光刻機剛結束,中國又一技術突破封鎖,這就是中國速度?

2020-12-22 劉雅寧說遊戲

閱讀本文之前，可以先點擊右上方的「關注」，每天持續更新文章，帶給您不一樣的精彩體驗，想要了解更多內容，可以點擊關注，謝謝支持！

今年發生了很多的事情，除了世界衛生事件之外，我國還遇到了很多的問題，其中之一就是我國的光刻機受到了技術封鎖，美國甚至還停止了晶片的出口，雖然只叫停了很短的時間，但還是對我們造成了一定的影響，事情接二連三的發生，讓我們意識到了一個問題，那就是我們的技術需要提升一下了！

現如今，我國在光刻機領域投入了很多的人才跟資金，目的就是想要儘快研發出來，加大了研發的力度之後，最終得到的結果當然也是好的，中國在光刻機領域已經取得了很大的進步，而且在光刻機問題剛剛得到解決之後，我國的另外一項技術就得到了突破！

現如今，我國在真空蒸鍍機方面取得了巨大的進步，這一技術的難度是更大的，而且這種機器的價格更高，光刻機的價格只有1.2億美元，但一臺真空蒸鍍機的價格卻超過了10億元，所以我國在這個領域實現了技術突破之後，肯定能夠得到更大的利益，無論是出口還是自己使用，對自己都是很有利的！

