繼蝕刻機全球領先後,高能離子注入機打破壟斷!光刻機也開始合圍

2020-12-04 騰訊網

【科技強哥說】，全新角度，通俗易懂，為你答疑解惑，帶你了解科技！

大家都知道，我國的晶片主要依賴進口，每年的晶片進口額度超過了石油，在進口商品中位列第一。世界上每生產5塊晶片，中國就買走了3塊。而晶片生產主要包括設計和製造，晶片設計我國已達到領先水平，關鍵就是製造落後。而晶片製造中設備是關鍵，其中包括光刻機、蝕刻機、離子注入機等等，這些設備我們都在研發突破，下面帶大家了解下這些設備國產化進展。

蝕刻機已達到全球領先

光刻機是晶片製造的魂，蝕刻機是晶片製造的魄，要想製造高端晶片，這兩個設備都必須頂尖。相對光刻來說，刻蝕相對簡單，但要將精度提升到5nm，那也是相當不容易的。我國在蝕刻機領域已經突破，中微半導體的5nm蝕刻機已通過臺積電驗證，並將用於今年的5nm晶片生產。中微的5nm蝕刻機，可以說是繼華為5G之後，完全自主研發的頂尖技術。

國外曾經將蝕刻機列入禁止出售我國行列，但在中微突破之後，立即取消限制並大幅降價！現在，中微半導體可以自主生產5nm蝕刻機，達到世界領先！這一切其實都要致敬中國第一代科研人一一年近60歲的尹志堯博士，帶領眾多優秀海歸人才，回國創辦了中微半導體，在團隊對科技的不斷探索下，短短10多年的時間，就攻破了5nm蝕刻機的瓶頸，讓中國科技再一次實現了反超越！

高能離子注入機又突破

離子注入機是晶片製造中僅次於光刻機、蝕刻機的關鍵裝備。那麼離子注入機在晶片製造過程中起什麼作用呢？晶片製造時，需要摻入不同種類的元素按預定方式改變材料的電性能，這些元素以帶電離子的形式被加速至預定能量並注入至特定半導體材料中，離子注入機即是執行這一摻雜工藝的晶片製造設備。

而今天我們要介紹取得突破的是高能離子注入機，這是離子注入機中技術難度最大的機型。長久以來，因其極大的研發難度和較高的行業競爭壁壘，被稱為離子注入機領域的 「珠穆朗瑪峰」，是我國集成電路製造裝備產業鏈上亟待攻克的關鍵一環。

近日喜報傳來，新華社報導，中國電子科技集團宣布，由該集團旗下電科裝備自主研製的高能離子注入機成功，實現百萬電子伏特高能離子加速，性能達到國際先進水平。將在年底前推出首臺高能離子注入機，並可以為全球晶片製造企業提供離子注入機成套解決方案。

高端光刻機也開始合圍

光刻機是晶片製造中最關鍵的設備，而高端光刻機現在被荷蘭壟斷，也就是所說的EUV光刻機。由於我國受到《瓦森納協定》的限制，很多高端技術被封鎖，光刻機也是其中之一，再加上米國的限制，中芯國際2018年底全款訂購的一臺EUV光刻機，按計劃應於去年底到貨，到現在依然沒有！不過，我國上海微電子也很爭氣，28nm光刻機預計明年出貨，以前生產的90nm光刻機也是我國的中流砥柱，因為大部分的晶片不用那麼高精度，這樣我們的國防設備和大部分電子工業已經能夠滿足！

但我們依然在向高端EUV光刻機進軍，因為高端手機和先進的5G依然會用到。其實，我國在EUV光刻機上的技術積累已是超過20多年了，別以為今天是倉促應戰的！現在已經開始向EUV領域展開全面合圍，哈工大研發成功EUV光源，華卓精科突破雙工件臺，國旺突破光學鏡頭，極紫外光刻（EUV）關鍵技術研究在長春光機所通過驗收。這些都表明，我國的高端光刻機正在突破，造出EUV光刻機不是沒有可能！

結語：原來由於「造不如買」的錯誤認識，加上國外對我國的技術封鎖，導致我國在晶片行業的落後。直到國外的不斷「卡脖子」封鎖，我們才意識到掌握核心科技的重要。然而因為欠帳太多，並且國外已經發展多年，我們想要追趕，連市場驗證的機會都很小。現在因為米國的制裁加劇，我國晶片行業各領域迅猛發展，不斷加強自主研發，差距正在逐漸縮小，只要有信心，一切皆有可能，因為我們已攻破了太多西方認為不可能的科技了！

