事關晶片的兩個好消息,光刻機和蝕刻機突破,高通蘋果或被限制

2020-12-03 科技的fan

01晶片現狀

晶片製造是一個國家工業實力和科技水平的集中體現，涉及各領域前沿知識，對工藝和設備有著極高要求

隨著生活水平提高，晶片被廣泛應用於工業產品中，但是在晶片製造方面，我國始終與全球一線行列的國家有些差距，主要原因是光刻機和蝕刻機的限制

不過，在我國企業不斷探索前進中，這樣的情況逐漸被改善，最近就傳來兩個關於晶片製造的好消息，讓國產自主晶片製造有了一定程度的底氣，讓國外晶片製造企業緊張起來

025nm蝕刻機成功量產

根據相關報導，中微半導體公司在最近打破技術限制，成功實現量產5nm蝕刻機，很大程度上鼓舞了我國晶片製造士氣，畢竟這是國產自主高端蝕刻機首次走上國際舞臺，並且已經驗證通過臺積電的運行測試，將會在未來一段時間裡投放到實際生產線中，這次可不是嘴上說說而已，中微半導體要來真的

值得一提的是，中微半導體成立時間僅僅只有不到16年，就把國產光刻機技術帶到了全球一線行列，要知道十幾年前，我國半導體領域還是一片空白，當時的處境如同我國通信領域一般，在行業內基本沒有聲音，而中微半導體硬生生將蝕刻機技術拔高一大截，打出了國產製造的名號

03蘋果和高通或被限制

隨著中微5nm光刻機進入臺積電供應鏈，國產晶片製造企業也在國際上開始有了話語權，蘋果和高通的下一代移動晶片都在向著5nm製程挺進，這就不可避免要採用中微5nm光刻機生產，對於美國而言，這可不是一個好消息

前段時間，川普準備通過「外國直接產品規則」，利用美國技術設備幹預華為和全球企業的合作關係，從而達到斷供華為全球晶片供應鏈的目的，但估計川普也沒想到國產蝕刻機會在這個關鍵時刻突破，還得到臺積電的訂單，必要的時候，也可以效仿美國，採取類似的手段對高通和蘋果也來一次「卡脖子」

04光刻機核心技術突破

另一個消息是，清華大學和華卓精科公司正式宣布，歷時五年，聯手研發的國產自主幹式雙工件臺產品通過測試，這也是自荷蘭ASML之後，全球第二個掌握雙工件臺技術，畢竟工件臺是光刻機的核心主體，也是光刻機技術的重點和難點

這也意味著，國產自主的65nm的光刻機終於要來了，或許很多人有所不解，中微蝕刻機突破已經5nm,為何蝕刻機才65nm的製程，其實光刻機的製造難度遠遠超過蝕刻機

在光刻機領域，荷蘭AMSL公司一家獨大，主要原因在於光刻機技術沒有所謂的彎道超車，必須一步步來，65nm，28nm、14nm和7nm，甚至以後有可能出現的3nm，就像闖關遊戲，只有打破當前技術節點，才能繼續往前，而這個過程技術沉澱尤為重要

光刻機製造過程，不僅僅對於零配件的精度要求高，沒有一個國家和企業獨立完成製造，ASML也不行，其設計組裝更是複雜到難以想像的程度，難怪ASML能夠在高端光刻機領域一家獨大，甚至放出狠話，即便拿出全套圖紙，也造不出光刻機來，對於零配件的精度和技術要求是目前難以逾越的鴻溝