隨著時代的發展，我國在各個領域都會取得巨大的進步，也將會取得更大的技術突破，甚至自己的技術能夠領先全世界，讓大家都跟著我們的進步前進，對此，大家怎麼看呢？

感謝您的閱讀，喜歡文章可以點讚支持一下，有想法可以留言評論，文章有任何的錯誤也歡迎大家多多指點，編者一定會努力改正的，多謝指教，感激不盡！

部分圖片來源於網絡，如有侵權，請聯繫作者刪除，謝謝！

版權聲明：原創文章，抄襲必究！

相關焦點

  • 中國光刻機迎來重大突破,美不願意看到的事情發生了
    「中國速度」一直以來都是很多國家好奇和羨慕的速度，短短幾十年，中國就從一窮二白的國家成了世界第二大經濟體，在各個方面都有世界領先的存在。就是因為以美國為首的西方國家，對我國實施經濟和科技封鎖，還有各種各樣的打壓，造就了我國面對困境迎難而上、堅韌不拔的心理。
  • 光刻機中國能造嗎_為什麼中國生產不了光刻機
    雖然和世界先進水平有著不小的差距，但是這些年來中國一直在努力突破技術上的落後和封鎖，國家的「十二五」、「十三五」規劃也在半導體行業的各個領域都有相應的布局。 　　2017年，由長春光機所牽頭承擔的國家科技重大專項02專項——「極紫外光刻關鍵技術研究」項目順利完成驗收。
  • 中國全力開發「冰刻2.0」技術,能否助力打破光刻機技術封鎖
    為了突破美國的技術封鎖，中國政府和企業開始積極應對，在國內尋找和研發各種替代技術及產品。其中生產半導體的核心光刻技術，更是重中之重。而中國西湖大學的光學工程教授仇旻所領導的團隊，正在全力研發被稱為「冰刻2.0」的微納工藝技術，有可能助力打破光刻機技術封鎖。
  • 中國光刻機打破封鎖!荷蘭ASML曾放出「狠話」,現在想收回了?
    在臺積電代加工晶片的過程中，先進的光刻機無疑發揮著重要的作用，而全球最有名的光刻機都是出自於一家公司生產，它就是荷蘭的ASML公司，這一公司能夠生產全球最頂尖的光刻機，而臺積電就是荷蘭
  • 美國的封鎖有用嗎?德國專家:別忘了光刻機也離不開中國技術
    但是搶打出頭鳥，也正是因為中國在5G上的驚人發展，讓美國投來警惕的目光，開始對中國實行一輪又一輪的技術封鎖，這無疑給中國5G通訊技術發展帶來了諸多阻擾，但是美國最終真的能得逞嗎？當美國還在為其各方打壓中國沾沾自喜時，德國科學家卻說：別忘了光刻機也離不開中國的技術。這到底是怎麼回事，中國能在這場科技戰中凱旋而歸嗎？
  • 突破美方封鎖,國產光刻機問世,美媒震驚:藏得太深!
    上海微電子創下了奇蹟，攻克22nm光刻機技術，這是光刻機國產化進程中所向前跨越邁出的重要一步，相較日本，在技術上我國已然超越，如今僅次於荷蘭。美媒對此評論，我國企業藏得太深，竟在如此短的時間裡獲得突破，令人意想不到。此外則有人表示ASML又白忙了。雖該公司此前已宣布願為我國提供ASML光刻機，但現在看來我國已經不需要。
  • 中國又出什麼事?光刻機核心技術被突破,外媒:蓋茨「神助攻」
    目前我們遇到的最大困難，就是缺少光刻機和製造晶片的技術，而且這些技術至少需要十幾年甚至幾十年的技術沉澱才能夠完全掌握，短期內中國晶片領域會面臨非常大的壓力，不過中國的企業也不是吃素的
  • 國產光刻機突破22納米,差距還很大,為啥科研人員如此興奮?
    如今在中國的大街小巷和餐館排擋，要說什麼話題最火，那莫過於「華為5G」和「晶片」這兩個話題了。 在這個節骨眼上，偏偏美國又開始歇斯底裡的打擊中國科技企業，企圖拖慢整個中國的半導體領域發展進程，因此我們很著急，我國何時才能突破晶片的技術封鎖呢？
  • 中國科技傳來捷報,國產5nm蝕刻機突破技術封鎖,華為陸續跟進
    中國科技傳來捷報，國產5nm蝕刻機突破技術封鎖，華為陸續跟進眾所周知，在現代科技領域，半導體行業的發展，尤其是晶片領域的發展，一向被視為中國技術的短板所在，美國也是基於抓住了我國這一劣勢，才得以一再出手，分別對我國的中興企業以及華為企業施壓。
  • 美國封鎖付諸東流,量子計算機「九章」問世,光刻機還有市場嗎?
    光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，可以稱得上是晶片製造的核心裝備。它採用類似照片衝印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印製到矽片上。當然，光刻機是生產CPU的必備設備，這些年，因為美國對這項研究技術的封鎖，中國很難買到最先進的光刻機，所以這些年，即使再先進的電路設計也只能停留在圖紙上，無法進行實際的製造！
