為什麼全世界只有2個國家能造出高端光刻機,到底有多難?

2021-01-07 大國將令視頻

從川普政府上任之後,美國一直在尋求平衡中美之間的貿易順差,但是卻沒有一個好的解決方式,因此到了後來,美國政府直接對中國發動了貿易戰,在幾個關鍵的領域卡中國的脖子。其中最讓仍感到氣憤和激動地就是針對華為的操作,作為中國本土的電子通訊巨頭,華為一直以來都致力於自行研發晶片,但是卻在研發的關鍵時期被美國死死地卡住了脖子,美國想要以此來逼迫華為就範。

很多人不明白為什麼華為能夠自行研發5納米的晶片架構,但是還是會被美國卡脖子呢?實際上最主要的原因就是光刻機的技術水平不夠。那麼製造高端光刻機有多難,為何中國造不出?有工程師表示:一個零件都要打磨10年。

新中國成立之後,中國就意識到了科技和軍事上的差距會讓一個國家遠遠的落後於世界,因此中國從一開始的時候就在科研領域投入了大量的資源,想要快速追趕上西方發達國家。隨著中國的科技不斷發展,中國也研製出了自己的光刻機,但是產出的晶片卻遠遠達不到量產7納米的水平,更別說現在最尖端的5納米晶片了。

到目前為止,國際上能夠製造高端光刻機的國家仍然只有荷蘭和日本這兩個國家,雖然中國這些年在光刻機領域做了不少的研究,但是從整體上來說,中國的光刻機水平和這兩個國家之間還有較大的差距。

當然即便是中國掌握了製造高端光刻機的技術,也不一定能夠成功製造出來,因為光刻機所用的零件非常複雜,高端光刻機的零件更是需要多個國家的工程師相互配合才能夠成功製造完成,這樣一來中國就算是想要研發高端光刻機,其他國家也不一定會賣。

中國曾經在荷蘭的AMSL公司定購了一臺製成足夠高的光刻機,但是由於國際形勢的問題,中國直到現在仍然沒有將這臺光刻機拿到手上,因此中國在晶片領域仍舊要被卡脖子。

實際上製造光刻機最大的難點仍然在於工業水平,由於光刻機的是用於製造納米級的晶片,因此其對於零件的要求非常苛刻,曾經有工程師坦言:其中有的零件,需要近十年時間的手工打磨,歷經數百次的調整,才能最終成型。

當然中國的工業水平和一些先進的西方國家確實還有一定的差距,但是相信隨著中國實力不斷的發展,未來的時間之中,中國也會擁有製造光刻機的能力。

光刻機其實只是中美貿易戰和西方國家限制中國技術的一個縮影,在過去的幾十年時間之中,中國一直都面臨著西方國家的技術封鎖,但是最終中國還是走出了自己的道路,因此中國的前路並不會迷茫。

