中國也有2nm晶片？中科院取得突破性進展，現在只缺光刻機！
2020-04-24 崛起吧大國科技中國也有2nm晶片？中科院取得突破性進展，現在只缺光刻機！由於歷史原因，晶片研發上的落後一直是我國的心病，近年來，隨著華為公司的崛起，我國終於實現了晶片領域上的零突破，而近日，又有一個重磅消息，傳來，那就是在5nm晶片還未普及之時，中科院製造出了2nm晶片！據悉，此次被研發出的2nm晶片名為「垂直納米環珊電晶體」，這種晶片由三種物質構成，所以又叫做矽-石墨烯-鍺基片。眾所周知，傳統的晶片都是由矽材料製成的，而這次中科院可謂是完成了一次創新。
雖然中科院研發出了2nm晶片，然而遺憾的是，2nm晶片並不能投入量產，更不能用於手機等智能設備，為什麼呢？原來，我國並沒有能夠大量生產這種晶片的設備，尤其是光刻機。近段時間，光刻機的話題可謂是一直熱議不斷，據悉，中芯國際在2018年就像荷蘭ASML公司訂購了兩臺光刻機，其中包括一臺支持7nmEUV工藝的光刻機，而直至今日，這兩臺光刻機仍不見蹤影，這就大大阻礙了我國晶片工藝的發展，再者，就算是我們獲得了EUV光刻機，可能也製造不出2nm晶片，因為2nm晶片對精度的要求實在是太嚴格了，就連荷蘭ASML公司的2nm光刻機也還在測試階段。
不得不說，這次中科院是有點太「超前」了，不要說我國了，就算是國外也難以生產出支持2nm晶片的光刻機，但這並不代表2nm晶片是不可能的。此前，有傳聞稱中芯國際已經攻克了7nm技術，最重要的是，在沒有荷蘭ASML公司EUV光刻機的情況下，中芯國際研發的N+1工藝就能夠生產出高性能晶片，據該公司CEO梁孟松透露，目前這種工藝還處於測試階段，預計在今年年底正式投產。
說到這裡，我們實在不得不感嘆，沒有什麼是中國辦不到的，在沒有EUV光刻機的情況下，中國實現了7nm晶片的突破，那麼接下來5nm晶片、2nm晶片還會遙遠的嗎？眼下擺在面前的有兩條路，一是在荷蘭ASML公司研發出2nm光刻機時，立刻採購回來，不過這就要看美國同不同意了。二是繼續走自己的道路，加大光刻機研發投入，同時研究新的晶片工藝，相信在科學家們的努力下，「中國芯」也會有揚眉吐氣的一天。
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中科院研發出2nm晶片,萬事俱備,只缺2nm光刻機!
中科院研發出2nm晶片，萬事俱備，只缺2nm光刻機！晶片行業一直都是我國的軟肋，尤其是在晶片的製造工藝上，這麼多年來我國也沒有取得多大的進展，原因是我國缺乏製造晶片的必要設備——光刻機。近段時間，中科院宣布了一條重磅消息，在科學家們的不斷努力下，我們終於在晶片領域取得了重大突破，那就是一款2nm的超高精度晶片誕生了，據悉，這款晶片的全稱叫做垂直納米環珊電晶體，由矽-石墨烯-鍺基片這三種材料組成。 -
中科院成功研發2nm晶片!現在是萬事俱備,只欠2nm的光刻機!