  • 打破日本技術壟斷,中企巨頭突破晶片材料,關鍵性堪比光刻機
    如果說光刻機是製造過程中必不可少的設備，那麼光刻機就是保證製造晶片前的關鍵。 因為在光刻膠產業有著極大的話語權，所以不少國家都要選擇與日本合作，進購光刻膠。日本長期維持對光刻膠的壟斷，但中國企業傳來好消息，突破了關鍵晶片材料，打破壟斷。
  • 「光刻機之國」表態,華為已另闢蹊徑,美封鎖毫無意義
    說起來華為之所以會受到美國的打壓，就是因為華為在晶片上存在著短板，這倒並不是說華為的錯，而是整個中國都面臨這缺芯少魂的問題，雖然我們不想承認，但這也是不得不承認的事實。連鎖反應即便目前已經過去了三四個月的時間，但此次禁令對於我們的影響卻依舊存在。晶片禁令規則被修改之後，華為成為了美國對準的第一個矛頭。但是縱觀全球領域範圍內，受到此次事件影響的絕對不僅僅只有華為。
  • 血戰光刻機 | 兵進光刻機,中國晶片血勇突圍戰
    光刻機，被稱為現代光學工業之花，製造難度非常大，全世界只有少數幾家公司能夠製造。其售價高達7000萬美金。用於生產晶片的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
  • 五十六年前我國研製出原子彈,如今卻頭疼光刻機技術,這是為何?
    在很苛刻的條件下，最終憑藉著自己的力量，在1964年10月16日下午3點整羅布泊實驗上爆炸出第一片蘑菇雲，至此誕生了中國擁有原子彈的研發技術。而如今在一系列的禁令之下，半導體領域就出現了一個特別大的難題。有關於光刻機方面的製造，確實是半導體領域致命的短板。如今製造光刻機的難度，毫不遜色於當年製造原子彈。但有人疑惑，原子彈和光刻機到底有沒有可比性？
  • 國內晶片技術實現突破!新型材料製造晶圓,未來光刻機或被淘汰?
    前言：當前晶片的製造都離不開光刻機，特別是高端製程晶片。DUV深紫外光刻機只能生產7nm以上晶片的製造，要想生產6nm以下的晶片，必須使用EUV光刻機。但是EUV光刻機每年的產量只有20臺左右，再加上美國的限制，EUV光刻機很難進口到中國。
  • 中科院設置騙局,光刻機作為誘餌,中國芯突破物理定義!
    光刻機到底有多重要？要知道想做出晶片，光刻機是不可或缺的裝備，而且這種裝備也不是說你有錢就一定能買到的。所以我國就面臨著光刻機的供應問題，而荷蘭ASML公司是光刻機公司中的世界巨頭，世界上叫的出名號的光刻機幾乎都是由ASML公司研發的，可以說整個國際市場中都有他們生產的光刻機的身影。巧的的是我們無法獲得ASML的支持。
  • 光刻機技術的難點是什麼?中國有沒有能造光刻機的企業?
    光刻機的生產公司屬於中遊，其中比較著名的就是荷蘭的ASML公司，幾乎壟斷了光刻機市場80%的份額。那麼，光刻機技術究竟有哪些難點，為何ASML公司能夠一家獨大？我國當前有哪些製造光刻機的公司呢？製造光刻機的技術難點我們先來簡單的了解一下光刻機工作的技術原理。當我們製作晶片的時候，電路圖經過光刻機投放至底片（塗滿光刻膠的矽片），光刻機不斷蝕刻掉光刻膠，露出矽面之後做化學處理，不斷反覆的蝕刻，直到晶片製作完成。
  • 外媒:中國晶片和光刻機均取得突破,朝半導體獨立又邁進了一步!
    用這個哲理，來形容當下中國晶片製造的曲折過程再適合不過了。有人說，中國能製造媲美美國晶片之時，就是中國全面超越美國之日；也有人說，若中國晶片之路走通了，華為也就走通，中國將通向真正的盛世！美國在半導體領域對中國「掐脖子」的嘗試，誠如國際分析家預測的那樣，喚醒了一個沉睡的巨人——中國打算從頭到尾建立一個完整的晶片生態鏈。
  • 中企花7500萬買下二手光刻機,將布局高端光刻膠市場
    被西方禁止中國進口晶片後，怎麼擁有高端晶片就成為中國有志之士的痛，要想製造晶片，首先就需要光刻機，光刻機的製造難度異常巨大，荷蘭ASML公司全球光刻機最先進的，他的光刻機供應鏈非常全面，ASML光刻機佔全球市場的85%，幾乎壟斷了整個光刻機市場。
  • 晶片製造的核心材料,地位堪比光刻機,中企打破日本技術壟斷
    例如光刻膠，這類又稱為光致抗蝕劑的混合液體是晶片光刻流程中高精尖的核心材料，地位絲毫不亞於光刻機。根據產業鏈調研數據，在集成電路製造工藝中，光刻工藝的成本佔比高達35%，耗費的時間佔比達到40%-60%。由此可見，無論是光刻機還是光刻膠，都會對技術有非常高的要求。