大家好，我是學姐。大家應該都知道，在生產晶片的時候，有兩個大型設備，一個是光刻機，另外一個就是蝕刻機，那麼有的朋友就會問，學姐呀，什麼是光刻機，什麼是蝕刻機，它倆到底有哪些區別呢？今天學姐就跟大家好好說說哈，本期知識點很密集，大家都聽好了哈。
什麼是蝕刻機呢？學姐來告訴你，蝕刻機可以分為化學蝕刻機及電解蝕刻機兩種類型哈，在化學蝕刻中是使用化學溶液，經由化學反應以達到蝕刻的目的，化學蝕刻機是將材料用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。那什麼是光刻機呢？光刻機又叫曝光系統，光刻系統，簡單的說就是用光來製作一個圖形，在矽片表面勻膠，然後將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件複製到矽片上的過程。那麼它倆有哪些區別呢？
首先學姐說一下製造晶片原理用刀的兩中物質，金屬和光刻膠。首先在金屬表面覆蓋光刻膠，再用光把光刻膠蝕掉，然後是浸泡，於是沒有光刻膠部分會被侵蝕，帶光刻膠那部分就不會被侵蝕。其實這兩個過程就是光刻和蝕刻，用到的機器就是光刻機和蝕刻機，這回大家都明白了吧。
那麼有人問，那我們國家有這兩個設備嗎？首先學姐說一下，目前全世界最有影響力的晶片加工廠，有英特爾，三星，還有臺積電等。這三家晶片加工，都和一家公司有密切的關係，那就是荷蘭公司ASML。有的朋友對這個公司並不陌生，這公司專門生產刻光機，生產技術絕對是世界頂級的！就連發達的美國也無法生產刻光機，只能跟ASML合作。而日本的佳能和尼康的刻光機，也競爭不過ASML。目前ASML可以實現6、5、4、3等納米的晶片生產，據說現在已經突破到1.2nm了！
這時候咱們說一下國內的光刻機技術。雖然外面一直對咱們市場壟斷，但是咱們國內科學家一直在努力研發，終於有了好消息。那就是經過7年的艱苦努力公關，中國科學院光電技術研究所，成功研發出世界首臺分辨力最高的紫外超分辨光刻機，這個消息讓學姐很激動，咱們使用365納米波長的光即可生產22納米的工藝晶片，然後通過各種工藝技術甚至可以實現10nm以下的晶片生產啦，這個絕對是個好消息。ASML公司雖然壟斷，但是咱們依然可以通過自己的努力，慢慢縮小與世界頂級光刻機生產公司的差距。其實這是咱們晶片行業取得的最大突破，學姐感覺慢慢地中國晶片就會挑戰英特爾，臺積電和三星了，然後能更好的為咱們的華為手機和小米等國產手機服務，咱們的科技也會越來越強大！
好啦，本期光刻機和蝕刻機學姐就嘮到這裡，大家有哪些地方沒明白，隨時留言跟學姐說哈，咱們一起討論！下期見！