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外媒:中國晶片和光刻機均取得突破,朝半導體獨立又邁進了一步!
用這個哲理,來形容當下中國晶片製造的曲折過程再適合不過了。有人說,中國能製造媲美美國晶片之時,就是中國全面超越美國之日;也有人說,若中國晶片之路走通了,華為也就走通,中國將通向真正的盛世!美國在半導體領域對中國「掐脖子」的嘗試,誠如國際分析家預測的那樣,喚醒了一個沉睡的巨人——中國打算從頭到尾建立一個完整的晶片生態鏈。
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中國光刻機迎來重大突破,美不願意看到的事情發生了
這不,西方國家開始圍堵我國的晶片產業的時候,就有人預測,這是在逼中國成長。如今我國傳來了振奮人心的好消息,中國的光刻機迎來了重大突破,從之前的90nm直接突破到現在的28nm,中國芯又一次突破了。光刻機是晶片生產中非常關鍵的設備,如果光刻機不先進,那肯定造不出來性能優質的晶片,所以光刻機的先進程度決定了晶片的先進程度。
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光刻機中國能造嗎_為什麼中國生產不了光刻機
光刻機中國能造嗎_為什麼中國生產不了光刻機 網絡整理 發表於 2020-03-18 10:52:11 光刻機中國能造嗎 光刻機被稱為「人類最精密複雜的機器
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晶片製造的核心材料,地位堪比光刻機,中企打破日本技術壟斷
在晶片製造過程中,光刻機是不可或缺的核心設備,蝕刻機雖然重要程度不及光刻機,但對於晶片蝕刻環節而言卻相當重要。除了光刻機、蝕刻機等硬體設備外,材料的重要性在晶片製造環節同樣不容忽視。例如光刻膠,這類又稱為光致抗蝕劑的混合液體是晶片光刻流程中高精尖的核心材料,地位絲毫不亞於光刻機。根據產業鏈調研數據,在集成電路製造工藝中,光刻工藝的成本佔比高達35%,耗費的時間佔比達到40%-60%。由此可見,無論是光刻機還是光刻膠,都會對技術有非常高的要求。
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打破日本技術壟斷,中企巨頭突破晶片材料,關鍵性堪比光刻機
大家都知道光刻機對晶片生產有很重要的意義,但實際上晶片製造關鍵之一也包括了光刻膠。 因為在光刻膠產業有著極大的話語權,所以不少國家都要選擇與日本合作,進購光刻膠。日本長期維持對光刻膠的壟斷,但中國企業傳來好消息,突破了關鍵晶片材料,打破壟斷。
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光刻機剛結束,中國又一技術突破封鎖,這就是中國速度?
今年發生了很多的事情,除了世界衛生事件之外,我國還遇到了很多的問題,其中之一就是我國的光刻機受到了技術封鎖,美國甚至還停止了晶片的出口,雖然只叫停了很短的時間,但還是對我們造成了一定的影響,事情接二連三的發生,讓我們意識到了一個問題,那就是我們的技術需要提升一下了!
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血戰光刻機 | 兵進光刻機,中國晶片血勇突圍戰
國產光刻機,走在曲折但奮進的路上ASML雖然偉大,但畢竟是別人家的。對於中國來說,只有自己掌握了核心科技,才能不被外界掣肘。中國對光刻機的研究起步並不晚,大概在上世紀70年代,早期的型號主要是接觸式光刻機。所謂接觸式光刻機,也就是光罩貼在晶圓上的。中科院1445所在1977年研製出了一臺接觸式光刻機,比美國晚了二十年左右。
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國內晶片技術實現突破!新型材料製造晶圓,未來光刻機或被淘汰?
前言:當前晶片的製造都離不開光刻機,特別是高端製程晶片。DUV深紫外光刻機只能生產7nm以上晶片的製造,要想生產6nm以下的晶片,必須使用EUV光刻機。但是EUV光刻機每年的產量只有20臺左右,再加上美國的限制,EUV光刻機很難進口到中國。
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中科院突破5nm光刻技術壟斷?事實殘酷卻又是把雙刃劍
該論文的通訊作者博士生導師劉前特別強調,「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」是一個誤讀,超解析度雷射光刻技術與極紫外光刻技術是兩回事。中科院研發的5nm超高精度雷射光刻加工方法的主要用途是製作光掩模,因為目前國內製作的掩模板主要是中低端的,裝備材料和技術大多來自國外。
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光刻機技術的難點是什麼?中國有沒有能造光刻機的企業?
