好消息!中科院突然宣布,晶片設計突破2nm,量產卻受制於光刻機

2020-12-03 騰訊網

中科院突然宣布

隨著川普和美國政府對華為公司的制裁全面升級，國內的科技發展也到了危急時刻，我們只有不斷地突破自己，突破國外的技術封鎖才能掌握一定的主動權，並且在科技之爭中取得領先！

目前美國對華為的限制主要在於晶片方面，華為的全球晶片供應鏈遭到了全面的封鎖，也就是說華為日後可能無法再從國外進口晶片了，這也意味著未來國內想要進口晶片更是難上加難。

所以對於華為和國內科技來說，現在最重要的就是大力發展晶片技術，只有具備了不落後於美國的技術，才能在即將到來的危機中生存下去，否則的話將會面臨毀滅性的災難！

其實在晶片設計方面，我們國內並不落後於國外。目前華為已經能夠設計出高端的7nm甚至是5nm晶片了，在這上面早就追上了那些老牌晶片巨頭，而華為海思最近更是名列全球半導體公司前十強。

這些都意味著國內在設計晶片方面取得了巨大的突破，改變了當初遠遠落後的局面。不僅如此，我們還能不藉助國外技術獨立自主地設計出晶片，這也是我們取得的進步！可以說，我們國內在設計晶片方面不但沒有落後，甚至還有所領先！

近日，中科院的研究人員表示已經突破了設計2nm晶片的瓶頸，成功地掌握了設計2nm晶片的技術，只要機器到位，就能實現量產。

這個消息對於國內嚴峻的情況而言是一件好事，因為在設計晶片上取得的進步也是在半導體研究上取得的進步，並且這一次我們設計晶片的水平可是站到了世界第一的位置。

很多人都表示很看好這些研究人員，希望他們繼續努力；但是也有很多人對這個消息並不看好，他們認為就算掌握了2nm晶片的設計技術又能怎麼樣，沒有相應的高端光刻機的支持，也造不出來晶片。

光刻機的限制

誠然，這部分人說出了目前國內晶片技術面臨的最大難題，那就是缺少高端光刻機的支持。光刻機是生產晶片時必備的機器，沒有光刻機就無法生產出晶片，甚至是高端晶片需要更高端光刻機的支持。

也就是說我們現在要想生產出來2nm晶片即必須需要2nm精度的高端光刻機的支持，而世界上能達到這種精度的光刻機還沒造出來。目前光刻機技術最先進的是荷蘭的ASML公司，但是最高精度也才5nm。

所以說即使我們國內突破了2nm晶片設計技術，但是由於光刻機技術的落後，根本就無法生產出來2nm晶片，更別說量產和投入使用了。國內對光刻機的研究已經是進展很快了，目前已經突破了14nm技術，可惜距離2nm還是遙遙無期！

但是我們也不能因此氣餒，首先掌握2nm晶片設計技術對於國內肯定是一個好消息，而且這也不是誰都能掌握的；其次，雖然現在的光刻機無法造出2nm晶片，但是只要我們慢慢發展，總有一天可以完成技術突破的。

總結

總的來說，中科院宣布突破2nm晶片設計技術的消息對於華為和國內都是一個好消息，這證明了我們國內在半導體技術上並不弱於人，同時也能能促進國內光刻機的研發，為國內晶片事業帶來了積極影響！

對於國內晶片設計技術突破2nm，你們怎麼看呢？你們覺得未來我們國家的光刻機能達到2nm技術嗎？

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