現在智能時代的到來，對更加精密的晶片需求越來越大，然而我國卻無法完成正常的生產製造，很多的中國企業的晶片製造都是依賴外界來完成。其實，我們的技術是完全可以實現突破的，但是被卡在了晶片的製造上面，因為晶片的製造是需要專門的設備來完成的，也就是所說的光刻機，如果過不採用光刻機來完成，製造的精度是達不到要求的。 -
中科院正式確認,晶片設計突破2nm,但光刻機才是關鍵
重磅好消息傳來，中科院攻克晶片，2nm晶片突破瓶頸，榮獲全球第一。：在中科院眾多院士的不懈努力下，我國自主研發的晶片技術在關鍵技術上有了重大突破，晶片設計突破2nm。臺積電目前也只能5nm工藝製程生產，中芯國際也只能14nm的製程工藝，中科院突然發力，突破2nm技術這給我們的中國科技帶來春天。雖然我們在晶片突破了2nm技術，但是晶片能夠得到量產還有最大的因素那就是光刻機設備。 -
中科院突然宣布,晶片設計突破2nm,量產卻受制於光刻機
2nm晶片的設計技術又能怎麼樣，沒有相應的高端光刻機的支持，也造不出來晶片。 也就是說我們現在要想生產出來2nm晶片即必須需要2nm精度的高端光刻機的支持，而世界上能達到這種精度的光刻機還沒造出來 -
媒體稱中科院實現5nm晶片光刻機,傳到美國那裡就是「笑話」
這幾天，科技界被中科院蘇州納米所的5nm雷射直寫光刻設備刷屏了。媒體解讀也不少，譬如稱「中國彎半導體道超車」、「光刻機突破美國封鎖」、「荷蘭ASML EUV光刻機白菜價」。看似華麗轉身，實際還需要媒體用點心，不然傳到美國那裡會被當成「笑話」的。 -
中科院突然宣布晶片設計突破2nm 但批量生產受到光刻機的限制
據國內媒體報導，中國科學院近日傳來好消息，中科院突破了2nm晶片的瓶頸，成功掌握了2nm晶片的設計技術。只要機器就位，2nm晶片就可以批量生產。好消息的傳來，讓國內科技企業大呼過氣。要知道，沒有一個國家掌握了2nm晶片的技術。中國科學院這次走在世界前列。 -
中科院的5nm光刻技術,和ASML的5nm光刻機是兩碼事
但重要的是當晶片進入到7nm時，必須要用到EUV光刻機，即紫外線光刻機，波長為19.3nm的光源，這種光刻機只有ASML能夠製造，而中國芯要實現7nm或以下技術，就得看ASML的臉色，要看對方賣不賣EUV光刻機給你。 -
中科院首創2nm晶片關鍵技術,還需要依賴光刻機嗎?今天算明白了
中科院首創2nm晶片關鍵技術，還需要依賴光刻機嗎？然而一年多來，我國國產晶片的發展之路，可謂是一波三折，在美國的重重阻礙之下，再次卡在了先進高端光刻機這一環節。如今我國中科院提出了其首創的2納米晶片的關鍵技術，這一生產技還需要用到光刻機嗎？中國晶片是否能夠藉此迎來新的轉機，接下來我們就為大家一一揭曉。 -
取得突破!中國成功研發出2納米晶片,光刻機的技術何時能突破
為了能夠在這方面有更好的一些嘗試，我國也在做著不同方面的努力，在我國這麼多的一些努力當中，其實最讓大家擔心的就是在晶片製造領域的發展。畢竟這一領域的技術發展是非常重要的，要是沒有這方面的能力的話，是很難以繼續往前進，而現在我國在這方面投入的也是比較多的，現在又獲得了比較好的成效，一起來看一看吧。 -
中科院公開發聲:打破ASML5nm光刻機壟斷,這是誤讀
一臺光刻機10萬個零部件，普通的汽車也只有幾千個零部件。相差的不是一點兩點，尤其是高端EUV光刻機，ASML每年的產量都十分有限。用EUV光刻機才能夠製造5nm晶片，所以一臺5nm光刻機的重要性不言而喻。聯繫到中科院要布局光刻機，把光刻機，晶片等技術列為科研清單，讓國內一眾民眾歡呼雀躍。 -
中科院突破5nm光刻技術壟斷？事實殘酷卻又是把雙刃劍
（記者 陳洲）這半年來，關於中科院「突破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」的消息刷爆了自媒體圈。然而，情況真是這樣嗎？《財經》新媒體近日的報導道出了事實真相：今年7月，中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文，介紹了該團隊研發的新型5 納米超高精度雷射光刻加工方法。 -
中科院突破5nm光刻技術壟斷?事實殘酷卻又是把雙刃劍
中科院突破5nm光刻技術壟斷？「突破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」的消息刷爆了自媒體圈。中科院研發的5nm超高精度雷射光刻加工方法的主要用途是製作光掩模，因為目前國內製作的掩模板主要是中低端的，裝備材料和技術大多來自國外。消息一出，網友熱情開始冷卻，但此事其實是把雙刃劍，一方面，5nm晶片設備的掣肘依然存在；另一方面，最少說明我們在5nm相關的光刻領域又前進了一步，一口氣吃不成胖子，腳踏實地才能在5G時代打造出100%的國產晶片。 -
中科院成功掌握2nm晶片技術,量產卻受制於光刻機!
