防止產品生鏽。
  • 廣東工業大學超高真空蒸發鍍及磁控濺射多室聯合鍍膜系統等設備...
    廣東金揚教育採購中心有限公司 受 廣東工業大學 的委託，於 2017年 3月 8日 就 廣東工業大學超高真空蒸發鍍及磁控濺射多室聯合鍍膜系統等設備採購項目 (重招) (招標編號： GDJY16082512HG256B)採用 公開招標 進行採購。
  • PVD鍍膜工藝技術
    物理氣相沉積的主要方法有，真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜，及分子束外延等。發展到目前，物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等。一、真空蒸發鍍膜電阻加熱蒸發和電子束加熱蒸發:1、基本原理:把待鍍膜的基片或工件置於高真空室內,通過加熱使成膜材料氣化(或升華)而澱積到基片或工件表面上,從而形成一層薄膜的工藝過程.
  • PVD鍍膜及其常用的靶材
    用於製備薄膜材料的物質被稱為 PVD鍍膜材料。濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜是最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。濺射靶材具有高純度、高密度、多組元、晶粒均勻等特點，一般由靶坯和背板組成。靶坯屬於濺射靶材的核心部分，是高速離子束流轟擊的目標材料。靶坯被離子撞擊後，其表面原子被濺射飛散出來並沉積於基板上製成電子薄膜。
  • 必須在真空環境才能操作,離子鍍是什麼「黑科技」?
    離子鍍離子鍍是一種在真空環境中，利用高壓氣體放電將鍍料蒸發後離子化，沉積在產品表面形成一層鍍膜的工藝。離子鍍工藝出現於上世紀70年代，是一種新型的真空鍍膜工藝，離子鍍目的也是為了在產品表面鍍上一層防腐蝕層，以防止產品生鏽。離子鍍技術雖然出現的時間短，但應用卻很廣泛，可以用於日常用品，工藝品，航天航空以及光學器件等工業領域。
  • PVD鍍膜的基本方式、材料種類及其競爭格局
    用於製備薄膜材料的物質被稱為 PVD鍍膜材料。濺射鍍膜和真空蒸發鍍膜是最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。真空蒸發鍍膜真空蒸發鍍膜是指在真空條件下，通過蒸發源加熱蒸發某種物質使其沉積在基板材料表面來獲得薄膜的一種技術。被蒸發的物質被稱為蒸鍍材料。蒸發鍍膜最早由 M.法拉第在 1857年提出，經過一百多年的發展，現已成為主流鍍膜技術之一。
  • 電鍍、電鑄、電泳、濺鍍及陽極氧化的區別
    濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都採用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdis-charge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材表面，電漿中的陽離子會加速衝向作為被濺鍍材的負電極表面，這個衝擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成薄膜。
  • PVD鍍膜工藝介紹!
    、磁控濺射離子鍍和複合離子鍍。鍍膜時間：20～30min。由於磁控濺射技術中金屬離化率低，不容易進行反應沉積，獲得化合物膜層的工藝範圍比較窄。可採用氣體離子源將反應氣體離化，擴大反應沉積的工藝範圍。也可以採用柱狀弧源產生的弧等離子體作為離化源，柱狀弧源還是輔助鍍膜源。(4)冷卻鍍膜結束後，首先關閉磁控濺射靶電源、偏壓電源，然後關閉氣源、停轉架。
  • 磁控濺射鍍膜設備原理
    直流濺射(DC Magnetron Sputtering)、射頻濺射(RF Magnetron Sputtering)、脈衝濺射(PulsedMagnetro n Sp uttering)和中頻濺射(Medium Fre2quency Magnetro n Sp uttering)直流濺射方法用於被濺射材料為導電材料的濺射和反應濺射鍍膜中,其工藝設備簡單,有較高的濺射速率
  • 電鍍小百科:濺射鍍膜介紹及其工藝原理