那麼，大家覺得我國現在的晶片行業發展的怎麼樣，有沒有信心反超越呢？

歡迎大家留言討論，喜歡的請關注【科技強哥說】，後續內容更精彩。

相關焦點

  • 繼蝕刻機全球領先後,晶片製造關鍵設備再突破!光刻機也開始合圍
    而晶片生產主要包括設計和製造，晶片設計我國已達到領先水平，關鍵就是製造落後。而晶片製造中設備是關鍵，其中包括光刻機、蝕刻機、離子注入機等等，這些設備我們都在研發突破，下面帶大家了解下這些設備國產化進展。
  • 打破技術壟斷,中國高能離子注入機取得突破,華為晶片「有救」了
    導讀：打破技術壟斷，中國高能離子注入機取得突破，華為晶片「有救」了？眾所周知，隨著科技的快速發展，如今我們對半導體晶片的依賴程度已經越來越高了，無論是我們現在使用的智慧型手機，電腦還是人工智慧AI技術，幾乎都離不開高端智能晶片的支持，可以說半導體晶片在整個科技領域的發展過程中起著不可替代的作用，正是因為晶片如此的重要，所以我們也要不斷的加大在晶片領域的研發才行！
  • 光刻機or蝕刻機?別再傻傻分不清了
    光刻機與蝕刻機作為晶片製造領域核心設備，在晶片製造過程中，兩者缺一不可。長期以來先進的光刻機一直被荷蘭的ASML公司壟斷，尤其是今年美國對華為實施多層次禁令後，使得光刻機熱度一直未減，而蝕刻機似乎沒有光刻機那麼受到關注，但是這兩者又好像兩兄弟一樣總是成對出現，給讀者感覺它們似乎是同一種產品，技術難度相同，傻傻分不清什麼是光刻機，什麼是蝕刻機。今天就來談一談這兩者的區別。
  • 臺積電都採購了國產5nm蝕刻機,國產光刻機要多久?
    相比之下，中國目前最好的的光刻機廠商，是上海微電子公司，他們的90納米光刻機已經量產，而28納米的光刻機正在緊張攻克中，預計年底拿出樣機。不過我們也不是什麼設備都被」卡脖子「。這裡就要提到晶片生產過程中，重要性僅次於光刻機的設備：蝕刻機。
  • 光刻機和蝕刻機有什麼區別?差距一目了然!
    最近中興事件作為導火索，引發了國人關於晶片討論，其中不免涉及到了晶片製造業兩大至關重要的技術，蝕刻機和光刻機，作為一個業餘愛好者，我為大家分享一下我知道的東西。什麼是光刻機光刻機作為製造晶片的核心裝備之一，因為用途的不同，分為生產晶片的光刻機，用於封裝的光刻機，還有LED領域的投影光刻機，目前主要討論的是用於生產晶片的光刻機，這也是晶片領域，我國最薄弱的環節。
  • 除了光刻機,還有蝕刻機!國產廠商攻克5nm技術,臺積電已下單
    而關於晶片，相信大家都已經因為華為這兩年的遭遇已經基本了解，而在晶片製造中，重要的關鍵設備便是：光刻機！不過除了光刻機之外，還有一種關鍵設備，重要程度僅次於光刻機，那就是蝕刻機！為什麼這麼說呢？由於目前光刻機是被荷蘭的ASML公司以及日本的尼康及佳能壟斷。中國也有不少光刻機的廠商，例如上海微電子，中電科45所等，但是技術目前還與荷蘭ASML公司有著差距，因為國產的技術目前最高在28nm晶片，而荷蘭ASML公司已經給臺積電供貨5nm技術的EUV光刻機了。
  • 事關晶片的兩個好消息,光刻機和蝕刻機突破,高通蘋果或被限制
    025nm蝕刻機成功量產根據相關報導，中微半導體公司在最近打破技術限制，成功實現量產5nm蝕刻機，很大程度上鼓舞了我國晶片製造士氣，畢竟這是國產自主高端蝕刻機首次走上國際舞臺，並且已經驗證通過臺積電的運行測試，將會在未來一段時間裡投放到實際生產線中
  • 蝕刻機和光刻機的區別
    打開APP 蝕刻機和光刻機的區別 姚遠香 發表於 2019-03-14 14:15:31 　　最近光刻機和蝕刻機一直都是當前最熱的話題，可以說光刻機是晶片製造的魂，蝕刻機是晶片製造的魄，要想製造高端的晶片，這兩個東西都必須頂尖。
  • 突破美日技術壟斷!國產蝕刻機困境破局,對中國半導體影響有多大
    開篇提醒：本期的支線將從晶片製造的整個流程中，重點帶出「蝕刻步驟」中的尖端設備——蝕刻機，然後主線將從全球蝕刻機的市場形勢，拉回到國產蝕刻機的現狀和進度，弄清楚新生的中國蝕刻機企業，是如何突破美日老牌蝕刻大廠的技術圍堵。「蝕刻機不是光刻機、蝕刻機不是光刻機、蝕刻機不是光刻機，重要的事情說三遍。
  • 國產離子注入機拿下億元訂單,萬業企業半導體業務商業化加速
