半導體一些術語的中英文對照(收藏)

2021-01-16 ittbank

離子注入機:ion implanter


LSS理論:Lindhand Scharff and Schiott theory,又稱「林漢德-斯卡夫-斯高特理論」。


溝道效應:channeling effect


射程分布:range distribution


深度分布:depth distribution


投影射程:projected range


阻止距離:stopping distance


阻止本領:stopping power


標準阻止截面:standard stopping cross section


退火:annealing


激活能:activation energy


等溫退火:isothermal annealing


雷射退火:laser annealing


應力感生缺陷:stress-induced defect


擇優取向:preferred orientation


製版工藝:mask-making technology


圖形畸變:pattern distortion


初縮:first minification


精縮:final minification


母版:master mask


鉻版:chromium plate


幹版:dry plate


乳膠版:emulsion plate


透明版:see-through plate


高解析度版:high resolution plate, HRP


超微粒幹版:plate for ultra-microminiaturization


掩模:mask


掩模對準:mask alignment


對準精度:alignment precision


光刻膠:photoresist,又稱「光致抗蝕劑」。


負性光刻膠:negative photoresist


正性光刻膠:positive photoresist


無機光刻膠:inorganic resist


多層光刻膠:multilevel resist


電子束光刻膠:electron beam resist


X射線光刻膠:X-ray resist


刷洗:scrubbing


甩膠:spinning


塗膠:photoresist coating


後烘:postbaking


光刻:photolithography


X射線光刻:X-ray lithography


電子束光刻:electron beam lithography


離子束光刻:ion beam lithography


深紫外光刻:deep-UV lithography


光刻機:mask aligner


投影光刻機:projection mask aligner


曝光:exposure


接觸式曝光法:contact exposure method


接近式曝光法:proximity exposure method


光學投影曝光法:optical projection exposure method


電子束曝光系統:electron beam exposure system


分步重複系統:step-and-repeat system


顯影:development


線寬:linewidth


去膠:stripping of photoresist


氧化去膠:removing of photoresist by oxidation


等離子[體]去膠:removing of photoresist by plasma


刻蝕:etching


幹法刻蝕:dry etching


反應離子刻蝕:reactive ion etching,:RIE


各向同性刻蝕:isotropic etching


各向異性刻蝕:anisotropic etching


反應濺射刻蝕:reactive sputter etching


離子銑:ion beam milling,又稱「離子磨削」。


等離子[體]刻蝕:plasma etching


鑽蝕:undercutting


剝離技術:lift-off technology,又稱「浮脫工藝」。


終點監測:endpoint monitoring


金屬化:metallization


互連:interconnection


多層金屬化:multilevel metallization


電遷徙:electromigration


回流:reflow


磷矽玻璃:phosphorosilicate glass


硼磷矽玻璃:boron-phosphorosilicate glass


鈍化工藝:passivation technology


多層介質鈍化:multilayer dielectric passivation


劃片:scribing


電子束切片:electron beam slicing


燒結:sintering


印壓:indentation


熱壓焊:thermocompression bonding


熱超聲焊:thermosonic bonding


冷焊:cold welding


點焊:spot welding


球焊:ball bonding


楔焊:wedge bonding


內引線焊接:inner lead bonding


外引線焊接:outer lead bonding


梁式引線:beam lead


裝架工藝:mounting technology


附著:adhesion


封裝:packaging


金屬封裝:metallic packaging


陶瓷封裝:ceramic packaging


扁平封裝:flat packaging


塑封:plastic package


玻璃封裝:glass packaging


微封裝:micropackaging,又稱「微組裝」。


管殼:package


管芯:die


引線鍵合:lead bonding


引線框式鍵合:lead frame bonding


帶式自動鍵合:tape automated bonding, TAB


雷射鍵合:laser bonding


超聲鍵合:ultrasonic bonding


紅外鍵合:infrared bonding


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