05最後

不難看出，隨著時間沉澱，中國科技企業不斷壯大，在相關領域的話語權也在不斷提高，這是一個非常好的情況

但是，也應該警惕所謂的「彎道超車」，技術需要沉澱，打好地基，高樓才能經得住風吹雨打

還是老生常談的話題，掌握核心技術才能站得穩，而晶片製造需要整個工業體系的進步，這就需要更多的人才的投入，說到底技術競爭最後還是人才的競爭

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  • 蝕刻機和光刻機的區別
    打開APP 蝕刻機和光刻機的區別 姚遠香 發表於 2019-03-14 14:15:31 　　最近光刻機和蝕刻機一直都是當前最熱的話題，可以說光刻機是晶片製造的魂，蝕刻機是晶片製造的魄，要想製造高端的晶片，這兩個東西都必須頂尖。
  • 生產晶片用的蝕刻機和光刻機有什麼區別?
    【每日科技網】　　光刻機和蝕刻機都是在生產現代大規模集成電路(晶片就是)過程中必不可少的設備，兩者之間差別比較大，且聽我細細講來。　　什麼是光刻機?什麼是蝕刻機?
  • 有人說我國光刻機突破5nm製程,實際是沒搞懂光刻機和蝕刻機區別
    一直到現在，還有人認為我國晶片製造設備已經突破了最尖端的技術，達到了領先的水平，在很多論壇上總是有我國突破了晶片的5nm加工製程技術的強國貼。 在光刻過程中，先在矽基上均勻塗一層光刻膠（下圖1），然後用光刻機在掩膜的幫助下對光刻膠進行曝光（下圖2），經過光照的光刻膠就可以用液體清洗掉（下圖3），這時用刻蝕機對矽基進行蝕刻（下圖4）,蝕刻之後清洗乾淨，就可以在矽基上鍍銅了（下圖5）
  • 晶片蝕刻機65nm到5nm的逆襲,為我們光刻機的發展,做了一個榜樣
    最近一段時間，光刻機開始受到了大家的普遍關注，最為根本的原因是隨著時間的推移，大家已經認識到了晶片技術在國內之所以發展受阻的最重要的原因，不是技術、不是人才、而就是因為缺乏了一臺好的光刻機。時至今日，中國國內在市場的驅使之下，正在積極探索自主研發光刻機，現在中國已經擁有了自己的光刻機，但是在nm精度上面，還需要繼續加強。其實不僅是光刻機，其實很早之前，我國的蝕刻機方面也曾經遭到一些打擊，之前在中國晶片等高科技技術飛速發展的時候，國外對中國進行蝕刻機限制出口，導致中國晶片行業受到了一定的打擊。
  • 中國晶片再次突破,5nm蝕刻工藝問世,高通、蘋果或將遭反制
    中國半導體行業起步晚，在早期即便是理論上很簡單的半導體晶片。但由於沒有光刻機等設備的輔助，國內科技廠商也不得不向國外進行進口。長達十多年的時間過去了，現如今中國終於擁有了屬於自己的一套半導體產業鏈。從華為發布的麒麟晶片來看，中國晶片的研發成果已經初具規模。
  • 蝕刻機和光刻機之間的區別,國產5nm蝕刻機取得臺積電認證
    本文引用地址：http://www.eepw.com.cn/article/202010/419329.htm乍一看光刻機和蝕刻機非常接近，但是光刻機和蝕刻機卻不能混為一談，因為蝕刻只是製造晶片其中之一的環節罷了。而刻蝕機也只是諸多晶片製造設備其中之一。下面我給大家聊一下蝕刻機。
  • 繼蝕刻機全球領先後,高能離子注入機打破壟斷!光刻機也開始合圍
    大家都知道，我國的晶片主要依賴進口，每年的晶片進口額度超過了石油，在進口商品中位列第一。世界上每生產5塊晶片，中國就買走了3塊。而晶片生產主要包括設計和製造，晶片設計我國已達到領先水平，關鍵就是製造落後。而晶片製造中設備是關鍵，其中包括光刻機、蝕刻機、離子注入機等等，這些設備我們都在研發突破，下面帶大家了解下這些設備國產化進展。
  • 光刻機VS蝕刻機:同是晶片製造機,命運分兩極
    等離子刻蝕出來的金屬板表面蝕刻機、光刻機傻傻分不清楚可能會有一部分人把蝕刻機與光刻機搞混，畢竟這倆經常一起出現，但其實它們之間還是有很大的差別的。可以說光刻機是晶片製造的魂，蝕刻機是晶片製造的魄，要想製造高端的晶片，這兩個東西都必須頂尖。