    12月1日，萬業企業在A股收盤後發布公告，宣布公司控股孫公司北京凱世通擬向公司關聯方芯成科技（紹興）出售3款12英寸離子注入機，總交易金額人民幣1億元（含13%增值稅）。萬業企業公司副總經理周偉芳表示，這是公司首個億元離子注入機訂單，有利於公司集成電路業務的進一步商業化。
  • 重要性不亞於ASML EUV光刻機,國產5nm蝕刻機被臺積電三星爭相下單
    據悉，這兩款設備就是蝕刻機和MOCVD，而且，這兩款設備與光刻機一併被稱為半導體工藝三大關鍵設備。其中，光刻機是負責「畫圖」，簡單說就是將設計好的電路圖印在矽片上，矽片越小，對光源要求越高。而蝕刻機則負責「雕刻」，光刻機將電路圖印到晶片上後，由蝕刻機通過腐蝕的方法將電路圖裡多餘的矽晶片去掉，只留下有用的電路部分。也就是說，在光刻機和蝕刻機的配合工作下，然後經過封裝，才能製造出來晶片。這意味著，生產製程越先進的晶片，不僅需要更先進的光刻機，也需要更先進的蝕刻機。
  • 生產晶片的兩個機器,光刻機和蝕刻機有哪些區別呢?
    大家應該都知道，在生產晶片的時候，有兩個大型設備，一個是光刻機，另外一個就是蝕刻機，那麼有的朋友就會問，學姐呀，什麼是光刻機，什麼是蝕刻機，它倆到底有哪些區別呢？今天學姐就跟大家好好說說哈，本期知識點很密集，大家都聽好了哈。什麼是蝕刻機呢？
  • 有人說我國光刻機突破5nm製程,實際是沒搞懂光刻機和蝕刻機區別
    在光刻過程中，先在矽基上均勻塗一層光刻膠（下圖1），然後用光刻機在掩膜的幫助下對光刻膠進行曝光（下圖2），經過光照的光刻膠就可以用液體清洗掉（下圖3），這時用刻蝕機對矽基進行蝕刻（下圖4）,蝕刻之後清洗乾淨，就可以在矽基上鍍銅了（下圖5）
  • 中科院公開發聲:打破ASML5nm光刻機壟斷,這是誤讀
    而且之前中科院網站上也發布了一篇關於「5nm光刻技術獲突破」的論文更是讓網友沉不住氣了，紛紛發布國產光刻機突破5nm，打破ASML 5nm光刻機壟斷等話題。認為中國已經能打造出能生產5nm晶片的EUV光刻機了。那事實是怎樣的呢？對此發布該篇文章的中科院研究員作出了回應，並表示這是誤讀。
  • 國產晶片又獲新突破:7nm ArF光刻膠技術,打破日本、美國壟斷
    在全球近幾十年的半導體發展中，矽基半導體，成為工業批量化生產的主要對象。要想成功生產半導體晶片，必須要經過溼洗、光刻、離子注入、幹/溼刻蝕、等離子衝洗、快速熱退火、熱氧化、化學氣相沉積、物理氣相沉積、分子束外延、電鍍處理、化學機械處理、晶圓打磨和晶圓測試等過程，完成後再封裝和成品測試。晶片的加工製造，流程複雜，標準嚴格。
  • 蝕刻機和光刻機之間的區別,國產5nm蝕刻機取得臺積電認證
    本文引用地址：http://www.eepw.com.cn/article/202010/419329.htm乍一看光刻機和蝕刻機非常接近，但是光刻機和蝕刻機卻不能混為一談，因為蝕刻只是製造晶片其中之一的環節罷了。而刻蝕機也只是諸多晶片製造設備其中之一。下面我給大家聊一下蝕刻機。
  • 國產光刻機迎來曙光,打破ASML的壟斷!用4年時間,成為全球第二
    前段時間，美國開始針對華為晶片業務進行打壓，導致臺積電無法為華為生產高精度的晶片。事實上，國產半導體企業也並非沒有可能製造出高精度的晶片，只是缺少高精度的光刻機而已。要知道，光刻機在晶片生產過程中起到非常重要的作用，但是高端光刻機一直被ASML壟斷。
  • 生產晶片用的蝕刻機和光刻機有什麼區別?
    【每日科技網】　　光刻機和蝕刻機都是在生產現代大規模集成電路(晶片就是)過程中必不可少的設備，兩者之間差別比較大，且聽我細細講來。　　什麼是光刻機?什麼是蝕刻機?
  • 中國中微造出5nm蝕刻機,已經打入臺積電供應鏈
    目前臺積電在3納米技術上已有一年多的技術積累，從側面上可以反映中微在掌握5納米技術後已經開始著手準備3納米工藝。光刻機、蝕刻機兩大設備的不同和晶片製造過程的六大重要步驟在提及晶片的設計生產時，很多人會將晶片製造的重要設備光刻機和蝕刻機混淆，其實可以從晶片生產的具體過程來將兩者區別。想要製成一枚小小的晶片，首先要從一片晶圓的製造開始。