    慧聰表面處理網：濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量並逸出表面，沉積在基片上。濺射現象於1870年開始用於鍍膜技術，1930年以後由於提高了沉積速率而逐漸用於工業生產。     通常將欲沉積的材料製成板材──靶,固定在陰極上。
  • 真空濺鍍原理
    濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化, 造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加, 提高濺鍍速率。由於不同類型的離子鍍方法採用不同的真空鍍：鍍料氣化採用不同的加熱蒸發方式：蒸發粒子及反應氣體採用不同的電離及激發方式等。具體可分為氣體放電等離子體離子鍍、射頻放電離子鍍、空心陰極放電離子鍍、多孤離子鍍（陰極電弧離子鍍）。1、氣體放電等離子體離子鍍      其設備與真空蒸鍍設備基本類似，蒸發源與基材的距離為20~40cm。工件架對地是絕緣的，可對工件架加負偏壓。
  • 磁控濺射鍍膜設備原理是什麼
    磁控濺射鍍膜設備的工作原理要從一開始的「濺射現象」說起。人們由起初發覺「濺射現象」發展至「濺射鍍膜」此間歷經了相當長的發展時間，濺射現象早在19世紀50年代的法拉第氣體放電實驗就已經發現了。不過當時還只將此現象作為一種避免範疇的研究，認為這種現象是有害的。
  • 【漲知識】物理氣相沉積(PVD)技術究竟是什麼
    目前，常用的有三種物理氣相沉積方法，即真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍，其中，離子鍍在模具加工製造中的應用較廣。發展到目前，物理氣相沉積技術不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導體、聚合物膜等。
  • 半導體100問:PVD知識講解
    PVD鍍膜和PVD鍍膜機 —　　PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應於PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。　　近十多年來，真空離子鍍膜技術的發展是最快的，它已經成為當今最先進的表面處理方式之一。
  • 真空鍍膜技術
    真空鍍膜技術是氣相物理沉積的方法之一,也叫真空電鍍.是在真空條件下,用蒸發器加熱鍍膜材料使之升華,蒸發粒子流直接射向基體,在基體表面沉積形成固體薄膜.真空鍍膜的應用廣泛,如真空鍍鋁,在塑料等基體上進行真空鍍,再經過不同顏色的染色處理,可以應用於家具、工藝品、燈飾、鐘錶、玩具、汽車燈具、反光鏡及柔軟包裝材料等產品製造中,裝飾效果十分出色.
  • 「2018年度中國pvd鍍膜十大品牌總評榜」榮耀揭曉
    「2018年度中國pvd鍍膜十大品牌評選」是由品牌排行網主辦的全網範圍最廣、規模最大的品牌綜合實力排名評選活動。此次評選，徵集數萬網友投票、點評，經過多輪審核精選出行業品質出眾、人氣最旺的十大品牌。品牌排行網致力於推動中國消費方式品牌化，構建良好的消費環境。
  • 玻璃鍍膜的主要工藝有哪些?
    目前，我國已基本掌握了在線CVD法鍍膜技術，能夠穩定地生產矽質鍍膜玻璃、在線Low-E玻璃和在線自潔淨玻璃。在線鍍膜玻璃生產線如圖1所示。2，固體粉末噴塗法噴塗鍍膜技術是將一種或多種反應氣體或有機金屬鹽化合物溶液的霧化顆粒或有機金屬鹽粉末噴塗於熱玻璃表面而熱分解成膜的工藝方法。
  • 真空鍍膜在裝飾領域的應用
    1、真空蒸鍍和真空濺鍍的鍍膜的吸附性差異的原因？蒸鍍是附著，濺射是正負電極的強烈吸附，所以濺射的吸附更均勻密度也更大硬度也大，價格濺射比蒸鍍要貴10%——20%。2、為什麼真空鍍膜可以做成不同的顏色，還有七彩色？因為在真空蒸鍍完之後還要噴一層UV光油麵漆，這層面漆上可以做不同的顏色。
  • 建築鍍膜玻璃的分類
    鍍膜玻璃（Reflectiveglass）也稱反射玻璃。鍍膜玻璃是在玻璃表面塗鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的光學性能，滿足某種特定要求。鍍膜玻璃按產品的不同特性，可分為以下幾類：熱反射玻璃、低輻射玻璃（Low-E）、導電膜玻璃等。