光刻機，想必已經不用我們再多贅述，大家也都知道了光刻機對於晶片產業的重要性，尤其是對於採用先進工藝的晶片更是如此。
用之前中科院院長的話說，光刻機是被列為「卡脖子」清單中的成員。當然並不是說我們在國產方面沒有自己的光刻機，只是在先進工藝上，目前還沒有做到國產化。
所以前段時間我們就看到，中科院表示，要將一批「卡脖子」清單變為科研清單，上面也提到，光刻機赫然在列。
主要原因就在於，目前我們在晶片的設計方面，已經走到了世界的前沿，例如華為已經可以研發最為領先的5納米工藝晶片，但是在晶片製造環節沒有跟上，究其原因，還是要回歸到晶片的製造設備上。
雖然這不是所有的原因，但可以歸因為主要原因，關鍵在於，其中還涉及到一些核心的半導體原材料，例如光刻膠，有了EUV光刻機，也需要有配套的EUV光刻膠才能生產先進工藝晶片，但從排序上，還是要先有EUV光刻機才行。
中科院入局光刻機產業，可以說是對國產光刻機走向高端化，起到了一個催化劑的作用，但我們常說，人多力量大，更多的參與者進入，無疑更能起到催化效果。
現在我們就看到了這樣的好消息，近日上海金橋金海園正式開園，在這次活動中，集中簽約了一批旨在突破「卡脖子」的重點項目，其中光刻機項目就是其中之一。
在這次籤約中，我們也看到了華為的身影，其中圍繞光刻機項目的上海圖雙顯然更能映入我們的眼帘。
上海圖雙計劃在金橋68號地塊進行投資建設，一期投資1億元，主要用於光刻機、刻蝕機的再製造和研發項目。
對於再製造方面，可能大家還不是很了解，簡單來說，就是對二手光刻機進行翻新改造，目前上海圖雙已經成功地對尼康、ASML所生產的光刻機，進行了翻新改造和安裝調試。
儘管是對二手光刻機進行翻新改造，但顯然如果沒有一定的光刻機技術實力，也難以駕馭這樣的工程。
事實上，上海圖雙也具備一定的光刻工藝優化和技術支持，而且我們翻看上面提到的新項目，其中就赫然寫到會有光刻機的研發。
所以上海圖雙也算是光刻機領域的一員猛將，這無疑會增強國產光刻機的研發實力。
其實我們現在來看，國產光刻機的研發主力並不多，除了我們已經提到的中科院和上海圖雙，基本也就集中在上海微電子、中國電子科技集團公司第四十五研究所和開始走向攻堅「根」技術的華為。
所以每一個新成員的加入，都是一股可以期待的新生力量，都是對國產光刻機產業的有力支持。
我們雖然作為追趕者，但是也有有利的一面，根據目前市場領先者的經驗，我們往往可以少走很多彎路，現在來看，在先進光刻機的研發上，主要的難點，在於攻破光源、光源功率、鏡頭等環節。
例如在光源上，最初可以選擇的備選光源並不只有EUV，但經過兩百多個行業專家論證後，肯定了EUV作為下一代光源的地位。
還有現在的ASML，雖然其已經可以生產EUV光刻機，但關鍵點在於如何提升生產效率，其中光源功率就是一個決定性的因素。
這些都是我們可以借鑑的寶貴經驗，而且我們也不排除，後續還會有新面孔出現，所以我們拭目以待。