光刻機的生產公司屬於中遊,其中比較著名的就是荷蘭的ASML公司,幾乎壟斷了光刻機市場80%的份額。那麼,光刻機技術究竟有哪些難點,為何ASML公司能夠一家獨大?我國當前有哪些製造光刻機的公司呢?製造光刻機的技術難點我們先來簡單的了解一下光刻機工作的技術原理。當我們製作晶片的時候,電路圖經過光刻機投放至底片(塗滿光刻膠的矽片),光刻機不斷蝕刻掉光刻膠,露出矽面之後做化學處理,不斷反覆的蝕刻,直到晶片製作完成。
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中科院研發者回應5納米光刻技術突破ASML壟斷
圖截自官網ACS官網消息一經發出,外界一片沸騰,一些媒體稱此技術可以「突破ASML的壟斷」、「中國芯取得重大進展」,「中國不需要EUV光刻機就能製作出5納米製程的晶片」。該論文的通訊作者、中科院研究員、博士生導師劉前告訴《財經》記者,這是一個誤讀,這一技術與極紫外光刻技術是兩回事。
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國產光刻機背後的希望
儘管如此,提起中國可量產的光刻機已被卡在90nm製程4年,這個時間跨度仍令人心驚。2007年,中國光刻機龍頭企業上海微電子宣布突破365nm光波長的DUV光刻技術,該技術可用於90nm晶片製程的生產。2016年,上海微電子SSX600系列的三款步進掃描投影光刻機實現量產,其中SSA600/20光刻機解析度達到90nm。
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國產光刻機突破22納米,差距還很大,為啥科研人員如此興奮?
在這個節骨眼上,偏偏美國又開始歇斯底裡的打擊中國科技企業,企圖拖慢整個中國的半導體領域發展進程,因此我們很著急,我國何時才能突破晶片的技術封鎖呢? 的光刻機。 國產光刻機突破22納米,差距還很大,為啥科研人員如此興奮?
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中國全力開發「冰刻2.0」技術,能否助力打破光刻機技術封鎖
為了突破美國的技術封鎖,中國政府和企業開始積極應對,在國內尋找和研發各種替代技術及產品。其中生產半導體的核心光刻技術,更是重中之重。而中國西湖大學的光學工程教授仇旻所領導的團隊,正在全力研發被稱為「冰刻2.0」的微納工藝技術,有可能助力打破光刻機技術封鎖。
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號稱「比兩彈一星還高端的光刻機」,到底難在哪裡?
>可以理解到底有多賺錢了這期我們詳細講一下光刻機的技術難點光刻機到底在「刻」什麼?「投影」的核心是造一個放大的模子再把線路與功能區「印進」晶圓之中照相機拍攝的照片是印在底片上而光刻刻的不是照片是電路圖和其他電子元件光刻第一步就是在晶圓表面塗一層光刻膠再用光線透過掩膜去照射下面的晶圓被光線照射到的光刻膠會發生反應圖案就轉移到了光刻膠上光刻完成後對沒有光刻膠保護的部分進行刻蝕
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中國為何造不出光刻機?主要是這個原因
光刻機的精準度能達到什麼級別呢?它可以在頭髮絲上雕琢高樓大廈,可以將《三國演義》上下冊100多萬字輕鬆刻在0.1mmX0.1mm基底上,相當於兩架大飛機從起飛到降落,始終齊頭並進。毫不誇張的說,光刻機不僅是人類科技發展至今的頂級成果,也是全球科技的結晶,所以那些叫囂著中國自己做的人可以閉嘴了,以一國敵全球,高下立判,即使中國傾盡全力,也只是一個追趕者,所以融入全球,哪怕是再困難,受再多委屈也要去做。第一部電腦有多大你知道嗎?法拉第切割磁感線發電。從此開啟了電氣化的發展。
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中科院設置騙局,光刻機作為誘餌,中國芯突破物理定義!
光刻機到底有多重要?要知道想做出晶片,光刻機是不可或缺的裝備,而且這種裝備也不是說你有錢就一定能買到的。所以我國就面臨著光刻機的供應問題,而荷蘭ASML公司是光刻機公司中的世界巨頭,世界上叫的出名號的光刻機幾乎都是由ASML公司研發的,可以說整個國際市場中都有他們生產的光刻機的身影。巧的的是我們無法獲得ASML的支持。
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光刻機是什麼?為什麼荷蘭的最流弊
光刻機,被稱為現代光學工業之花,製造難度非常大,全世界只有少數幾家公司能夠製造。其售價高達7000萬美金。用於生產晶片的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
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給我們全套圖紙,中國人都造不出高端光刻機?!
舉個最典型的例子,上海微電子這邊剛傳出28nm光刻機取得突破,那邊阿斯麥就立刻降價甩貨同代和上代光刻機,搶佔中國市場,擠壓上海微電子的市場空間。或許有人會說,EUV光刻機並不是當前必需的。常被拿來佐證這一觀點的案例是,中芯國際N+1、N+2代工藝都不會使用到EUV工藝,臺積電也是在第三代7nm工藝才開始引入EUV。
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看中芯國際突破技術壁壘!光刻機問題仍然需要被解決
看中芯國際突破技術壁壘!光刻機問題仍然需要被解決在生產晶片四個主要的步驟中,設計和製造最為重要,沒有設計與製造,其他都是空談。可以說是晶片設計的本質了,而在晶片製造中,光刻機又是必不可少的,可以說光刻機是製造過程中最為關鍵的一環。