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中文名稱：
物理氣相沉積
英文名稱：
physicalvapordeposition
其他名稱：
PVD法(PVD)
定義：
用物理方法(如蒸發、濺射等)，使鍍膜材料汽化在基體表面，沉積成覆蓋層的方法。
所屬學科：
機械工程(一級學科)；表面工程(二級學科)；氣相沉積(三級學科)
本內容由全國科學技術名詞審定委員會審定公布
英文指"phisicalvapordeposition"簡稱PVD.是鍍膜行業常用的術語.PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對應於PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機這三種。近十多年來，真空離子鍍膜技術的發展是最快的，它已經成為當今最先進的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。物理氣相沉積（PVD）物理氣相沉積是通過蒸發，電離或濺射等過程，產生金屬粒子並與反應氣體反應形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍三種，目前應用較廣的是離子鍍。離子鍍是藉助於惰性氣體輝光放電，使鍍料（如金屬鈦）氣化蒸發離子化，離子經電場加速，以較高能量轟擊工件表面，此時如通入CO2，N2等反應氣體，便可在工件表面獲得TiC,TiN覆蓋層，硬度高達2000HV。離子鍍的重要特點是沉積溫度只有500℃左右，且覆蓋層附著力強，適用於高速鋼工具，熱鍛模等。
責任編輯：劉婷
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