  • 除了光刻機,還有蝕刻機!國產廠商攻克5nm技術,臺積電已下單
    而關於晶片，相信大家都已經因為華為這兩年的遭遇已經基本了解，而在晶片製造中，重要的關鍵設備便是：光刻機！不過除了光刻機之外，還有一種關鍵設備，重要程度僅次於光刻機，那就是蝕刻機！為什麼這麼說呢？因為晶圓加工，也就是晶片製造行業，由於處理工序多達數百道，而各種加工的設備機器因為精密昂貴，隨便一臺就要幾千萬美金，所以如果要建設晶片加工廠，設備的投入佔比就要超過70%以上，而晶圓製造設備種，光刻機佔比最高（30%），其次是刻蝕設備（20%），PVD，CVD，量測設備次之。
  • 大圖重器再攀高峰,5nm蝕刻機正式面世,對我國半導體有什麼影響
    眾所周知，我國由於歷史原因，半導體產業發展比較落後，晶片主要依賴進口。然而經過近幾年發展，我國華為在晶片設計領域已經處於全球領先水平，華為的麒麟處理器無論在性能和功耗上面，完全不輸於高通處理器，甚至比高通處理器還要優秀！但高端晶片生產還得由臺積電代工。
  • 光刻機or蝕刻機?別再傻傻分不清了
    光刻機與蝕刻機作為晶片製造領域核心設備，在晶片製造過程中，兩者缺一不可。長期以來先進的光刻機一直被荷蘭的ASML公司壟斷，尤其是今年美國對華為實施多層次禁令後，使得光刻機熱度一直未減，而蝕刻機似乎沒有光刻機那麼受到關注，但是這兩者又好像兩兄弟一樣總是成對出現，給讀者感覺它們似乎是同一種產品，技術難度相同，傻傻分不清什麼是光刻機，什麼是蝕刻機。今天就來談一談這兩者的區別。
  • 臺積電都採購了國產5nm蝕刻機,國產光刻機要多久?
    但是荷蘭ASML公司的三大股東卻是英特爾、三星和臺積電，他們三家享有優先提貨權，而且需要用到美國的技術。相比之下，中國目前最好的的光刻機廠商，是上海微電子公司，他們的90納米光刻機已經量產，而28納米的光刻機正在緊張攻克中，預計年底拿出樣機。
  • 光刻機和蝕刻機有什麼區別?差距一目了然!
    最近中興事件作為導火索，引發了國人關於晶片討論，其中不免涉及到了晶片製造業兩大至關重要的技術，蝕刻機和光刻機，作為一個業餘愛好者，我為大家分享一下我知道的東西。什麼是光刻機光刻機作為製造晶片的核心裝備之一，因為用途的不同，分為生產晶片的光刻機，用於封裝的光刻機，還有LED領域的投影光刻機，目前主要討論的是用於生產晶片的光刻機，這也是晶片領域，我國最薄弱的環節。
  • 讓外媒臉紅,中國5nm蝕刻機被臺積電採購,或成反制美國利器!
    需要注意的是，在晶片的生產過程中，有兩樣東西是最重要的，他們分別是光刻機以及蝕刻機。如果缺少其中的一樣，那就沒法順利進行晶片的生產。經常看新聞的朋友應該知道，世界上最頂尖的光刻機，只有荷蘭的ASML公司才能研發生產。
  • 華為、高通、蘋果都離不開的光刻機究竟是什麼,一口氣帶你搞懂
    用於生產晶片的光刻機是中國在半導體設備製造上最大的短板。因為光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在塗有光刻膠的矽片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的解析度直接相關，而減小照射光源的波長是提高解析度的最有效途徑。
  • 中國科技迎來利好消息,晶片和光刻機同時發力,意外補齊華為短板
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  • 取得突破！中科院放話攻克光刻機，未來中國晶片或不再受制於人
    我相信只要是對於我國光刻機或者是晶片，有一定了解的人，都知道我們的晶片現在面臨著一個特別嚴重的問題，那就是受到了其他國家的限制，我們現在能夠研製出特別先進的晶片，但是我們卻不能夠將它生產出來，其最主要的原因是我們缺乏了將它生產出來的技術。