荷蘭巨頭壟斷全球,1nm光刻機取得突破,三星、臺積電迎來新機遇

2020-12-06 騰訊網

隨著工藝製程的微縮，晶片行業摩爾定律面臨物理極限，不少業內人士認為，晶片製作工藝將止步於2nm。

日前，臺積電宣布已經攻克2nm工藝技術難關，為晶片領域帶來延續摩爾定律的希望。但摩爾定律能否延續不單單依靠晶片製造廠商，還要看光刻機製造商能否實現技術突破。

放眼全球光刻機製造領域，荷蘭巨頭ASML憑藉技術和產業鏈優勢已經壟斷全球市場多年。如今，依舊只有ASML一家能夠實現高精度光刻機的量產，且這類EUV光刻機的年產量有限，這就導致無論是三星還是臺積電，都需要提前砸錢搶購。

既然ASML是目前全球最強的光刻機製造商，那麼延續摩爾定律這項任務，自然而然就被業界放在了ASML身上。而這家行業龍頭也不負眾望，日前傳來「1nm光刻機取得突破」的好消息。

11月30日日本媒體報導，IMEC公司在線上召開的一場發布會中透露，該公司會與ASML緊密合作，對下一代高解析度EUV光刻機技術——高NA EUV光刻機技術進行商業化。

同時，IMEC強調：將繼續把工藝規模縮小到1nm及以下。

筆者了解到，IMEC還在ITF Japan 2020上公布了3nm、2nm、1.5nm以及1nm以下的邏輯器件小型化路線圖。

此外，據IMEC透露，ASML已經完成了作為NXE：5000系列的高NA EUV曝光系統的基本設計，預計在2022年左右實現商業化。

資料顯示，這類高NA EUV光刻機對於接下來的2nm及以下超精細工藝的研發十分重要。而且，這套高NA EUV設備還會因為囊括巨大的光學系統，擁有更大的體積，根據路線圖中的設備與人的比例可知，高NA EUV設備很有可能會定在潔淨室的天花板下。

拋開此設備的體積不談，這類設備的面世將會為三星、臺積電或者整個半導體領域，甚至所有能夠應用到超精細工藝晶片的行業帶來新的機遇。

不過，當物理極限真正到來時，或許應該考慮新的晶片升級方向，例如材料替代。在這方面我國已經有所突破，碳基晶圓便是成就之一。

相比傳統矽基晶片，碳基晶片擁有更大潛力和特質上的優勢。雖然在光刻機和晶片製造工藝上中國大陸處於落後狀態，但藉助新材料實現彎道超車也並非不可能。

文/諦林 審核/子揚 校對/知秋

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    本文原創，請勿抄襲和搬運，違者必究0135臺EUV光刻機已經到位了解EUV光刻機的人都知道，一臺EUV光刻機價值1.2億美元，而且是有價無市。因為全球唯一能生產EUV光刻機的ASML公司，每年生產的EUV光刻機數量都十分有限。上半年ASML一共僅生產了26臺EUV光刻機，而且都被臺積電，三星等大客戶爭搶。為了得到優先供貨，三星李在鎔甚至親自趕赴荷蘭，會見ASML高層，就是希望可以得到更多的EUV光刻機。但是很顯然，要論光刻機數量和優先供貨權，三星是不如臺積電的。
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