英特爾10 nm工藝引入全新電晶體技術,和7 nm打成平手

2020-12-13 科技S評

雖然英特爾在推進工藝製程升級的道路上進展緩慢,長期停留在14 nm節點上,被消費者批評創新乏力,但有一點英特爾做得不錯,就是不在工藝製程的描述上玩數字遊戲,英特爾這方面表現是強於其它晶片代工廠的。

最近英特爾終於帶來了一些好消息,除了下一代(第11代)酷睿處理器的工藝製程全面進軍10 nm節點以外,英特爾還將在10 nm工藝製程中加入全新的「SuperFin」電晶體。基於這一新技術生產的第11代酷睿處理器,相較於同樣是10 nm工藝製程的部分第十代酷睿處理器,性能取得了大幅度提升,幾乎可以等效於7 nm工藝製程的水平。

這項「SuperFin」技術能夠提供增強的外延源極/漏極、改進的柵極工藝和額外的柵極間距,並結合其它方面的改進共同達到增強性能的目的。英特爾首席架構師Raja Koduri表示:「這是一項行業內領先的技術,領先於其他晶片製造商的現有能力。」

據悉10 nm SuperFin技術將用在代號為「Tiger Lake」的英特爾第11代酷睿處理器上,這一代處理器將於今年的假日季上市,按照慣例應該會率先推出第11代酷睿移動處理器。

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  • 如果intel也造假,將10nm說成7nm,7nm說成5nm,會被人發現麼?
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