最近中興事件作為導火索，引發了國人關於晶片討論，其中不免涉及到了晶片製造業兩大至關重要的技術，蝕刻機和光刻機，作為一個業餘愛好者，我為大家分享一下我知道的東西。
什麼是光刻機
光刻機作為製造晶片的核心裝備之一，因為用途的不同，分為生產晶片的光刻機，用於封裝的光刻機，還有LED領域的投影光刻機，目前主要討論的是用於生產晶片的光刻機，這也是晶片領域，我國最薄弱的環節。
先了解一下光刻中必須要用的東西——光刻膠，簡單的來說這種膠狀物，只能被光腐蝕，而不能被化學物質腐蝕，製造晶片時講光刻膠塗在金屬表面，然後用光把不需要的地方腐蝕掉，製作出自己需要的圖形（電路結構之類的），接下來就該蝕刻機上場了。
什麼是蝕刻機
蝕刻分為兩類，一類是幹刻，一類是溼刻（目前主流），溼刻就是特定的化學溶液與上個部分光刻機製作後的薄膜發生反應，發生反應過後剩下的東西，就是需要的東西了，這個過程有液體接觸，所以叫溼刻。
幹刻更加高級，目前並沒有大規模應用，它是通過等離子電漿去除未覆蓋的薄膜。
光刻機 ASML一枝獨秀
以前光刻機領域還有佳能尼康制衡ASML，不過隨著技術差距越來越多，目前高端光刻機市場被ASML壟斷，7nm級別光刻機17年的產量只有12臺，一臺1.2億美元，還要提前21個月預訂，中國就算排隊，也不知道哪年買得到，背地裡還有有些國家作怪，目前國產光刻機還處於90nm階段，任重道遠。
五大蝕刻機廠商 中微是其一
目前能生產7nm級別蝕刻機的有應用材料，科林研發，東京威力科創，日立先端，中微半導體五家公司，中微是唯一一家中國企業，並且已經開始向臺積電供貨，中微也代表著中國頂尖的半導體技術。
中國半導體起步晚，需要走的路還很長，不過中國人最不缺的就是毅力，只有堅持不懈方能厚積薄發。
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