晶片製造離不開光刻機，而在光刻機領域內，ASML的技術最為先進，先後超越尼康等廠商，成為全球最大的高端光刻機生產商。
數據顯示，全球中高端市場上的光刻機，幾乎都是ASML研發生產的，其中，DUV光刻機主要用以生產7nm以上的晶片，而EUV光刻機則是生產7nm以下的晶片。
最主要的是，EUV光刻機是生產7nm以下晶片的必要設備，離不開它，即便是臺積電等也無法量產7nm以下的晶片。
也正是因為如此，國內晶片巨頭才表示，5nm和3nm製程的晶片，最關鍵、也是最艱巨的8大項技術也已經有序展開，只待EUV光刻機的到來，就可以進入全面開發階段。
也就是因為EUV光刻機重要，臺積電拿出151億美元購買新設備等，預計在2021年安裝超50臺EUV光刻機。
三星李在鎔也親自訪問ASML，目的是協商購買更多EUV光刻機，提高晶片良品率和產能。
可以說，ASML的EUV光刻機是非常搶手，甚至是供不應求。但誰沒有想到的是，ASML卻突然傳來噩耗。
據悉，ASML方面表示，新一代NA EUV光刻機基本上完成設計，預計在2022年開啟商用計劃，其將用於生產2nm、1nm等更為先進位程的晶片。
但是，新一代NA EUV光刻機雖然更為先進，但缺點也很明顯，相比EUV光刻機而言，其體積更大，高度將會非常接近天花板，這意味著安裝NA EUV光刻機需要更大的空間。
另外，NA EUV光刻機售價更高，高達4.5億美元，幾乎是EUV光刻機的4倍，折合人民幣約30億元。
還有一點就是，NA EUV光刻機之後，ASML就不再追求更先進的光刻機，而是追求環境友好型光刻機。
簡單說就是，ASML研發生產的光刻機，可能在1nm就嘎然而止了，這意味著，矽晶片的工藝，也可能就停留在1nm了。
臺積電首當其衝
ASML傳來的噩耗，臺積電首當其衝，對臺積電的影響最大。
首先，臺積電目前是ASML光刻機的最大客戶。
據悉，新一代NA EUV光刻機體積更大、成本更高，這意味著臺積電要花費更多的資金建設更大的廠房以及購買設備。
除此之外，臺積電也別無他法，畢竟其嚴重依賴ASML的光刻機。
但外部形勢對於臺積電很不利，一方面是因為臺積電不能自由出貨，至今都沒有拿到自由出貨，這已經導致其失去第二大客戶的訂單，每年損失超過360億元。
另外一方面是因為三星不斷與臺積電爭奪訂單，已經搶走了高通、英偉達等訂單，而國內14nm以上工藝的晶片訂單也紛紛流向三星。
再加上，三星已經明確表示，將向全球晶片企業替代晶圓代工服務，甚至通過降價的方式爭奪訂單，而臺積電卻在變相對晶圓代工進行漲價。
更何況，三星將會在2022年量產採用GAA技術生產3nm晶片，而臺積電計劃在2nm晶片上採用GAA技術，3nm的晶片仍採用FinFET技術。
也就是說，臺積電在新一代NA EUV光刻機和廠房建設上的投入越大，其風險也就越大。
其次，臺積電一直都在追求技術領先，這也是臺積電堅持使用美系技術的主要原因。
ASML已經表示，NA EUV光刻機將是極限，這意味著，1nm製程的矽晶片也將是極限，而臺積電也將停留在1nm的製程上，等待被其它廠商追上。
都知道，臺積電主要業務就是晶圓代工，一旦其它廠商追上來，對臺積電影響很大，其不像三星，畢竟三星還有手機、屏幕、快閃記憶體晶片等。
也正是因為如此，才說ASML傳來噩耗，臺積電首當其衝。對此你們怎麼看，歡迎留言、嗲贊、分享。