由於美國修改了晶片行業的管理條例，臺積電、三星等國際一流的晶片代工企業，已經不能夠像之前一樣自由出貨。
這對於全球半導體產業鏈而言，也是一次非常大的打擊。國際半導體協會（SEMI）就曾對美國發出警告，表示限制半導體企業的自由出貨，會導致全球半導體行業損失近1700億美元。
華為事件成功引起了國內半導體產業，對晶片製造技術的重視、為了儘快擺脫晶片製造技術上的「僵局」，中科院白院長對外界宣布，將會布局光刻機等尖端製造技術領域，進行技術上的攻關。
但在晶片的生產過程中，最關鍵的設備光刻機，目前國內依舊無法在短期內進行替代。
根據相關資料顯示：目前國產光刻機最先進的設備，是來自於上海微電子公司所生產的28納米光刻機，預計將在2021年底進行交付。無論是製程精度，還是在晶片的量產能力上，國產光刻機距離世界一流依舊有很長的路要走。
尤其是在晶片進入7納米以下領域之後，想要對晶片進行光刻，就必須要使用EUV（極紫外）光刻機。而中國企業，向ASML公司訂購的EUV光刻機設備，卻由於種種原因遲遲不能夠發貨。
蔣尚義就光刻機表態
根據中芯發布的消息，12月15日，蔣尚義被任命為董事會副董事長、第二類執行董事及戰略委員會成員。
12月17日，有國內消息人士稱，蔣尚義對EUV光刻機進行了表態。並透漏將在其幫助下，這家中國的晶片巨頭，正在與ASML公司就EUV光刻設備進行談判。
事關國產5納米晶片
此前，中芯梁孟松就曾發布聲明，表示國產晶片目前已經在向7納米領域邁進。預計將在2021年的4月份，投入7納米的風險量產。
想要生產出精度在5納米的晶片，目前而言，就必須需要藉助EUV光刻機才能夠實現。從最新的消息來看，中芯已經開始著手EUV光刻機的供應問題。
儘管目前ASML在法律上，不受到某些特殊的約束條件影響。但ASML公司，仍對出貨某些特定企業EUV光刻機存在顧慮。
EUV光刻機，直接關乎到了國產5納米晶片製造技術節點的推進速度，如果沒有EUV光刻機進行理論驗證，國產晶片的製造技術短期內依舊只能夠在7納米階段進行徘徊。
目前來看，AMSL是有意向中國企業，出售更加先進的光刻機系統的，從此前該公司宣布對中國企業，出貨DUV光刻系統的態度中就能夠看出。ASML對於中國市場，依舊十分重視。
寫在最後
現如今，中芯再度與ASML談判EUV光刻機的相關事宜，相信在不久之後事件會迎來一定的轉機。其中，最主要的原因就是我國中科院，已經開始對高端光刻機產品展開布局。
如果ASML，遲遲不肯出貨EUV光刻機給國內企業，那麼就如比爾蓋茨所說，中國晶片將會完全自給自足。屆時，損失最大的反而會是ASLM自身，如今不僅是7納米晶片，在第三代半導體技術上，中科院還研發出了石墨烯晶圓。
解決高端晶片製造問題，並不是只有一條路可以走。即便沒有EUV光刻機，在2030年之前，國內晶片製造業也會逐步完成獨立自主。
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