中科院5nm雷射光刻,是否意味可以取代荷蘭的ASML光刻機?

2020-12-01 騰訊網

中科院的5nm雷射光刻，是否意味著擺脫了EUV？眾所周知，半導體製造領域，要想生產5nm晶片，必須要使用荷蘭ASML的EUV光刻機，而荷蘭的ASML是全球唯一的能夠量產EUV光刻機的公司，我國大陸至今沒有一臺EUV光刻機，可以說是一項「卡脖子」的技術。

中科院的「彎道超車」？

最近，中科院研發成功了新型的5nm超高精度雷射光刻加工方法。

光刻機最重要的指標就是光刻解析度，波長越短，數值孔徑NA越大，光刻精度就越高。荷蘭ASML的EUV光刻機，從之前的193nm波長變成了13.5nm波長的EUV極紫外光。

中科院的5nm光刻技術，採用了完全具有自主智慧財產權的雷射直寫設備，利用雷射與物質的非線性相互作用，提高了加工解析度，可以製備5nm線寬的工藝。

距離量產「任重道遠」

中科院發布了最新研究成果之後，就被各路媒體熱炒，大有取代荷蘭ASML的EUV光刻機的趨勢，然而，還是那句話，實驗室取得的技術突破，並沒有達到量產的程度。從中科院發表的論文裡，沒有提到光刻機的字眼，也沒有強調這種技術用來生產半導體晶片，這些天中科院也在闢謠，就跟兩年前的10nm光刻新聞一樣。

目前，我國最先進的光刻機是上海微電子的90nm光刻機，消息稱，上海微已經突破了26nm工藝製程的光刻機，預計明年量產。然而，距離荷蘭的AMSL EUV光刻機差距依然很大，至少有15年的差距，後者能夠生產5nm工藝的晶片。上海微電子也僅僅是系統集成商，關鍵零部件來自於外來，很多超高精密的儀器、光源、計量設備對我國是禁運的，因此，只能依賴國內供應商。

總之，光刻機已經成為一個高度壟斷的行業，荷蘭的AMSL幾乎壟斷了所有的高端光刻機市場，臺積電、三星、intel、海力士等與荷蘭的ASML形成了利益共同體。隨著，我國在光刻機領域的深入研究，必定有更多的研究成果，同時，我國在碳基晶片領域也有所突破，有望代替現在的矽基晶片。

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  • 中科院公開發聲:打破ASML5nm光刻機壟斷,這是誤讀
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  • 中科院突破5nm光刻技術壟斷?事實殘酷卻又是把雙刃劍
    「突破ASML的壟斷」、「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」的消息刷爆了自媒體圈。《財經》新媒體近日的報導道出了事實真相：今年7月，中科院蘇州所聯合國家納米中心在《納米快報》上發表了題為《超解析度雷射光刻技術製備5納米間隙電極和陣列》的研究論文，介紹了該團隊研發的新型5 納米超高精度雷射光刻加工方法。該論文的通訊作者博士生導師劉前特別強調，「不用EUV光刻機就能造成5nm晶片」是一個誤讀，超解析度雷射光刻技術與極紫外光刻技術是兩回事。
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  • 中科院立功！5nm雷射光刻研究獲進展
    【中科院立功！5nm雷射光刻研究獲進展】近日，中科院蘇州納米所張子暘團隊基於光熱反應機理，設計開發了一種新型三層堆疊薄膜結構。所開發的新型微納加工技術在集成電路、光子晶片、微機電系統等眾多微納加工領域展現了廣闊的應用前景。
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    荷蘭ASML公司是全球唯一能生產EUV光刻機的公司，他們之前表態7nm以下工藝都需要EUV光刻機才行。現在中科院蘇州納米所的團隊開發了一種新的雷射光刻技術，不需要使用EUV技術就可以製備出5nm特徵線寬。
  • 中科院研發者回應5nm光刻技術突破ASML壟斷:這是一個誤讀
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