在半導體領域中，晶片的地位可以說是牽一髮而動全身，一個沒有「大腦」的產品，什麼功能都實現不了。晶片太重要了，自然而然成為兵家必爭之地。而在這一賽道上一路領先的美國掌握了話語權，擁有對全球半導體市場的生殺大權。最典型的例子莫過於華為，9月15日之後，美國升級了斷供規則，直接讓華為無芯可用，因為華為有設計晶片的能力，卻無法大規模生產。
很多人寄希望於國內的晶片製造商，華為被人家欺負成這樣，自己人怎麼能置之不理呢？實際上，不管是臺積電還是中芯國際，生產設備中都含有一定比例的美國技術，一旦美國動起真格，它們也只能愛莫能助。
國產晶片製造主要卡在一個環節上——良品率，畢竟晶片需求都是以百萬計，殘次品佔比提高零點幾個百分比，都是一筆非常可觀的損失。目前，提高良品率最行之有效的是ASML的EUV光刻機，遺憾的是，它們家的光刻機有部分技術源自美國，受美國實體清單的影響，根本沒法賣給中國。
有人說乾脆咱自己造！這句話沒毛病，新中國剛成立那會兒，一沒技術二沒資金，不就是一步一個腳印幹出「兩彈一星」、「北鬥系統」等項目嗎？實際上，早在2008年，國家就啟動了扶持晶片設備的項目，計劃連續投資十年。那麼目前國產光刻機出來了嗎？它又是什麼水平？一位半導體產業專家坦言，目前國內能造出180nm製程的光刻機，目前尚處於試用階段！
按照製程，光刻機工藝可以分為180nm、90nm、65nm、45nm、22nm、14nm、7nm等，在這領域一路領先的ASML已經造出5nm製程的光刻機，也就是說，國產光刻機落後全球至少5代左右。
好消息是，國內半導體領域巨頭華為也將布局晶片製造，據外媒報導，華為將廠址選在了上海，並將在明年爭取實現45nm晶片量產。這是一個積極的信號，國產光刻機進展一定不會太快，但至少是一步一步在往前走。相信國產半導體擰成一股繩，一顆100%的中國芯指日可待！