折射率建模

2021-03-01 光學資訊

     在OpticStudio中進行公差處理時,重要的是要考慮到單個組件的製造缺陷以及裝配級對準誤差。關鍵組件製造錯誤之一是考慮到折射率和阿貝數的微小變化。使用公差數據編輯器中的TABB和TIND操作數對其進行建模。TABB(和TIND)操作數在靈敏度分析和蒙特卡羅運行中被建模為「材料求解偏移」。此偏移是為587.6nm波長定義的,但是每個波長將具有稍微不同的偏移,這將影響色散曲線的整個形狀。對於折射率偏移,色散曲線將針對每個波長單調移動。對於阿貝偏移量,色散曲線將繞587nm左右的點旋轉(標稱曲線和偏移曲線之間的交點將略有偏移,因為對於阿貝數定義來說d線不完全是f線和c線的中間線)。對於阿貝數,定義為:

 

 

 

如果Vd增加,則分母將不得不減小(Δn_FC變小,曲線將變平),如果Vd減小,則分母將不得不增加(Δn_FC變大,曲線將變陡)。以下通用圖顯示了N-BK7的正常色散(藍色),阿貝偏移量為+10(綠色)和折射率偏移量為+0.0025(紅色):

 

 

 

請注意,「材料求解方案」只能應用於所用波長在0.3到2.5微米之間的系統,並且被抵消的特定材料的目錄中的色散數據必須在0.4861327到0.6562725微米的範圍內。如果不滿足此波段標準,則將折射率偏移量添加到所有基本折射率值,並忽略阿貝偏移量。

 

文章來自Zemax高級光學和測試工程師Michael Humphreys

 

按閱讀原文可以獲得有N-BK7以及折射率和阿貝偏移量的ZAR文件。

提取碼:6666

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