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  • 為什麼全球只有2個國家能生產光刻機,背後的真實原因?
    摘要:如果沒有晶片,就製造不出手機;而如果沒有光刻機,就製造不出晶片;說起光刻機,可能很多人都不知道是什麼東西。其實,光刻機就是製造晶片的機器設備,如果沒有光刻機,就無法生產晶片。所以,光刻機對於晶片製造非常重要。那麼,為什麼全球只有2個國家能生產光刻機,究竟怎麼回事?
  • 華為能不能獨立造出光刻機?
    給足資源,給足時間,華為能造出光刻機,但短時間獨立造出光刻機就基本不可能了。畢竟光刻機是工業製造的皇冠。我們來仔細看一下造光刻機到底有多難。1、光刻機的組成及要求這是一張ASML光刻機的簡易工作原理圖。整個光刻機是在控制雷射將掩膜版上的電路圖微縮顯影到矽片上。
  • 光刻機的精度有多難?
    荷蘭的一臺光刻機,憑什麼值1.2億美元一臺,他的技術真的有那麼難嗎? 一臺光刻機的零件就超過10萬個,而且90%都得從其他國家進口。 先從光源說起,E uv光刻機的光源來自XYmer,波長為13.5納米。
  • 全球那麼多國家,為什麼只有荷蘭ASML,才能製造頂級光刻機?
    為什麼全世界只有荷蘭能夠製造頂級的光刻機?這個問題,相信大家都想知道答案。我們都知道,荷蘭的ASML光刻機已經可以量產7納米的晶片,2020年,ASML更是步入5納米的光刻機時代。反觀我們的國產光刻機,現在還停留在96納米,雖然28納米的光刻技術已研發成功,但與ASML光刻機技術還是相差甚遠。那麼,為什麼現在只有ASML能生產頂級光刻機呢?一、ASML集百家之長。雖然ASML光刻機,掛的是ASML品牌的牌子,但只靠ASML一家公司是生產不出來的。
  • EUV光刻機到底是什麼?為什麼這麼貴?
    EUV光刻機到底是什麼?為什麼這麼貴? 為什麼需要EUV光刻? 當然大家一定想知道為啥同一光源為什麼可以衍生出這麼多不同工藝節點,以Intel為例,2000年用的是180nm,而現在已經是10nm了,其實光刻機決定了半導體工藝的製程工藝,光刻機的精度跟光源的波長、物鏡的數值孔徑是有關係的,有公式可以計算:光刻機解析度=k1*λ/NA。
  • 原子彈我們都造出來了,還怕光刻機嗎?造一臺光刻機到底有多難?
    基本原理聽起來非常簡單,然而在做的時候,有2個方面難題。一是獲取濃度較高的的核燃料,二是還要有不同層次的科學技術專業人才,如此這般才可以進行核武器那樣一個複雜化的系統工程。咱們當初造核武器,鈾礦我們不缺,燃料我們可以自個提煉。
  • ASML是唯一能製造極紫外光刻機的廠商,高端晶片製造到底有多難?
    生產晶片最重要的設備是光刻機,世界上先進的光刻機主要由荷蘭一家名為阿斯麥(ASML)的公司製造,市場佔有率超過80%,而其中最先進的極紫外光刻機(EUV光刻),全世界只有ASML一家公司能製造。光刻機是當今世界科技領域的集大成者,是人類當前科技的巔峰產物,ASML之所以能製造最先進的光刻機,也是因為特殊的股權結構,使得ASML能匯集當前各項前沿科技,整合各種零部件。
  • 號稱「比兩彈一星還高端的光刻機」,到底難在哪裡?
    仍然是困擾我國晶片產業的現實寫照意識的覺醒讓我們開始奮力追趕中國在晶片領域和世界先進水平逐年拉近但有一項卡脖子的難題至今仍然讓中國人難以望其項背這就是光刻機領域上期我們講過荷蘭光刻機霸主ASML的故事作為整個西方尖端科技託舉起來的半導體明珠加上英特爾、臺積電、三星的鼎力支持其生產的光刻機的毛利可以達到
  • 日本光學技術全球第一,可高端光刻機為何只有荷蘭能造?
    ,很多科學家,工程師能夠參與高端光刻機的設計和製造,就已經代表其在業內的頂尖水準了。一臺光刻機能夠被製造出來,需要十萬個零部件,各種精密的儀器都至關重要。業內有工程師透露,高端光刻機一個零部件的調試就需要花費十年時間,核心子系統更是需要各國頂尖的大公司才能提供。比如較為重要的光學技術幾乎都被日本企業所把控。
  • 中國奮力攻克,號稱晶片技術核心要點,高精度光刻機到底有多難?