在現在發展之下一下，有好的技術進展其實是更加重要的，尤其是在一些科技發展，但是我們在這方面有是有所欠缺的，所以現在需要花費更多的時間去彌補，不在早期的發展過程當中，我們專注於經濟，往往會忽略了在科技方面的發展。 -
「5 nm光刻技術」被誤讀,中科院研究者講訴真相
圖截自ACS官網消息一經發出，外界一片沸騰，一些媒體稱此技術可以「突破ASML的壟斷」、「中國芯取得重大進展」，「中國不需要EUV光刻機就能製作出5 nm製程的晶片」。 該論文的通訊作者、中科院研究員、博士生導師劉前告訴《財經》記者，這是一個誤讀，這一技術與極紫外光刻技術是兩回事。 -
中科院5nm雷射光刻,是否意味可以取代荷蘭的ASML光刻機?
中科院的5nm雷射光刻，是否意味著擺脫了EUV？眾所周知，半導體製造領域，要想生產5nm晶片，必須要使用荷蘭ASML的EUV光刻機，而荷蘭的ASML是全球唯一的能夠量產EUV光刻機的公司，我國大陸至今沒有一臺EUV光刻機，可以說是一項「卡脖子」的技術。 -
中科院首創2納米晶片關鍵技術,還要依賴光刻機嗎?
晶片是當前中國技術領域的熱議話題，在美國的一再幹擾以及中國企業的團結努力下，我國晶片技術的發展可謂一波三折，時而讓人憂慮，時而讓人振奮。那麼如今中國晶片技術究竟發展到了哪一程度，有消息稱中科院首創了2納米晶片的關鍵技術，這一技術在生產過程中是否還要依賴先進的高端光刻機，中國晶片是否就此迎來轉機，今天我們要為大家一一揭秘。中國晶片的發展與幾大企業密切相關，首先此次晶片危機事件的主角，同時也是我國優秀的晶片研發企業的華為。 -
取得突破！中科院放話攻克光刻機，未來中國晶片或不再受制於人
我相信只要是對於我國光刻機或者是晶片，有一定了解的人，都知道我們的晶片現在面臨著一個特別嚴重的問題，那就是受到了其他國家的限制，我們現在能夠研製出特別先進的晶片，但是我們卻不能夠將它生產出來，其最主要的原因是我們缺乏了將它生產出來的技術。 -
中科院與華為舉行座談,將光刻機等「卡脖子」問題作為科研任務
YlsEETC-電子工程專輯國內目前最知名的光刻機企業是上海微電子（SMEE），據其官網介紹，SSX600 和 SSX500 是他們主打的兩個系列。其中，SSX600 系列可滿足 IC 前道製造 90nm、110nm、280nm 關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求，該設備可用於 8吋線或 12 吋線的大規模工業生產。 -
ASML正式官宣,1nm光刻機設計完成,說好的摩爾定律呢?
光刻機這一高尖端設備，本應距離我們的日常生活很遠，但因為華為的遭遇，讓很多人開始關注起了現在的光刻機設備進展，而且除了關注國內光刻機的發展外，國外光刻機巨頭的動向也格外引人注意。但很顯然，事情並沒有朝著預想的方向發展，目前最新的5nm晶片製程已經成功應用，實現量產，臺積電前段時間也正式官宣2nm工藝取得重大突破，未來幾年有望實現生產。甚至光刻機巨頭ASML近日也傳來了最新消息，1nm NA EUV光刻機已經完成設計，有望在2022年實現商用。