現如今，隨著我國改革開放的進行，國家的經濟得到提升，我國在許多領域上都有著顯著的進步與突破。例如我國的科技領域、勘探領域、貿易領域、製造業領域、基建領域等，都讓許多國家為之刮目相看，可見中國發展速度之快了。
眾所周知，在全球範圍內僅有幾家廠商，能夠提供光刻機的設備，而荷蘭的ASML更是壟斷了國際的絕大部分市場。而如今上海又出什麼大事？新一代光刻機即將問世，自給自足有望再次提前，就讓我們一起來看看吧！
原來是我國上海微電子的一次重大突破，上海微電子股份有限公司，致力於發展半導體裝備、高端只能裝備開發、設計與製造，是我國半導體行業中非常重要的存在。可以說從某種層面上來看，上海微電子股份有限公司，代表的便是我國光刻機技術的最高水平。
而中國的晶片發展，離不開光刻機設備，但因為美國的幹擾，導致我國無法從荷蘭進口到先進的EUV光刻機，晶片研究一度陷入停滯狀態。但今日上海微電子卻傳出消息，將有望於2021年交付下一代DUV光刻機，會使用日本的一些零部件，但不會使用美國的任何零部件。
雖然目前只是傳聞，但若是真實存在的話，那麼上海微電子將有望在兩年內，研發出28納米製程工藝節點的光刻機，是我國在光刻機領域上一次「裡程碑式」突破。等待下一代光刻機的面試，我國光刻機的自給自足將有望提前。
不得不說，如今中國在各個領域上，都得到了世界各國的認可與支持，即使美國持續「打壓」中國，但在科研人員的不懈努力下，依舊無法停止我們的腳步。對於這件事卻能夠，你是怎麼看待的呢？歡迎在評論區說出你的看法和見解哦！