    SAML的高端光刻機當代能夠生產光刻機的國家不夠一手之數,有能力生產高端光刻機的更少,目前國際上的高端光刻機主要生產國只有日本與荷蘭,其中又以荷蘭ASML為翹楚,日本尼康主要依靠英特爾扶持,用以制衡ASML,在競爭失敗後全面轉向低端領域,形成了如今國際市場ASML獨大的局面,也一定程度上促成了高端光刻機價格的飆升。
  • 荷蘭ASML到底有多厲害,為什麼只有ASML才能製造出頂級光刻機?
    大家都知道,目前我國光刻機技術至少落後荷蘭ASML15年,目前荷蘭ASML的頂級光刻機可以達到7nm工藝,目前他們正大研發5nm工藝光刻機;而中國目前能夠量產的光刻機是90nm的工藝,差了10幾倍,光刻機製造真的有這麼難嗎?光刻設備是一種投影曝光系統,由紫外光源、光學鏡片、對準系統等部件組裝而成。
  • 高端光刻機技術——《集成電路與光刻機》|周末讀書
    光刻機是集成電路製造的核心裝備,其技術水平決定了集成電路的集成度,關乎摩爾定律的生命力。    王向朝研究員談光刻機難在哪兒(視頻來自中國雷射微信公眾號「五分鐘光學」專欄)  光刻機是迄今為止人類所能製造的最精密的裝備。
  • 華為有能力造出自己的光刻機嗎?
    ,不錯,是有,但這個光刻機要比別人落後幾代。簡單說,我們的光刻機還處在小學文化水平,別人已是高中甚至大學文化水平了。因此,即便華為有能力、有資金研究光刻機,但在幾年甚至幾十年內也無法生產、製造出當前最尖端的光刻機。----這就是現實!
  • 淺談光刻機
    但是光刻機的技術含量是非常高的,是目前地球上技術含量最高,研發難度最大的產品之一,所以很多國家都不具備生產研發光刻機的實力,即便有些國家在航空航天,飛機大炮等方面技術很先進,但在光刻機面前卻無從下手,由此可見,光刻機的技術層面到底有多高。其次,工藝原理:光刻技術指利用光學-化學反應原理,將電路圖轉移到晶圓表面的工藝技術,光刻機是光刻工序中的一種投影曝光系統。
  • 兵進光刻機,中國晶片血勇突圍戰 - 光刻機,ASML,華為,臺積電,中芯...
    六、EUV光刻機,到底難在哪裡?可能有IT之家小夥伴會問:為什麼只有ASML能造出EUV光刻機呢?這個EUV光刻機到底難在哪裡?我們首先需要明白EUV光刻機的工作原理。當然,細節極度複雜,汐元儘量用簡單的話講清楚。上一節我們講過,光刻這部分原理其實很簡單,就是讓光透過寫有電路圖的多層光罩,將電路圖顯影在晶圓上。
  • 光刻機是什麼?為什麼荷蘭的最流弊
    光刻機,被稱為現代光學工業之花,製造難度非常大,全世界只有少數幾家公司能夠製造。其售價高達7000萬美金。用於生產晶片的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
  • 光刻機為什麼這麼重要?
    對於光刻機的概念,「光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工藝要經歷矽片表面清洗烘乾、塗底、旋塗光刻膠、軟烘、對準曝光、後烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。
  • 世界上最先進的EUV光刻機,為什麼只有荷蘭阿斯麥公司做出來了?
    阿斯麥憑藉浸沒式光刻技術實現彎道超車,而且一舉擊潰尼康,自此成為全球頭號光刻機設備廠商;2010年以後,阿斯麥全力打通EUV光刻機產業鏈,且成功推出EUV光刻機,在高端光刻市場佔據絕對壟斷的地位。也可以說,全球有且只有阿斯麥一家廠商,能夠向臺積電、三星電子和英特爾等下遊客戶出貨EUV光刻機。阿斯麥長期致力於打通全球光刻產業鏈。
  • 高端光刻機有多難,為什麼中國做不出?工程師:一個零件打磨10年
    晶片技術無疑是電子產品的核心,更是一個國家科技實力的顯著體現。我國一直致力於晶片技術的研究,投入了大量人力物力,但在生產晶片所需要的光刻機上,我國的自主研發卻一直沒能成功。光刻機或許對非專業人士來說是一個非常陌生的名詞,而這種機器的製造又難在何處呢?
  • 極紫外光刻機研製究竟有多難
    因為,製造高端晶片所用的光刻機,如今已越來越顯示出它在半導體領域的地位和作用,被譽為半導體工業「皇冠上的明珠」。 超大規模集成電路晶片,特別是高端晶片,一般要經過設計、製造、封裝與測試等一系列流程。其中,晶片製造最為複雜,它涉及50多個行業,需要經過2000至5000道工藝流程。